JP2009229230A - パターン検査装置及びパターン検査方法 - Google Patents
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Abstract
【構成】パターン検査装置100は、パターン形成されたフォトマスク101の光学画像データを取得する光学画像取得部150と、フォトマスク101のパターン形成の基となる設計パターンデータを入力し、参照画像データを作成する参照回路112と、設計パターンデータに定義される少なくとも一部のパターンを包含する領域データとパターンの重要度情報とを入力し、領域データを用いて重要度情報に基づいた多値の解像度で示される画素値を有する領域画像データを作成する展開回路140と、領域画像データの各画素の画素値によって定まる複数の閾値あるいは複数の欠陥判定処理方法の1つを用いて、領域画像データが示す領域内の光学画像データと参照画像データとを画素毎に欠陥判定する比較回路108と、を備えたことを特徴とする。
【選択図】図1
Description
パターン形成された被検査試料の光学画像データを取得する光学画像取得部と、
被検査試料のパターン形成の基となる設計パターンデータを入力し、設計パターンデータに基づいて光学画像データに対応する参照画像データを作成する参照画像データ作成部と、
設計パターンデータに定義される少なくとも一部のパターンを包含する領域データとパターンの重要度情報とを入力し、領域データを用いて重要度情報に基づいた多値の解像度で示される画素値を有する領域画像データを作成する領域画像データ作成部と、
領域画像データの各画素の画素値によって定まる複数の閾値あるいは複数の欠陥判定処理方法の1つを用いて、領域画像データが示す領域内の光学画像データと参照画像データとを画素毎に欠陥判定する比較部と、
を備えたことを特徴とする。
領域画像データが示す重複する領域の画素値は、重要度が高く定義された重要度情報に基づいた多値の解像度で示される画素値が用いられると好適である。
領域画像データが示す重複する領域の画素値は、ユーザが所望する重要度に対応する情報が定義された重要度情報に基づいた多値の解像度で示される画素値が用いられると好適である。
パターン形成された被検査試料の光学画像データを取得する工程と、
被検査試料のパターン形成の基となる設計パターンデータを入力し、設計パターンデータに基づいて光学画像データに対応する参照画像データを作成する工程と、
設計パターンデータに定義される少なくとも一部のパターンを包含する領域データとパターンの重要度情報とを入力し、領域データを用いて重要度情報に基づいた多値の解像度で示される画素値を有する領域画像データを作成する工程と、
領域画像データの各画素の画素値によって定まる複数の閾値あるいは複数の欠陥判定処理方法の1つを用いて、領域画像データが示す領域内の光学画像データと参照画像データとを画素毎に欠陥判定する工程と、
を備えたことを特徴とする。
図1において、マスクやウェハ等の基板を試料として、かかる試料に形成されたパターンの欠陥を検査するパターン検査装置100は、光学画像取得部150と制御系回路160を備えている。光学画像取得部150は、XYθテーブル102、光源103、拡大光学系104、フォトダイオードアレイ105、センサ回路106、レーザ測長システム122、オートローダ130、照明光学系170を備えている。制御系回路160では、装置全体制御の機能を持つ制御計算機110が、データ伝送路となるバス120を介して、位置回路107、比較部の一例となる比較回路108、参照画像データ作成部の一例となる展開回路111及び参照回路112、領域画像データ作成部の一例となる展開回路140、オートローダ制御回路113、テーブル制御回路114、記憶装置の一例となる磁気ディスク装置109、磁気テープ装置115、フレシキブルディスク装置(FD)116、CRT117、パターンモニタ118、プリンタ119に接続されている。また、XYθテーブル102は、X軸モータ、Y軸モータ、θ軸モータにより駆動される。図1では、本実施の形態1を説明する上で必要な構成部分以外については記載を省略している。パターン検査装置100にとって、通常、必要なその他の構成が含まれることは言うまでもない。
図2において、設計者(ユーザ)が作成したCADデータ10は、例えばOASISと呼ばれる階層化されたフォーマットの設計中間データ12に変換される。設計中間データ12では、レイヤ(層)毎に製作される各フォトマスク101に形成されるパターンデータが格納される。さらに、設計中間データ12には、CADデータ10を作成した設計者によって任意に決められたマスクデータランク(MDR)情報が格納される。パターンの用途によって検査する際に求められる精度が異なるため、MDR情報にそのデータランクの識別コードとなるランクコード(重要度情報)と該当するパターンを含む領域を示すパターン領域データが格納される。設計者としては、例えば、用途としてクロックに使用されるパターンについては高感度に、用途としてダミーやシールドに使用されるパターンについては低感度に、用途として電源に使用されるパターンについては中間の感度に判定閾値を設定したいといった用途に応じた要求がある。そのため、図2において、MDR情報に、例えば、ランクコード1として、クロックパターン領域データ、ランクコード2として、電源パターン領域データ、ランクコード3として、シールドパターン領域データ、ランクコード4として、ダミーパターン領域データが定義されている。このように変換された設計中間データ12は、レイアウト解析プログラムが組み込まれた計算機によって機械的に解析処理が行なわれ、設計中間データ14が生成される。レイアウト解析プログラムによって、機械的に光近接効果補正(OPC)用パターンやその他のアシストパターンやダミーパターン等が加えられる。設計中間データ14には、設計中間データ12の内容にさらに追加されたパターンの種別(データタイプ)を識別する識別コードとなるデータタイプコード(重要度情報)と該当するパターンを含む領域を示すパターン領域データが格納される。図2において、解析結果情報には、例えば、データタイプコードAとして、OPCパターン領域データ、データタイプコードBとして、ダミーパターン領域データ、データタイプコードCとして、アシストパターン領域データ、データタイプコードDとして、コンタクトパターン領域データが定義されている。レイアウト解析プログラムによって加えられたパターンは、設計者がCADデータを作成した時点では意図していないものである。このようにして、作成された設計中間データ14が、パターン検査装置100に入力するための装置入力フォーマットである設計データ16に変換される。
図3において、パターン検査方法は、光学画像取得工程(S202)、設計パターンデータの記憶工程(S212)と、設計画像データ生成工程の一例となる展開工程(S214)、及びフィルタ処理工程(S216)と、領域データ等の記憶工程(S222)と、領域画像データ生成工程の一例となる展開工程(S224)と、比較工程(S226)という一連の工程を実施する。
被検査領域は、図4に示すように、Y方向に向かって、スキャン幅Wの短冊状の複数の検査ストライプ20に仮想的に分割され、更にその分割された各検査ストライプ20が連続的に走査されるようにXYθテーブル102の動作が制御され、X方向に移動しながら光学画像が取得される。フォトダイオードアレイ105では、図4に示されるようなスキャン幅Wの画像を連続的に入力する。そして、第1の検査ストライプ20における画像を取得した後、第2の検査ストライプ20における画像を今度は逆方向に移動しながら同様にスキャン幅Wの画像を連続的に入力する。そして、第3の検査ストライプ20における画像を取得する場合には、第2の検査ストライプ20における画像を取得する方向とは逆方向、すなわち、第1の検査ストライプ20における画像を取得した方向に移動しながら画像を取得する。このように、連続的に画像を取得していくことで、無駄な処理時間を短縮することができる。
S214において、展開工程として、展開回路111は、磁気ディスク装置109から制御計算機110を通して設計パターンデータを読み出し、読み出された被検査試料となるフォトマスク101の設計パターンデータを2値ないしは多値のイメージデータ(設計画像データ)に変換して、このイメージデータが参照回路112に送られる。
図5は、フィルタ処理を説明するための図である。
センサ回路106から得られた光学画像としての測定データは、拡大光学系104の解像特性やフォトダイオードアレイ105のアパーチャ効果等によってフィルタが作用した状態、言い換えれば連続変化するアナログ状態にあるため、画像強度(濃淡値)がデジタル値の設計側のイメージデータである設計画像データにもフィルタ処理を施すことにより、測定データに合わせることができる。このようにして光学画像と比較する参照画像を作成する。
図6において、測定データは、上述したように、比較回路108に送られる。そして、設計パターンデータは、展開回路111及び参照回路112により設計画像データに変換され、比較回路108に送られる。一方、設計パターンデータと同一フォーマットで作成されたパターン領域データと重要度情報は、設計パターンデータの変換手段とは別個の回路系統となる展開回路140により領域画像データに変換され、比較回路108に送られる。別個の回路系統となる展開回路140により領域画像データに変換することで、設計パターンデータの変換処理とパターン領域データの変換処理とを並列処理することができる。
図7において、換算テーブル30は、ランクコードと感度指定情報の相関関係、及びデータタイプコードと感度指定情報の相関関係を定義する。図7では、例えば、用途がクロックを示すランクコード1は、感度指定情報がレベル4と対応する。例えば、用途が電源を示すランクコード2は、感度指定情報がレベル2と対応する。例えば、用途がシールドを示すランクコード3は、感度指定情報がレベル1と対応する。例えば、用途がダミーを示すランクコード4は、感度指定情報がレベル1と対応する。例えば、データ種別がOPCパターンを示すデータタイプコードAは、感度指定情報がレベル1と対応する。例えば、データ種別がダミーパターンを示すデータタイプコードBは、感度指定情報がレベル1と対応する。例えば、データ種別がアシストパターンを示すデータタイプコードCは、感度指定情報がレベル1と対応する。例えば、データ種別がコンタクトパターンを示すデータタイプコードDは、感度指定情報がレベル4と対応する。ここでは、レベル値が大きいほど、高感度(判定閾値が厳しい値)となる。換算テーブル30は、磁気ディスク装置109に記憶される。
図8において、展開回路140は、展開部40、複数のパターン発生部42、及び合成部44を有している。展開部40は、パターン領域データと対応するランクコードを入力する。また、展開部40は、パターン領域データと対応するデータタイプコードを入力する。
図9において、例えば、感度指定情報がレベル1の場合、画素値が0〜7のいずれかに設定される。例えば、感度指定情報がレベル2の場合、画素値が8〜15のいずれかに設定される。例えば、感度指定情報がレベル3の場合、画素値が16〜23のいずれかに設定される。例えば、感度指定情報がレベル4の場合、画素値が24〜31のいずれかに設定される。ここでは、画素値が0〜31で定義される場合を示している。例えば、感度指定情報がレベル1の場合、画素値が0に設定される。例えば、感度指定情報がレベル2の場合、画素値が8に設定される。例えば、感度指定情報がレベル3の場合、画素値が16に設定される。例えば、感度指定情報がレベル4の場合、画素値が24に設定される。
通常パターンではパターンエッジの凹凸やピンドット欠陥などの形状欠陥が重要であることに対して、コンタクトホール形状のパターンでは、その位置精度やホール形状の寸法精度が重要になる。このため、コンタクトホールと通常パターンとでは欠陥判定方法自体も若干変更することが望ましく、この区別情報をこの関係テーブルで表現し、活用することが可能である。上述の通り、例えば画素値の下2桁は感度指定情報を反映し、100の桁は適用したい欠陥判定方法の区別を記載する。例えば100番台はコンタクトホール用の欠陥検出方法を適用したい領域、200番台はコーナーパターン用の欠陥検出方法を適用したい領域、などである。これと下2桁を併せて合成部44で合成されて検査装置内の比較判定処理に適用されるようにする。
以上の説明では、感度指定情報はパターンデータと画素寸法同一のメッシュで処理する例を示しているが、アシストパターンなど極めて細い補助パターンを記述するためには、例えばパターンデータの半分の寸法でメッシュを取り、領域画素データを取り扱う必要があるかもしれない。
図10に示すように、領域32と領域34が重複する場合、合成部44は、領域が重複する複数の領域データを合成した領域36を示す領域画像データを作成する。そして、合成部44は、設計者が設定した複数のランクコードのそれぞれに該当する異なる領域データが示す領域同士が重複する場合、次のように画素値を設定する。すなわち、合成後の領域画像データが示す重複する領域の画素値は、重要度が高く定義された重要度情報に基づいた多値の解像度で示される画素値が用いられる。すなわち、重要度情報によって指定された感度指定情報のレベル値が大きい方に合わせる。これにより厳しく検査すべき箇所を緩く検査してしまうことを防止することができる。或いは、合成部44は、解析ソフトによって付加された複数のデータタイプコードのそれぞれに該当する異なる領域データが示す領域同士が重複する場合、同様に、重複する領域の画素値は重要度が高く定義された重要度情報に基づいた多値の解像度で示される画素値が用いられる。
図1の構成では、スキャン幅Wの画素数(例えば2048画素)を同時に入射するフォトダイオードアレイ105を用いているが、これに限るものではなく、図11に示すように、XYθテーブル102をX方向に定速度で送りながら、レーザ干渉計で一定ピッチの移動を検出した毎にY方向に図示していないレーザスキャン光学装置でレーザビームをY方向に走査し、透過光を検出して所定の大きさのエリア毎に二次元画像を取得する手法を用いても構わない。
12,14 設計中間データ
16 設計データ
20 検査ストライプ
30 換算テーブル
32,34,36 領域
40 展開部
42 パターン発生部
44 合成部
100 パターン検査装置
101 フォトマスク
102 XYθテーブル
103 光源
104 拡大光学系
105 フォトダイオードアレイ
106 センサ回路
107 位置回路
108 比較回路
109 磁気ディスク装置
110 制御計算機
111,140 展開回路
112 参照回路
115 磁気テープ装置
150 光学画像取得部
Claims (5)
- パターン形成された被検査試料の光学画像データを取得する光学画像取得部と、
前記被検査試料のパターン形成の基となる設計パターンデータを入力し、前記設計パターンデータに基づいて前記光学画像データに対応する参照画像データを作成する参照画像データ作成部と、
前記設計パターンデータに定義される少なくとも一部のパターンを包含する領域データと前記パターンの重要度情報とを入力し、前記領域データを用いて前記重要度情報に基づいた多値の解像度で示される画素値を有する領域画像データを作成する領域画像データ作成部と、
前記領域画像データの各画素の画素値によって定まる複数の閾値あるいは複数の欠陥判定処理方法の1つを用いて、前記領域画像データが示す領域内の前記光学画像データと前記参照画像データとを画素毎に欠陥判定する比較部と、
を備えたことを特徴とするパターン検査装置。 - 前記領域画像データ作成部は、領域が重複する複数の領域データを入力し、領域が重複する複数の領域データを合成した領域を示す領域画像データを作成することを特徴とする請求項1記載のパターン検査装置。
- 前記領域画像データ作成部は、前記複数の領域データと共に、前記複数の領域データのいずれかと対となる複数の重要度情報を入力し、
前記領域画像データが示す重複する領域の画素値は、重要度が高く定義された重要度情報に基づいた多値の解像度で示される画素値が用いられることを特徴とする請求項2記載のパターン検査装置。 - 前記領域が重複する複数の領域データの一方の領域データと対となる重要度情報には、ユーザが所望する重要度に対応する情報が定義され、他方の領域データと対となる重要度情報には、パターン種別毎に予め設定された重要度に対応する情報が定義され、
前記領域画像データが示す重複する領域の画素値は、ユーザが所望する重要度に対応する情報が定義された重要度情報に基づいた多値の解像度で示される画素値が用いられることを特徴とする請求項2記載のパターン検査装置。 - パターン形成された被検査試料の光学画像データを取得する工程と、
前記被検査試料のパターン形成の基となる設計パターンデータを入力し、前記設計パターンデータに基づいて前記光学画像データに対応する参照画像データを作成する工程と、
前記設計パターンデータに定義される少なくとも一部のパターンを包含する領域データと前記パターンの重要度情報とを入力し、前記領域データを用いて前記重要度情報に基づいた多値の解像度で示される画素値を有する領域画像データを作成する工程と、
前記領域画像データの各画素の画素値によって定まる複数の閾値あるいは複数の欠陥判定処理方法の1つを用いて、前記領域画像データが示す領域内の前記光学画像データと前記参照画像データとを画素毎に欠陥判定する工程と、
を備えたことを特徴とするパターン検査方法。
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