JP6637375B2 - パターン検査方法及びパターン検査装置 - Google Patents
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Description
複数の図形パターンが形成された検査対象基板の検査領域の中から選択された所定のサイズの複数の小領域の光学画像のデータと、検査対象基板に複数の図形パターンを形成するための基となる設計データに基づいて複数の小領域に配置されるパターンを画像展開した展開画像のデータと、を用いて、参照画像作成用のフィルタ関数の第1の係数を演算する工程と、
複数の小領域の中から選択された基準小領域の光学画像のデータと選択された基準小領域の展開画像のデータとを用いて、参照画像作成用のフィルタ関数の第2の係数を演算する工程と、
第1の係数が定義されたフィルタ関数を用いて作成された基準小領域の光学画像と対比するための第1の仮参照画像と、第2の係数が定義されたフィルタ関数を用いて作成された基準小領域の光学画像と対比するための第2の仮参照画像と、の画素毎の差分が閾値よりも大きい画素が存在するかどうかを判定する工程と、
所定のサイズの検査単位領域毎に、第1の係数が定義されたフィルタ関数を用いて作成される参照画像を用いて、検査領域内のパターンを検査する工程と、
を備え、
判定の結果、差分が閾値よりも大きい画素が存在する場合に、検査領域内のパターンの検査処理を事前に中止することを特徴とする。
複数の図形パターンが形成された検査対象基板の検査領域の中から選択された所定のサイズの第1の小領域の光学画像のデータと、検査対象基板に複数の図形パターンを形成するための基となる設計データに基づいて第1の小領域に配置されるパターンを画像展開した展開画像のデータと、を用いて、参照画像作成用のフィルタ関数の係数を演算する工程と、
第1の小領域内に配置されるパターンが繰り返しパターンか否かを判定する工程と、
第1の小領域内に配置されるパターンが繰り返しパターンの場合に、検査領域の中から同種の繰り返しパターンが配置される、第1の小領域とは別の第2の小領域を抽出する工程と、
第2の小領域の光学画像のデータと、かかる係数が定義されたフィルタ関数を用いて作成された第2の小領域の参照画像との画素毎の差分が閾値よりも大きい画素が存在するかどうかを判定する工程と、
所定のサイズの検査単位領域毎に、係数が定義されたフィルタ関数を用いて作成される参照画像を用いて、検査領域内のパターンを検査する工程と、
を備え、
判定の結果、差分が閾値よりも大きい画素が存在する場合に、検査領域内のパターンの検査処理を事前に中止することを特徴とする。
複数の図形パターンが形成された検査対象基板の検査領域の中から選択された所定のサイズの第1の小領域の光学画像のデータと、検査対象基板に複数の図形パターンを形成するための基となる設計データに基づいて第1の小領域に配置されるパターンを画像展開した展開画像のデータと、を用いて、参照画像作成用のフィルタ関数の第1の係数を演算する工程と、
第1の小領域の光学画像のデータと、第1の係数が定義されたフィルタ関数を用いて作成された第1の小領域の参照画像との画素毎の差分が閾値よりも大きい画素が存在するかどうかを判定する工程と、
判定の結果、差分が閾値よりも大きい画素が存在する場合に、第1の小領域から斜め方向に移動した位置の所定のサイズの第2の小領域の光学画像のデータと、第2の小領域に配置されるパターンを画像展開した展開画像のデータと、を用いて、参照画像作成用のフィルタ関数の第2の係数を演算する工程と、
所定のサイズの検査単位領域毎に、フィルタ関数を用いて作成される参照画像を用いて、検査領域内のパターンを検査する工程と、
を備え、
検査領域内のパターンを検査するために作成される参照画像は、判定の結果、差分が閾値よりも大きい画素が存在しない場合に、第1の係数が定義されたフィルタ関数を用いて作成され、差分が閾値よりも大きい画素が存在する場合に、第2の係数が定義されたフィルタ関数を用いて作成されることを特徴とする。
複数の図形パターンが形成された検査対象基板の検査領域の中から選択された所定のサイズの複数の小領域の光学画像のデータと、検査対象基板に複数の図形パターンを形成するための基となる設計データに基づいて複数の小領域に配置されるパターンを画像展開した展開画像のデータと、を用いて、参照画像作成用のフィルタ関数の第1の係数を演算する第1の係数演算部と、
複数の小領域の中から選択された基準小領域の光学画像のデータと選択された基準小領域の展開画像のデータとを用いて、参照画像作成用の前記フィルタ関数の第2の係数を演算する第2の係数演算部と、
第1の係数が定義されたフィルタ関数を用いて作成された基準小領域の光学画像と対比するための第1の仮参照画像と、第2の係数が定義されたフィルタ関数を用いて作成された基準小領域の光学画像と対比するための第2の仮参照画像と、の画素毎の差分が閾値よりも大きい画素が存在するかどうかを判定する判定部と、
所定のサイズの検査単位領域毎に、第1の係数が定義されたフィルタ関数を用いて参照画像を作成する参照画像作成部と、
検査領域内の光学画像を取得する光学画像取得部と、
検査単位領域毎に、光学画像と参照画像を比較する比較部と、
判定の結果、差分が閾値よりも大きい画素が存在する場合に、検査領域内のパターンの検査処理を事前に中止する検査制御部と、
を備えたことを特徴とする。
図1は、実施の形態1におけるパターン検査装置の構成を示す構成図である。図1において、検査対象基板、例えばマスクに形成されたパターンの欠陥を検査する検査装置100は、光学画像取得部150、及び制御系回路160(制御部)を備えている。
実施の形態1では、フィルタ係数を演算するための複数のフレーム領域の一部のフレーム領域のデータを使って、複数のフレーム領域を使って演算されたフィルタ係数が適切であったかどうかを判定する手法について説明した。実施の形態2では、フィルタ係数を演算するためのフレーム領域(1つ、或いは2つ以上のフレーム領域でもよい)内に形成されたパターン種が特定のパターン種である場合に演算されたフィルタ係数が適切であったかどうかを判定する手法について説明する。
上述した実施の形態1,2では、フィルタ係数を演算する基になったフレーム領域に欠陥が含まれている場合、フレーム領域を選択し直す手法が任意である場合について説明した。実施の形態3では、フィルタ係数を演算する基になったフレーム領域に欠陥が含まれている場合に、効率的にフレーム領域を選択し直す手法について説明する。
20 検査ストライプ
30 フレーム画像
32,33 フレーム領域
39,40,41 記憶装置
42 フレーム領域選択部
43 基準フレーム選択部
44,45,46 フィルタ係数演算部
53,54,55 判定部
56,57 差分演算部
58,59 判定部
64 判定部
65 抽出部
67 設定部
68 判定部
69 抽出部
70,72,76 記憶装置
74 フレーム分割部
68 位置合わせ部
80 比較処理部
100 検査装置
101 基板
102 XYθテーブル
103 光源
104 拡大光学系
105 フォトダイオードアレイ
106 センサ回路
107 位置回路
108 比較回路
109 磁気ディスク装置
110 制御計算機
111 展開回路
112 参照回路
113 オートローダ制御回路
114 テーブル制御回路
115 磁気テープ装置
116 FD
117 CRT
118 パターンモニタ
119 プリンタ
120 バス
122 レーザ測長システム
123 ストライプパターンメモリ
140 フィルタ演算回路
150 光学画像取得部
160 制御系回路
170 照明光学系
Claims (5)
- 複数の図形パターンが形成された検査対象基板の検査領域の中から選択された所定のサイズの複数の小領域の光学画像のデータと、前記検査対象基板に前記複数の図形パターンを形成するための基となる設計データに基づいて前記複数の小領域に配置されるパターンを画像展開した展開画像のデータと、を用いて、参照画像作成用のフィルタ関数の第1の係数を演算する工程と、
前記複数の小領域の中から選択された基準小領域の光学画像のデータと選択された前記基準小領域の展開画像のデータとを用いて、参照画像作成用の前記フィルタ関数の第2の係数を演算する工程と、
前記第1の係数が定義されたフィルタ関数を用いて作成された前記基準小領域の光学画像と対比するための第1の仮参照画像と、前記第2の係数が定義されたフィルタ関数を用いて作成された前記基準小領域の光学画像と対比するための第2の仮参照画像と、の画素毎の差分が閾値よりも大きい画素が存在するかどうかを判定する工程と、
前記所定のサイズの検査単位領域毎に、前記第1の係数が定義された前記フィルタ関数を用いて作成される参照画像を用いて、前記検査領域内のパターンを検査する工程と、
を備え、
判定の結果、前記差分が閾値よりも大きい画素が存在する場合に、前記検査領域内のパターンの検査処理を事前に中止することを特徴とするパターン検査方法。 - 複数の図形パターンが形成された検査対象基板の検査領域の中から選択された所定のサイズの第1の小領域の光学画像のデータと、前記検査対象基板に前記複数の図形パターンを形成するための基となる設計データに基づいて前記第1の小領域に配置されるパターンを画像展開した展開画像のデータと、を用いて、参照画像作成用のフィルタ関数の係数を演算する工程と、
前記第1の小領域内に配置されるパターンが繰り返しパターンか否かを判定する工程と、
前記第1の小領域内に配置される前記パターンが繰り返しパターンの場合に、前記検査領域の中から同種の繰り返しパターンが配置される、前記第1の小領域とは別の第2の小領域を抽出する工程と、
前記第2の小領域の光学画像のデータと、前記係数が定義された前記フィルタ関数を用いて作成された前記第2の小領域の参照画像との画素毎の差分が閾値よりも大きい画素が存在するかどうかを判定する工程と、
前記所定のサイズの検査単位領域毎に、前記係数が定義された前記フィルタ関数を用いて作成される参照画像を用いて、前記検査領域内のパターンを検査する工程と、
を備え、
判定の結果、前記差分が閾値よりも大きい画素が存在する場合に、前記検査領域内のパターンの検査処理を事前に中止することを特徴とするパターン検査方法。 - 複数の図形パターンが形成された検査対象基板の検査領域の中から選択された所定のサイズの第1の小領域の光学画像のデータと、前記検査対象基板に前記複数の図形パターンを形成するための基となる設計データに基づいて前記第1の小領域に配置されるパターンを画像展開した展開画像のデータと、を用いて、参照画像作成用のフィルタ関数の第1の係数を演算する工程と、
前記第1の小領域の光学画像のデータと、前記第1の係数が定義された前記フィルタ関数を用いて作成された前記第1の小領域の参照画像との画素毎の差分が閾値よりも大きい画素が存在するかどうかを判定する工程と、
判定の結果、前記差分が閾値よりも大きい画素が存在する場合に、前記第1の小領域から斜め方向に移動した位置の前記所定のサイズの第2の小領域の光学画像のデータと、前記第2の小領域に配置されるパターンを画像展開した展開画像のデータと、を用いて、参照画像作成用のフィルタ関数の第2の係数を演算する工程と、
前記所定のサイズの検査単位領域毎に、前記フィルタ関数を用いて作成される参照画像を用いて、前記検査領域内のパターンを検査する工程と、
を備え、
前記検査領域内のパターンを検査するために作成される参照画像は、判定の結果、前記差分が閾値よりも大きい画素が存在しない場合に、前記第1の係数が定義された前記フィルタ関数を用いて作成され、前記差分が閾値よりも大きい画素が存在する場合に、前記第2の係数が定義された前記フィルタ関数を用いて作成されることを特徴とするパターン検査方法。 - 前記第2の小領域は、前記第1の小領域とは重ならないことを特徴とする請求項3記載のパターン検査方法。
- 複数の図形パターンが形成された検査対象基板の検査領域の中から選択された所定のサイズの複数の小領域の光学画像のデータと、前記検査対象基板に前記複数の図形パターンを形成するための基となる設計データに基づいて前記複数の小領域に配置されるパターンを画像展開した展開画像のデータと、を用いて、参照画像作成用のフィルタ関数の第1の係数を演算する第1の係数演算部と、
前記複数の小領域の中から選択された基準小領域の光学画像のデータと選択された前記基準小領域の展開画像のデータとを用いて、参照画像作成用の前記フィルタ関数の第2の係数を演算する第2の係数演算部と、
前記第1の係数が定義されたフィルタ関数を用いて作成された前記基準小領域の光学画像と対比するための第1の仮参照画像と、前記第2の係数が定義されたフィルタ関数を用いて作成された前記基準小領域の光学画像と対比するための第2の仮参照画像と、の画素毎の差分が閾値よりも大きい画素が存在するかどうかを判定する判定部と、
前記所定のサイズの検査単位領域毎に、前記第1の係数が定義された前記フィルタ関数を用いて参照画像を作成する参照画像作成部と、
前記検査領域内の光学画像を取得する光学画像取得部と、
前記検査単位領域毎に、前記光学画像と前記参照画像を比較する比較部と、
判定の結果、前記差分が閾値よりも大きい画素が存在する場合に、前記検査領域内のパターンの検査処理を事前に中止する検査制御部と、
を備えたことを特徴とするパターン検査装置。
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