JP7222671B2 - パターン検査装置及びパターン検査方法 - Google Patents
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Description
複数の図形パターンが形成された基板から複数の領域の光学画像を取得する光学画像取得機構と、
複数の領域の光学画像に対応する複数の参照画像を用いて、対応する光学画像と参照画像との比較処理を複数の領域の少なくとも一部の領域間で並列処理する複数の比較部と、
比較の結果、欠陥と判定された欠陥画像データの転送を受け、転送されたデータを基に欠陥情報を生成する少なくとも1つの欠陥情報生成部と、
欠陥情報の生成処理状況に応じて、欠陥画像データの転送順序とタイミングを決定する転送部と、
を備え、
前記欠陥情報生成部は、さらに、記憶装置を有し、
前記転送部は、さらに、前記比較処理が先に終了した領域に対する前記記憶装置の空き容量が確保できていない場合、前記比較処理が後に終了した領域であっても、前記記憶装置の空き容量が確保できる領域の前記欠陥画像データの転送順序を先にすることを特徴とする。
複数の図形パターンが形成された基板から複数の領域の光学画像を取得する工程と、
複数の領域の光学画像に対応する複数の参照画像を用いて、対応する光学画像と参照画像との比較処理を複数の領域の少なくとも一部の領域間で並列処理する工程と、
比較の結果、欠陥と判定された欠陥画像データの転送を受け、転送されたデータを基に欠陥情報を生成する工程と、
欠陥情報の生成処理状況に応じて、欠陥画像データの転送順序とタイミングを決定する工程と、
を備え、
前記比較処理が先に終了した領域に対する転送先の記憶装置の空き容量が確保できていない場合、前記比較処理が後に終了した領域であっても、前記記憶装置の空き容量が確保できる領域の前記欠陥画像データの転送順序を先にすることを特徴とする。
図1は、実施の形態1におけるパターン検査装置の構成を示す構成図である。図1において、検査対象基板、例えばマスクに形成されたパターンの欠陥を検査する検査装置100は、光学画像取得機構150、及び制御系回路160を備えている。
また、光源103は、紫外線(光)の光源に限るものではなく、電子ビームの放出源であっても良い。
20 検査ストライプ
30 フレーム画像
42 総容量算出部
43 順序・タイミング決定部
44 転送処理部
45 判定部
46 一時停止処理部
47 再開処理部
48 判定部
50,56 記憶装置
52 欠陥判定部
54 結合処理部
70,71,72,76 記憶装置
74 フレーム画像生成部
78 位置合わせ部
79 比較処理部
100 検査装置
101 基板
102 XYθテーブル
103 光源
104 拡大光学系
105 フォトダイオードアレイ
106 センサ回路
107 位置回路
108 比較回路
109 磁気ディスク装置
110 制御計算機
112 参照画像作成回路
113 オートローダ制御回路
114 テーブル制御回路
115 磁気テープ装置
116 FD
117 CRT
118 パターンモニタ
119 プリンタ
120 バス
122 レーザ測長システム
123 ストライプパターンメモリ
130 オートローダ
140 結合回路
142 転送回路
150 光学画像取得機構
160 制御系回路
170 照明光学系
Claims (5)
- 複数の図形パターンが形成された基板から複数の領域の光学画像を取得する光学画像取得機構と、
前記複数の領域の光学画像に対応する複数の参照画像を用いて、対応する光学画像と参照画像との比較処理を前記複数の領域の少なくとも一部の領域間で並列処理する複数の比較部と、
比較の結果、欠陥と判定された欠陥画像データの転送を受け、転送されたデータを基に欠陥情報を生成する少なくとも1つの欠陥情報生成部と、
前記欠陥情報の生成処理状況に応じて、前記欠陥画像データの転送順序とタイミングを決定する転送部と、
を備え、
前記欠陥情報生成部は、さらに、記憶装置を有し、
前記転送部は、さらに、前記比較処理が先に終了した領域に対する前記記憶装置の空き容量が確保できていない場合、前記比較処理が後に終了した領域であっても、前記記憶装置の空き容量が確保できる領域の前記欠陥画像データの転送順序を先にすることを特徴とするパターン検査装置。 - 転送待ちの前記欠陥画像データのデータ容量が閾値を超えた場合に、前記光学画像の取得を一時停止することを特徴とする請求項1記載のパターン検査装置。
- 前記複数の比較部のうち、1つにおける転送待ちの前記欠陥画像データのデータ容量が閾値を超えた場合に、前記光学画像の取得を一時停止することを特徴とする請求項1記載のパターン検査装置。
- 前記複数の比較部のうち、すべての比較部における転送待ちの前記欠陥画像データのデータ容量が共に閾値を超えた場合に、前記光学画像の取得を一時停止することを特徴とする請求項1記載のパターン検査装置。
- 複数の図形パターンが形成された基板から複数の領域の光学画像を取得する工程と、
前記複数の領域の光学画像に対応する複数の参照画像を用いて、対応する光学画像と参照画像との比較処理を前記複数の領域の少なくとも一部の領域間で並列処理する工程と、
比較の結果、欠陥と判定された欠陥画像データの転送を受け、転送されたデータを基に欠陥情報を生成する工程と、
前記欠陥情報の生成処理状況に応じて、前記欠陥画像データの転送順序とタイミングを決定する工程と、
を備え、
前記比較処理が先に終了した領域に対する転送先の記憶装置の空き容量が確保できていない場合、前記比較処理が後に終了した領域であっても、前記記憶装置の空き容量が確保できる領域の前記欠陥画像データの転送順序を先にすることを特徴とするパターン検査方法。
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Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2001005166A (ja) | 1999-06-17 | 2001-01-12 | Nec Corp | パターン検査方法及びパターン検査装置 |
JP2005158780A (ja) | 2003-11-20 | 2005-06-16 | Hitachi Ltd | パターン欠陥検査方法及びその装置 |
JP2008039533A (ja) | 2006-08-04 | 2008-02-21 | Hitachi High-Technologies Corp | 欠陥検査方法及びその装置 |
JP2008041749A (ja) | 2006-08-02 | 2008-02-21 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | 画像欠陥検査装置 |
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JP2013148363A (ja) | 2012-01-17 | 2013-08-01 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 外観検査装置 |
-
2018
- 2018-11-19 JP JP2018216474A patent/JP7222671B2/ja active Active
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JP2013148363A (ja) | 2012-01-17 | 2013-08-01 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 外観検査装置 |
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