JP4755833B2 - 試料欠陥検査及び試料検査方法 - Google Patents
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Description
、短冊状領域に仮想的に分割された被測定試料のパターンを拡大光学系により投影し、所
定の画素サイズで光学的に測定して測定パターンデータを生成する測定パターンデータ生
成部と、設計データに基づいて前記測定パターンデータと比較参照すべき参照パターンデ
ータを生成する参照パターンデータ生成部と、前記測定パターンデータと前記参照パター
ンデータとを比較し、これらの差がしきい値を超えたら欠陥有りと判定する手段と、前記
手段により欠陥有りと判定されたパターン、又は欠陥有りと誤検出され易い光近接効果補
正用パターンに対し、前記拡大光学系の倍率を変更することにより前記画素サイズをより
小さくして、前記欠陥有りと判定されたパターン又は前記光近接効果補正用パターンを含
む前記短冊状領域を連続的に走査することで測定パターンデータを再生成する手段と、前
記再生成した測定パターンデータと前記参照パターンデータとを比較し、これらの差がし
きい値を超えたら欠陥有りと判定する手段と、を具備したことを特徴とする。
いて、短冊状領域に仮想的に分割された被測定試料のパターンを拡大光学系により投影し
、所定の画素サイズで光学的に測定して測定パターンデータを生成する測定パターンデー
タ生成部と、設計パターンに基づいて前記測定パターンデータと比較参照すべき参照パタ
ーンデータを生成する参照パターンデータ生成部と、前記測定パターンデータと前記参照
パターンデータとを比較し、これらの差がしきい値を超えたら欠陥有りと判定する手段と
、前記手段により欠陥有りと判定されたパターン、又は欠陥有りと誤検出され易い光近接
効果補正用パターンに対し、前記拡大光学系の倍率を変更することにより前記画素サイズ
をより小さくして、前記欠陥有りと判定されたパターン又は前記光近接効果補正用パター
ンを含む前記短冊状領域を連続的に走査することで測定パターンデータを再生成すると共
に、前記画素サイズをより小さくして参照パターンデータを再生成する手段と、前記再生
成した測定パターンデータと前記再生成した参照パターンデータとを比較し、これらの差
がしきい値を超えたら欠陥有りと判定する手段と、を具備したことを特徴とする。
いて、短冊状領域に仮想的に分割された被測定試料のパターンを拡大光学系により投影し
、所定の画素サイズで光学的に測定して測定パターンデータを生成する工程と、設計デー
タに基づいて前記測定パターンデータと比較参照すべき参照パターンデータを生成する工
程と、前記測定パターンデータと前記参照パターンデータとを比較し、これらの差がしき
い値を超えたら欠陥有りと判定する工程と、前記欠陥有りと判定された場合、又は欠陥が
誤検出され易い光近接効果補正用パターンと判定された場合、該パターン部分について前
記拡大光学系の倍率変更により前記画素サイズをより小さくして前記短冊状領域を連続的
に走査することで測定パターンデータを再生成し、再生成した測定パターンデータと前記
参照パターンデータとを比較し、これらの差がしきい値を超えたら欠陥有りと判定する工
程と、を含むことを特徴とする。
いて、短冊状領域に仮想的に分割された被測定試料のパターンを拡大光学系により投影し
、所定の画素サイズで光学的に測定して測定パターンデータを生成する工程と、設計パタ
ーンに基づいて前記測定パターンデータと比較参照すべき参照パターンデータを生成する
工程と、前記測定パターンデータと前記参照パターンデータとを比較し、これらの差がし
きい値を超えたら欠陥有りと判定する工程と、前記欠陥有りと判定された場合、又は欠陥
有りと誤検出され易い光近接効果補正用パターンと判定された場合、該パターン部分につ
いて前記拡大光学系の倍率変更により前記画素サイズをより小さくして前記短冊状領域を
連続的に走査することで測定パターンデータを再生成すると共に、前記画素サイズをより
小さくして参照パターンデータを再生成し、再生成した測定パターンデータと参照パター
ンデータとを比較し、これらの差がしきい値を超えたら欠陥有りと判定する工程と、を含
むことを特徴とする。
図1は、本発明の第1の実施形態に係わるフォトマスクの欠陥検査装置を示す概略構成図である。
第1の実施形態では、参照パターンデータと測定パターンデータの両方において、高分解能の画像を再取得することを説明したが、本実施形態では、測定パターンデータのみ高分解能画像を再生成することを説明する。
図6に示すようなライン&スペースパターン等の線幅異常を検査する場合等に、参照パターンデータ側の量子化誤差が大きいと線幅異常の検出に限界があり、欠陥を検出可能な比較判定しきい値にすると疑似欠陥も検出してしまう。そこで、線幅異常による欠陥を検出した場合には、参照パターンデータ側の誤差起因である場合も考えられるので、展開回路23で例えば画素サイズが半分の高分解能の画像を再生成する。その後、参照回路24で4画素分を1画素に再合成することにより、通常画素サイズで出力させる。
ここまでは、高分解能の参照パターンデータを再生成する手段は、通常画素サイズで処理する回路を流用することとしてきたが、高分解能での処理と通常画素での処理を両方可能にするため、回路がオーバースペックになってしまう場合が考えられる。
なお、本発明は上述した各実施形態に限定されるものではない。実施形態では被検査試料としてフォトマスクの例を説明したが、これに限らず半導体ウェハや液晶基板のパターン欠陥検査に適用することができる。また、拡大光学系の構成や倍率等の条件は、仕様に応じて適宜変更可能である。さらに、高精度データを再生成する際の画素サイズは1/2に限るものではなく、仕様に応じて適宜変更可能である。
12…XYθテーブル
13…光源
14…拡大光学系
15…フォトダイオードアレイ
16…センサ回路
17…オートローダ
18…レーザ測長システム
20…計算機
21…オートローダ制御回路
22…テーブル制御回路
23…展開回路
24…参照回路
25…比較回路
26…位置回路
28…画素サイズ切り替え回路
31…磁気ディスク装置
51,52…OPC検出回路
53…高分解能展開回路
54…高分解能参照回路
55…切り替え回路
Claims (11)
- 短冊状領域に仮想的に分割された被測定試料のパターンを拡大光学系により投影し、所
定の画素サイズで光学的に測定して測定パターンデータを生成する測定パターンデータ生
成部と、
設計データに基づいて前記測定パターンデータと比較参照すべき参照パターンデータを
生成する参照パターンデータ生成部と、
前記測定パターンデータと前記参照パターンデータとを比較し、これらの差がしきい値
を超えたら欠陥有りと判定する手段と、
前記手段により欠陥有りと判定されたパターン、又は欠陥有りと誤検出され易い光近接
効果補正用パターンに対し、前記拡大光学系の倍率を変更することにより前記画素サイズ
をより小さくして、前記欠陥有りと判定されたパターン又は前記光近接効果補正用パター
ンを含む前記短冊状領域を連続的に走査することで測定パターンデータを再生成する手段
と、
前記再生成した測定パターンデータと前記参照パターンデータとを比較し、これらの差
がしきい値を超えたら欠陥有りと判定する手段と、
を具備したことを特徴とする試料検査装置。 - 短冊状領域に仮想的に分割された被測定試料のパターンを拡大光学系により投影し、所
定の画素サイズで光学的に測定して測定パターンデータを生成する測定パターンデータ生
成部と、
設計パターンに基づいて前記測定パターンデータと比較参照すべき参照パターンデータ
を生成する参照パターンデータ生成部と、
前記測定パターンデータと前記参照パターンデータとを比較し、これらの差がしきい値
を超えたら欠陥有りと判定する手段と、
前記手段により欠陥有りと判定されたパターン、又は欠陥有りと誤検出され易い光近接
効果補正用パターンに対し、前記拡大光学系の倍率を変更することにより前記画素サイズ
をより小さくして、前記欠陥有りと判定されたパターン又は前記光近接効果補正用パター
ンを含む前記短冊状領域を連続的に走査することで測定パターンデータを再生成すると共
に、前記画素サイズをより小さくして参照パターンデータを再生成する手段と、
前記再生成した測定パターンデータと前記再生成した参照パターンデータとを比較し、
これらの差がしきい値を超えたら欠陥有りと判定する手段と、
を具備したことを特徴とする試料検査装置。 - 前記パターンデータを再生成する手段において、前記画素サイズを通常サイズのほぼ半
分にすることを特徴とする請求項1又は2記載の試料検査装置。 - 前記誤検出され易い光近接効果補正用パターンを前記測定パターンデータから自動検出
する手段を備えたことを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載の試料検査装置。 - 前記自動検出する手段は、前記測定パターンデータ内の微小段差の有無を検出し、微小
段差を有する場合に誤検出され易い光近接効果補正用パターンとして検出するものである
ことを特徴とする請求項4記載の試料検査装置。 - 前記誤検出され易い光近接効果補正用パターンを前記参照パターンデータから自動検出
する手段を備えたことを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載の試料検査装置。 - 前記自動検出する手段は、前記設計データに存在する単位面積当たりの図形数が予め指
定されたしきい値を超えた場合に、誤検出され易い光近接効果補正用パターンとして検出
するものであることを特徴とする請求項6記載の試料検査装置。 - 前記誤検出され易い光近接効果補正用パターンを入力する手段を備えたことを特徴とす
る請求項1〜3の何れかに記載の試料検査装置。 - 前記参照パターンデータを再生成する手段は、前記参照パターンデータ生成部とは別に
設けられていることを特徴とする請求項2記載の試料検査装置。 - 短冊状領域に仮想的に分割された被測定試料のパターンを拡大光学系により投影し、所
定の画素サイズで光学的に測定して測定パターンデータを生成する工程と、
設計データに基づいて前記測定パターンデータと比較参照すべき参照パターンデータを
生成する工程と、
前記測定パターンデータと前記参照パターンデータとを比較し、これらの差がしきい値
を超えたら欠陥有りと判定する工程と、
前記欠陥有りと判定された場合、又は欠陥が誤検出され易い光近接効果補正用パターン
と判定された場合、該パターン部分について前記拡大光学系の倍率変更により前記画素サ
イズをより小さくして前記短冊状領域を連続的に走査することで測定パターンデータを再
生成し、再生成した測定パターンデータと前記参照パターンデータとを比較し、これらの
差がしきい値を超えたら欠陥有りと判定する工程と、
を含むことを特徴とする試料検査方法。 - 短冊状領域に仮想的に分割された被測定試料のパターンを拡大光学系により投影し、所
定の画素サイズで光学的に測定して測定パターンデータを生成する工程と、
設計パターンに基づいて前記測定パターンデータと比較参照すべき参照パターンデータ
を生成する工程と、
前記測定パターンデータと前記参照パターンデータとを比較し、これらの差がしきい値
を超えたら欠陥有りと判定する工程と、
前記欠陥有りと判定された場合、又は欠陥有りと誤検出され易い光近接効果補正用パタ
ーンと判定された場合、該パターン部分について前記拡大光学系の倍率変更により前記画
素サイズをより小さくして前記短冊状領域を連続的に走査することで測定パターンデータ
を再生成すると共に、前記画素サイズをより小さくして参照パターンデータを生成し、再
生成した測定パターンデータと参照パターンデータとを比較し、これらの差がしきい値を
超えたら欠陥有りと判定する工程と、
を含むことを特徴とする試料検査方法。
Priority Applications (1)
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JP2005010703A JP4755833B2 (ja) | 2005-01-18 | 2005-01-18 | 試料欠陥検査及び試料検査方法 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005010703A JP4755833B2 (ja) | 2005-01-18 | 2005-01-18 | 試料欠陥検査及び試料検査方法 |
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JP4755833B2 true JP4755833B2 (ja) | 2011-08-24 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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