JPH10111108A - パターン検査方法及び装置 - Google Patents

パターン検査方法及び装置

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JPH10111108A
JPH10111108A JP26207296A JP26207296A JPH10111108A JP H10111108 A JPH10111108 A JP H10111108A JP 26207296 A JP26207296 A JP 26207296A JP 26207296 A JP26207296 A JP 26207296A JP H10111108 A JPH10111108 A JP H10111108A
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英夫 岡田
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Abstract

(57)【要約】 【課題】パターン検査をより正確に行う。 【解決手段】参照パターンを、肉付図形の識別コードと
肉付図形の移動範囲の端点を示す座標とを含む分解デー
タで表わし、識別コードを、肉付図形の形状及びサイズ
と該サイズの許容範囲とに対応させて、これらを外部記
憶装置30に格納しておき、これから分解データを読み
出し参照スケルトンを作成し、参照スケルトンの構成画
素に識別コードを付加してメモリ36に格納する。メモ
リ24に格納された検査パターンから、その中心線を抽
出した検査スケルトンを作成して、メモリ26に格納
し、これから画素を順次読み出し、これが検査スケルト
ンの構成画素であれば、これに対応した参照スケルトン
の構成画素がメモリ36に存在するかどうかを調べ、存
在すれば、検査スケルトンの構成画素に対応した検査パ
ターンのサイズが、識別コードを介し得られた参照パタ
ーンのサイズの許容範囲内にあるかどうかを判定する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、プリント配線板等
に形成されたリード、ランド及びスルーホール等のパタ
ーンを検査する方法及び装置に関する。
【0002】
【従来の技術】この種の従来のパターン検査装置では、
試料としてのプリント配線板がカメラで撮像され、その
映像信号が2値化され、ラスタスキャン方向にシフトさ
れる画像メモリの始端記憶素子に順次保持され、この画
像メモリ上に配置された特徴抽出オペレータとしての放
射状ラジアルセンサで、パターン中心が検出された時
に、ラジアルセンサの出力がコード化され、そのコード
で欠陥判定ROMがアドレス指定され、欠陥判定ROM
からパターンの良否が読み出されていた(例えば、特願
昭61−107407号)。
【0003】例えば図11において、リードパターン1
は、幅がa、b、cのときそれぞれ正常、細り欠陥、太
り欠陥と判定される。他方、部品の高密度実装に伴い配
線密度が高くなると、無駄が生じないように配線幅が定
められ、枚の試料10上に複数の配線幅の配線が形成さ
れるようになった。配線密度が高くなるほど、配線幅の
許容範囲が狭くなる。
【0004】上記パターン検査装置では、正常と判定さ
れる配線幅の範囲が1つであったので、図11(B)に
示す試料10のように、互いに幅の異なる正常なリード
パターン11、12及び13が形成されている場合、リ
ードパターン11の幅を基準にすると、リードパターン
12及び13は太り欠陥と判定され、リードパターン1
2の幅を基準にすると、リードパターン11、13はそ
れぞれ細り欠陥、太り欠陥と判定され、リードパターン
13の幅を基準にすると、リードパターン11及び12
は細り欠陥と判定されるという不都合が生ずる。
【0005】そこで、試料10に対応したCADデータ
の参照パターンを左右上下に所定長さシフトさせて参照
パターンを拡大させ、拡大された参照パターンと検査パ
ターンとを重ね合わせ、両者の内包関係からパターンの
良否を判定する方法が提案されている(特開平3−16
3845号公報)。この方法によれば、シフト前のパタ
ーンを基準として許容範囲が定められるので、互いに幅
の異なる配線パターンが形成されている試料10の検査
を行うことができる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このような方
法で許容範囲を定めると、許容範囲の幅が配線幅によら
ず画一的になり、他方、配線幅の許容範囲は一般に配線
幅が狭いほど許容範囲が狭くなるので、パターンの良否
判定が不正確になる。この判定を正確にするために許容
範囲を狭くすると、欠陥が過剰検出され、自動検査後に
おいて、致命的欠陥であるかどうかの目視検査に要する
時間が長くなる。
【0007】このような問題は、ランドやスルーホール
等のパターンについても同様に生ずる。本発明の目的
は、このような問題点に鑑み、パターン検査をより正確
に行うことが可能なパターン検査方法及び装置を提供す
ることにある。
【0008】
【課題を解決するための手段及びその作用効果】第1発
明では、試料上のパターンの画像を検査パターンとして
第1記憶部に格納し、格納された該検査パターンを参照
パターンと比較して検査を行うパターン検査方法におい
て、(1)該参照パターンを、肉付図形の識別コードと
該肉付図形の移動範囲の端点(1点の場合を含む)を示
す座標との組を含む分解データ、例えばベクトルデータ
とで表わして、第2記憶部に格納しておき、(2)該識
別コードを、該肉付図形の形状及びサイズと該サイズの
許容範囲とに対応させて第3記憶部に格納しておき、
(3)該第2記憶部から該検査パターンに対応する該分
解データを読み出し、該分解データの該識別コードを参
照して該第3記憶部から対応するデータを読み出し、該
検査パターンのサイズが該参照パターンのサイズの許容
範囲内にあるかどうかを判定することにより、該検査パ
ターンを検査する。
【0009】この第1発明によれば、分解データに含ま
れる識別コードにより、肉付図形の形状及びサイズのみ
ならずサイズの許容範囲も定められるので、全てのパタ
ーンについて許容範囲が画一的であった従来よりも、正
確にパターン検査を行うことが可能となるという効果を
奏する。一般に、第3記憶部内のレコード数は第2記憶
部内の分解データ数に比し遥かに少ないので、パターン
に応じて許容範囲を付加することによるデータ量の増大
は僅かである。
【0010】第1発明の第1態様では、上記工程(3)
において、(3−1)上記検査パターンから、その中心
線を抽出した検査スケルトンを作成して、第4記憶部に
格納し、(3−2)上記第2記憶部から上記分解データ
を読み出し該検査スケルトンに対応した参照スケルトン
を作成して、第5記憶部に格納し、(3−3)該第4記
憶部からデータを順次読み出し、そのデータに該検査ス
ケルトンの構成画素が含まれていれば、該構成画素に対
応した該参照スケルトンの構成画素が該第4記憶部内に
存在するかどうかを調べ、存在すれば、該検査スケルト
ンの構成画素に対応した該検査パターンのサイズが該参
照スケルトンの構成画素に対応した参照パターンのサイ
ズの許容範囲内にあるかどうかを判定する。
【0011】この第1態様によれば、検査スケルトンを
作成し、これを読み出して検査するので、検査パターン
を読み出して検査する場合よりも効率よく検査すること
ができるという効果を奏する。第1発明の第2態様で
は、上記工程(3−2)において、上記参照スケルトン
の構成画素に、対応する上記識別コードを付加して上記
第4記憶部に格納し、上記工程(3−3)において、付
加された該識別コードを参照して上記第3記憶部から対
応するデータを読み出し、上記検査パターンのサイズが
上記参照パターンのサイズの許容範囲内にあるかどうか
を判定する。
【0012】この第2態様によれば、参照スケルトンの
構成画素に付加された識別コードにより、対応する検査
パターンの許容範囲が分かるので、識別コードを付加し
ない場合よりも効率よく検査することができるという効
果を奏する。第1発明の第3態様では、上記工程(3−
3)において、上記参照スケルトンの構成画素が上記第
4記憶部内に存在すると判定した後に、上記検査スケル
トンの構成画素に対応した上記検査パターンのサイズを
測長する。
【0013】この第3態様によれば、次の第4形態より
も第4記憶部の容量を少なくすることができるという効
果を奏する。第1発明の第4態様では、上記工程(3−
1)において、上記検査スケルトンの構成画素に、該構
成画素に対応する上記検査パターンのサイズを付加して
上記第4記憶部に格納する。
【0014】この第4態様によれば、検査スケルトンの
構成画素に検査パターンのサイズが付加されているの
で、付加されてない場合よりも効率よく検査することが
できるという効果を奏する。第1発明の第5態様では、
上記検査パターン及び上記参照パターンは、プリント配
線板のリードパターンとランドパターンとを含み、上記
工程(3−2)では、上記参照スケルトンの構成画素に
さらに、該構成画素がリードパターンに対応しているか
どうかを示すリードフラグと、該構成画素がランドパタ
ーンに対応しているかどうかを示すランドフラグとを付
加して上記第4記憶部に格納し、該参照スケルトンの構
成画素がリードパターンに対応し且つランドパターンの
許容範囲に含まれる場合には両パターンに対応している
ように該リードフラグ及び該ランドフラグを設定し、上
記工程(3−3)では、該リードフラグがリードパター
ンであることを示し且つ該ランドフラグがランドパター
ンであることを示している場合には、リードパターンと
しての検査及びランドパターンとしての検査を行い、両
検査の結果のいずれかが良であれば該検査パターンが良
であると判定する。
【0015】この第5態様によれば、リード端部が実際
にはランド内であるためにリード検査で太り欠陥と判定
されても、ランド検査で良と判定された場合には、結果
として良と判定されるので、欠陥の過剰検出を防止する
ことができるという効果を奏する。第1発明の第6態様
では、上記工程(3−3)において、上記リードパター
ンの検査と上記ランドパターンの検査とをそれぞれリー
ドパターン検査部とランドパターン検査部とで並列して
処理する。
【0016】この第6態様によれば、特にリードフラグ
がリードパターンであることを示し且つランドフラグが
ランドパターンであることを示している場合に、処理が
高速化されるという効果を奏する。第2発明では、試料
に形成されたスルーホールのパターンの画像を検査パタ
ーンとして第1記憶部に格納し、格納された該検査パタ
ーンをスルーホールの参照パターンと位置合わせし、両
パターンの一致面積に基づいてスルーホールの孔面積を
検査するパターン検査方法であって、(1)該参照パタ
ーンを、肉付図形の識別コードと該肉付図形の配置点を
示す座標との組を含む分解データで表わして、第2記憶
部に格納しておき、(2)該識別コードを、該肉付図形
のサイズと孔一致面積許容範囲とに対応させて第3記憶
部に格納しておき、(3)該第2記憶部から該検査パタ
ーンに対応する該分解データを読み出し、該分解データ
の該識別コードを参照して該第3記憶部から対応するデ
ータを読み出し、該検査パターンと該参照パターンの孔
一致面積が孔一致面積許容範囲内にあるかどうかを判定
することにより、該検査パターンを検査する。
【0017】第3発明では、試料上のリードパターン及
びランドパターンの画像を第1検査パターンとして第1
記憶部に格納し、該試料に形成されたスルーホールのパ
ターンの画像を第2検査パターンとして第2記憶部に格
納し、格納された該第1検査パターンをリードパターン
及びランドパターンの第1参照パターンと位置合わせ
し、該位置合わせの関係を、格納された該第2検査パタ
ーンとスルーホールの第2参照パターンとに適用し、該
第2検査パターンのスケルトンと該第2参照パターンの
スケルトンとの間の距離に基づいてスルーホールの孔ず
れを検査するパターン検査方法であって、(1)該第2
参照パターンを、肉付図形の識別コードと該肉付図形の
配置点を示す座標との組を含む分解データで表わして、
第3記憶部に格納しておき、(2)該識別コードを、該
肉付図形のサイズと孔ずれ許容範囲とに対応させて第4
記憶部に格納しておき、(3)該第3記憶部から該第2
検査パターンに対応する該分解データを読み出し、該分
解データの該識別コードを参照して該第4記憶部から対
応するデータを読み出し、該第2検査パターンのスケル
トンと該第2参照パターンのスケルトンとの間の距離が
孔ずれ許容範囲内にあるかどうかを判定することによ
り、該第2検査パターンを検査する。
【0018】第4発明では、試料上のパターンの画像を
検査パターンとして第1記憶部に格納し、格納された該
検査パターンを参照パターンと比較して検査を行うパタ
ーン検査装置において、該参照パターンが、肉付図形の
識別コードと該肉付図形の移動範囲の端点を示す座標と
の組を含む分解データで表わされて格納された第2記憶
部と、該識別コードが、該肉付図形の形状及びサイズと
該サイズの許容範囲とに対応して格納された第3記憶部
と、該第2記憶部から該検査パターンに対応する該分解
データを読み出し、該分解データの該識別コードを参照
して該第3記憶部から対応するデータを読み出し、該検
査パターンのサイズが該参照パターンのサイズの許容範
囲内にあるかどうかを判定する処理部と、を有する。
【0019】第5発明では、試料に形成されたスルーホ
ールのパターンの画像を検査パターンとして第1記憶部
に格納し、格納された該検査パターンをスルーホールの
参照パターンと位置合わせし、両パターンの一致面積に
基づいてスルーホールの孔面積を検査するパターン検査
装置であって、該参照パターンが、肉付図形の識別コー
ドと該肉付図形の配置点を示す座標との組を含む分解デ
ータで表わされて格納された第2記憶部と、該識別コー
ドが、該肉付図形のサイズと孔一致面積許容範囲とに対
応して格納された第3記憶部と、該第2記憶部から該検
査パターンに対応する該分解データを読み出し、該分解
データの該識別コードを参照して該第3記憶部から対応
するデータを読み出し、該検査パターンと該参照パター
ンの孔一致面積が孔一致面積許容範囲内にあるかどうか
を判定する処理部と、を有する。
【0020】第6発明では、試料上のリードパターン及
びランドパターンの画像を第1検査パターンとして第1
記憶部に格納し、該試料に形成されたスルーホールのパ
ターンの画像を第2検査パターンとして第2記憶部に格
納し、格納された該第1検査パターンをリードパターン
及びランドパターンの第1参照パターンと位置合わせ
し、該位置合わせの関係を、格納された該第2検査パタ
ーンとスルーホールの第2参照パターンとに適用し、該
第2検査パターンのスケルトンと該第2参照パターンの
スケルトンとの間の距離に基づいてスルーホールの孔ず
れを検査するパターン検査方法であって、該第2参照パ
ターンが、肉付図形の識別コードと該肉付図形の配置点
を示す座標との組を含む分解データで表わされて格納さ
れた第3記憶部と、該識別コードが、該肉付図形のサイ
ズと孔ずれ許容範囲とに対応して格納された第4記憶部
と、該第3記憶部から該第2検査パターンに対応する該
分解データを読み出し、該分解データの該識別コードを
参照して該第4記憶部から対応するデータを読み出し、
該第2検査パターンのスケルトンと該第2参照パターン
のスケルトンとの間の距離が孔ずれ許容範囲内にあるか
どうかを判定する処理部と、を有する。
【0021】
【発明の実施の形態】以下、図面に基づいて本発明の実
施形態を説明する。 [第1実施形態]図1は、本発明の第1実施形態のパタ
ーン検査装置の概略を示す。試料10は、部品未実装の
プリント配線板であり、基板にリード及びランドのプリ
ントパターン並びに層間接続用スルーホールが形成され
ている。試料10に対する照明は、検査対象に応じ、試
料10の下方に配置された光源20又は試料10の上方
に配置された光源21で行われる。照明された試料10
は、撮像装置22で撮像され、2値画像入力回路23に
より、映像信号が2値化され且つ同期信号に基づいて格
納アドレスが決定され、パターンメモリ24に格納され
る。
【0022】スケルトン作成部25は、パターンメモリ
24に格納されたパターンである検査パターンの中心線
を抽出し、これを検査スケルトンとしてその画像をスケ
ルトンメモリ26に格納する。例えば、図5(A)に示
す検査パターンに対し、図5(B)中に示すスケルトン
260、261A、261B、262、263及びDB
を抽出して、図5(C)に示すような検査スケルトンを
作成し、スケルトンメモリ26に格納する。この抽出
は、例えば上述のラジアルセンサを用いて行うことがで
き、また、パターンの幅方向を検出し、その幅の両側か
ら1画素づつ順に取り除くことによっても行うことがで
きる。
【0023】図5(B)において、パターン内でスケル
トンの端が途切れているのは、パターンの長手方向の長
さがこれに垂直な方向の長さ以下であれば長手方向とは
言えないので、スケルトンの画素生成ができないことに
よる。図1において、外部記憶装置30には、パターン
メモリ24に格納された画像と比較されるCADデータ
が格納されている。このCADデータは、データ量を少
なくするため、図4(A)に示す肉付図形リストと図4
(B)に示す分解データとからなる。図4(C)中のパ
ターン311〜314は、図4(B)中の分解データ3
01〜304をビットマップに展開したものである。分
解データは、スケルトンを表す端点(1点又は2点)の
座標と、スケルトンを肉付する図形の識別コードとから
なる。
【0024】例えば、次の分解データ301、 X:220:Y:200、XA:0:YA:600:A
01 は、X−Y直交座標系でのベクトル始点座標が(20
0,200)、この始点からX方向へ0、Y方向へ60
0離れた点がベクトルの終点である。識別コードA01
で表される直径100μmの円の中心をこのベクトルに
沿って移動させることにより、図4(C)中のパターン
311が得られる。識別コードA01は、図4(A)に
示す如く、リードを描くのに用いられ、描かれたリード
の各点での幅の許容範囲は、直径100μmを基準とし
て+10μm、−10μm、すなわち90〜110μm
である。
【0025】ランドは、長さ0のベクトルで表され、例
えば次の分解データ303、 X:600:Y:600:B01 は、点(600,600)に、識別コードB01で表さ
れる直径300μmの円を配置したパターンである。識
別コードB01の種類は小径ランドであり、その直径の
許容範囲は280〜310μmである。
【0026】図1において、外部記憶装置30に格納さ
れたCADデータは、バッファメモリ31に読み出さ
れ、展開部35はこれを、肉付前のスケルトンのビット
マップに展開し、参照スケルトンとして参照スケルトン
メモリ36に格納する。図5(D)は、図5(A)の検
査パターンに対応した参照スケルトンを示す。図5
(D)中の×印はベクトルの端点である。図5(C)と
の関係では、参照スケルトン360、362及び363
がそれぞれ検査スケルトン260、262及び263に
対応し、参照スケルトン361が検査スケルトン261
Aと検査スケルトン261Bの一部とに対応し、参照ス
ケルトン364が検査スケルトン261Bの一端に対応
している。
【0027】スケルトンメモリ26内の画素が1ビット
で表されるのに対し、参照スケルトンの画素は、次のよ
うな複数ビット(以下、スケルトンワードと称す)で表
される。 P,Q,(識別コード) リードフラグPは、リードのスケルトン上の画素のとき
‘1’、その他のとき‘0’であり、ランドフラグQ
は、ランドのスケルトン上の画素のとき‘1’、その他
のとき‘0’である。識別コードは、図4(A)中の識
別コードである。このようなスケルトンワードを見れ
ば、対応する検査スケルトンの画素がリードであるかラ
ンドであるか、及び、検査パターンの許容範囲が分かる
ので、効率よく検査することが可能となる。
【0028】図5(F)は、図5(D)のスケルトンを
ビットマップに展開した参照パターンであり、図5
(E)は図5(D)中のランドのスケルトン364のみ
ビットマップに展開したものである。図5(E)のよう
に、ランドパターン364Aに接続されるスケルトン3
61の先端部は、ランドパターン364Aと重なってい
る。これは、ランドパターン364Aに対応する検査パ
ターンが許容範囲内の最小サイズのときにもスケルトン
361と接続されることを考慮したものである。スケル
トン361の端部361aは、ランドパターン364A
に対応した検査パターンが許容範囲内でスケルトン36
1と重なる部分であり、この部分ではリードフラグP及
びランドフラグQが共に‘1’に設定されている。これ
は、端部361aで後述のようにリード検査及びランド
検査を行うためである。すなわち、リード端部が実際に
はランド内であるためにリード検査で太り欠陥と判定さ
れても、ランド検査で良と判定された場合には、結果と
して良と判定することにより、欠陥の過剰検出を防止す
るためである。
【0029】図1において、試料10や撮像装置22の
配置により一般に、メモリ36内の参照スケルトンとメ
モリ26内の検査スケルトンとの間に位置ずれが存在す
る。そこで、位置合わせ部37により、参照スケルトン
メモリ36内の画像とスケルトンメモリ26内の画像と
のパターンマッチングが行われ、両者の一方の他方に対
する位置ずれが求められる。詳細には、このずれには回
転や拡大、縮小が含まれ、例えばスケルトンメモリ26
内の画像位置から参照スケルトンメモリ36内の画像位
置への1次座標変換式の係数がレジスタ(群)38に格
納される。
【0030】リード部及びランド部の検査はそれぞれリ
ード検査部40及びランド検査部41で行われる。リー
ド検査部40及びランド検査部41はいづれも、スケル
トンメモリ26を1画素ずつラスタスキャンしながら検
査を行う。スケルトンメモリ26内でのラスタスキャン
は、リード検査部40とランド検査部41とで共通であ
り、同期している。
【0031】位置合わせ部37、リード検査部40及び
ランド検査部41は、高速化のためにハードウェアで構
成しても、構成の簡単化のためにMPUを用いソフトウ
ェアで構成してもよい。リード検査部40での処理を、
図2に基づいて説明する。以下、括弧内は図中のステッ
プ識別符号である。
【0032】(400)スケルトンメモリ26から現走
査位置での検査対象画素Eを読み込む。 (401)検査対象画素Eが‘1’でなければ、すなわ
ちスケルトンの構成画素でなければ、ステップ400へ
戻り、そうでなければステップ402へ進む。 (402)レジスタ38に保持された係数で、メモリ2
6内の検査対象画素Eの位置をメモリ36内の参照画素
位置に変換し、その参照画素の近傍にP=‘0’かつQ
=‘1’である画素が存在するかどうか、すなわちラン
ドが存在するかどうかを調べる。近傍とは、例えばX方
向及びY方向にそれぞれ±3画素以内であり、検査パタ
ーンの参照パターンからのずれの許容範囲を考慮したも
のである。P=‘0’かつQ=‘1’である画素が存在
すればステップ400へ戻り、そうでなければステップ
403へ進む。
【0033】(403)参照スケルトンメモリ36内の
上記近傍画素について、P=‘1’が存在すれば、すな
わちリードが存在すれば、ステップ404Aへ進み、そ
うでなければステップ404Bへ進む。 (404A)スケルトンメモリ26内の上記検査対象画
素Eに対応したパターンメモリ24内のパターンについ
て、スケルトンの方向に直角な方向の幅をリード幅とし
て測長(連続する‘1’のビット数をカウント)し、ス
テップ405へ進む。
【0034】(404B)従来と同様にして、図5
(B)のスケルトンDCのような銅残りであるか図5
(B)のスケルトンDBのようなショートであるかを調
べ、その大きさも測長し、ステップ405へ進む。 (405、405A)ステップ403でP=‘1’の場
合には、そのスケルトンワード中の識別コードをキーと
して図4(A)の肉付図形リストを検索し、得られたレ
コードからリード幅の許容範囲を求め、ステップ404
Aで求めた測長値がこの範囲内であるかどうかを判定す
る。リード幅が許容範囲の上限値を越えていれば、太り
欠陥と判定し、許容範囲の下限値未満であれば細り欠陥
と判定する。
【0035】銅残りの場合には、従来同様に、その両側
にパターンが存在し且つそのパターンとの間隔が設定値
以下であれば銅残り欠陥と判定する。また、ショートの
場合にはショート欠陥と判定する。次に、判定結果の出
力処理を行う。すなわち、図1において、欠陥と判定し
た場合には、判定無しの場合(ステップ401又は40
2からステップ400へ戻る場合)と同様にリード検査
部40からノアゲート42へ‘0’を出力したままであ
り、良であればリード検査部40からノアゲート42へ
‘1’を出力する。また、欠陥と判定した場合には、リ
ード検査部40から欠陥出力部43へ欠陥の種類及び位
置を出力する。欠陥出力部43は、ノアゲート42の出
力が‘1’のとき、この欠陥の種類及び位置を外部記憶
装置44に格納する。P=Q=‘1’の場合には、リー
ド検査部40及びランド検査部41のいずれかが良と判
定すれば、他方が欠陥と判定してもノアゲート42の出
力は‘0’(良)となる。
【0036】(406、407A)例えば図5(D)の
スケルトン261Aとスケルトン261Bとの間に断線
部DAが存在するかどうかを調べる。これは、スケルト
ン261A上の現在の走査位置から、スケルトンに沿っ
てスケルトン構成画素が例えば3個連続して存在すれば
断線でないと判定し、そうでなければ断線欠陥と判定
し、上記欠陥出力の処理を行う。
【0037】(408)スケルトンメモリ26内の走査
位置が最終画素でなけれなステップ400へ戻り、最終
画素であれば処理を終了する。次に、ランド検査部41
での処理を、図3に基づいて説明する。ステップ500
及び501はそれぞれ図2中のステップ400及び40
1と同一処理であり、その説明を省略する。ステップ5
00での検査対象画素Eは、上記同期により、ステップ
400での検査対象画素Eと同一である。
【0038】(502)上記ステップ403と同様に参
照スケルトンメモリ36内の上記近傍画素について、Q
=‘1’が存在すれば、すなわちランドが存在すれば、
ステップ503へ進み、そうでなければステップ500
へ戻る。 (503)Q=‘1’のスケルトンワード中の識別コー
ドをキーとして図4(A)の肉付図形リストを検索し、
得られたレコードから許容範囲の上限枠及び下限枠をラ
ンド検査部41内のビットマップメモリに設定する。図
6(A)において、ランド410は参照パターンであ
り、410Sはランド410の下限枠であり、410L
はランド410の上限枠である。
【0039】(504)上記上限枠の中心を、スケルト
ンメモリ26内の検査対象画素Eに対応したパターンメ
モリ24内の画素に対応させ、パターンメモリ24内の
ランドが上限枠内に収まるかどうかを判定し、上限枠か
らはみ出れば欠陥と判定してステップ505へ進み、そ
うでなければステップ506へ進む。図6(C)では、
ランド240Bは欠陥と判定される。
【0040】(505)図2のステップ405Aと同様
に欠陥出力処理を行い、ステップ507へ進む。 (506)上記下限枠の中心を、スケルトンメモリ26
内の検査対象画素Eに対応したパターンメモリ24内の
画素に対応させ、下限枠内の全画素がパターンメモリ2
4内の当該ランドに属するかどうかを判定し、属せばス
テップ507へ進み、そうでなければ欠陥と判定してス
テップ505へ進む。図6(B)では、ランド240A
は欠陥と判定される。
【0041】(507)スケルトンメモリ26内の走査
位置が最終画素でなけれなステップ500へ戻り、最終
画素であれば処理を終了する。本第1実施形態によれ
ば、リード及びランドについて、分解データに含まれる
識別コードにより、肉付図形の形状及びサイズのみなら
ずサイズの許容範囲も定められるので、全てのパターン
について許容範囲が画一的であった従来よりも、正確に
パターン検査を行うことが可能となる。また、肉付図形
リストのレコード数は分解データの数に比し遥かに少な
いので、パターンに応じて許容範囲を付加することによ
るデータ量の増大は僅かである。
【0042】[第2実施形態]図7は、本発明の第2実
施形態のパターン検査装置の概略を示す。この装置は、
試料10に形成されたスルーホールのパターンを検査す
るためのものである。この検査には、スルーホールの孔
ずれ検査と孔面積検査とがある。スルーホールは層間の
ランドパターンを接続するためのものであるので、スル
ーホールの孔ずれ検査は、ランドパターンについて検査
パターンと参照パターンとのマッチングを行った後に行
う必要がある。これに対し、スルーホールの孔面積検査
は、参照パターンの孔面積との比較であるので、スルー
ホールについて検査パターンと参照パターンとのマッチ
ングを行った後に検査を行う必要がある。
【0043】光源20をオンにし光源21をオフにした
状態で、撮像装置22により試料10のスルホール画像
が取得され、2値画像入力回路23Aを介してパターン
メモリ24Aにその2値画像が書き込まれる。次に、光
源20をオフにし光源20をオンにした状態で、撮像装
置22により試料10のリード及びランドのパターン画
像が取得され、2値画像入力回路23を介してパターン
メモリ24にその2値画像が書き込まれる。スケルトン
作成部25は、パターンメモリ24A内のスルーホール
の中心点をスケルトンとして抽出し、これをスケルトン
メモリ26Aに書き込む。
【0044】外部記憶装置30にはCADデータとし
て、上記第1実施形態でのCADデータに加え、図4
(B)の分解データ303と同じ形式でスルーホールの
分解データが格納され、さらに、図8(A)に示すよう
な肉付図形リストが格納されている。このリストでは、
識別コードに対応して孔ずれ許容範囲と孔面積許容範囲
との2種類の許容範囲(許容範囲の下限値と上限値)が
付加されている。外部記憶装置30から読み出されたC
ADデータは、バッファメモリ31に読み出され、展開
部35Aはこれを、リード及びランドの参照パターンの
ビットマップに展開して参照パターンメモリ36Aに書
き込み、スルーホールの参照パターンのビットマップに
展開して参照パターンメモリ36Bに書き込み、スルー
ホールの参照スケルトンのビットマップに展開して参照
スケルトンメモリ36に書き込む。
【0045】図8(B)は、パターンメモリ24内のパ
ターンとパターンメモリ24A内のパターンとを重ね合
わせたものであり、図8(C)は参照パターンメモリ3
6A内のパターンと参照パターンメモリ36B内のパタ
ーンとを重ね合わせたものである。検査パターンの検査
パターン245は参照パターンの参照パターン365に
対応している。
【0046】参照スケルトンメモリ36の画素は、次の
ようなスケルトンワードで表される。 Q,(識別コード) ランドフラグQは、スルーホールのスケルトン画素のと
き‘1’、その他のとき‘0’である。識別コードは図
8(A)中の識別コードである。
【0047】位置合わせ部37は、パターンメモリ24
内のパターンと参照パターンメモリ36A内のパターン
とのマッチングを行って上記同様の座標変換係数を求
め、これをレジスタ38に格納する。位置合わせ部37
Aは、パターンメモリ24A内のパターンと参照パター
ンメモリ36B内のパターンとのマッチングを行って上
記同様の座標変換係数を求め、これをレジスタ38Aに
格納する。
【0048】スルーホールの検査は、孔面積検査部50
及び孔ずれ検査部51で行われる。孔ずれ検査部51で
の処理を、図9に基づいて説明する。リード及びランド
について、図9(A)に示す参照パターンと図9(B)
に示す検査パターンとのマッチング度が最大となる位置
合わせを、図9(C)に示すように行う。この位置合わ
せ状態で、検査パターン245のスケルトン245aの
X座標と参照パターン365のスケルトン365aのX
座標との差ΔX及び検査スケルトン245aのY座標と
参照スケルトン365aのY座標との差ΔYを、孔ずれ
量として求める。ΔX及びΔYのいずれかが、スケルト
ンワード中の識別コードで検索した図8(A)の孔ずれ
許容範囲を越えていれば、孔ずれ欠陥と判定する。欠陥
出力処理は、第1実施形態の場合と同様である。
【0049】孔ずれ量は、図7において、次のようにし
て求める。すなわち、上記第1実施形態と同様にスケル
トンメモリ26A内でラスタスキャンし、‘1’である
スケルトン画素を検出したとき、その位置をレジスタ3
8で座標変換し、座標変換された参照スケルトンメモリ
36内の画素位置を原点(0,0)としたとき、その付
近に存在するスケルトン画素の位置(−ΔX,−ΔY)
を孔ずれ量として求める。
【0050】次に、孔面積検査部50での処理を、図1
0に基づいて説明する。スルーホルについて、図10
(A)に示す参照パターンと図10(B)に示す検査パ
ターンとのマッチング度が最大となる位置合わせを、図
10(C)に示すように行う。この位置合わせ状態で、
検査パターン245と参照パターン365との対応する
画素のビット値の差−1、0又は1の合計値が、スケル
トンワード中の識別コードで検索した図8(A)の孔面
積許範囲を越えていれば、孔面積欠陥と判定する。この
差は、いわば符号付排他的論理和である。
【0051】この差合計値は、図7において、次のよう
にして求める。すなわち、上記孔ずれ検査と同様にスケ
ルトンメモリ26A内でラスタスキャンし、‘1’であ
るスケルトン画素を検出したとき、その位置R1をレジ
スタ38Aで座標変換して位置R2を求め、パターンメ
モリ24A内の画像の位置R1を中心とする所定サイズ
の正方形領域の部分画像と、参照パターンメモリ36B
内の画像の位置R2を中心とする該サイズの正方形領域
の部分画像との符号付排他的論理和を演算し、その各画
素についての結果の合計値を求める。
【0052】本第2実施形態によれば、スルーホールに
ついて、分解データに含まれる識別コードによってその
肉付図形のサイズのみならず孔ずれ及び孔面積の許容範
囲も定められるので、全てのパターンについて許容範囲
が画一的であった従来よりも、正確にパターン検査を行
うことが可能となる。また、肉付図形リストのレコード
数は分解データの数に比し遥かに少ないので、パターン
サイズに応じて許容範囲を付加することによるデータ量
の増大は僅かである。
【0053】なお、本発明には外にも種々の変形例が含
まれる。例えば、図1のスケルトンメモリ26内の検査
スケルトン画素に、これに対応したパターンメモリ24
内のパターン幅測長値を付加しておくことにより、リー
ド検査部40及びランド検査部41での処理を高速化し
てもよい。また、分解データ及び肉付図形リストは、表
現形式が異なっていても実質的に上述の内容であればよ
い。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施形態のパターン検査装置概略
図である。
【図2】図1中のリード検査部での処理を示すフローチ
ャートである。
【図3】図1中のランド検査部での処理を示すフローチ
ャートである。
【図4】CADデータ説明図である。
【図5】図2の処理の説明図である。
【図6】図3の処理の説明図である。
【図7】本発明の第2実施形態のパターン検査装置概略
図である。
【図8】スルーホール検査で用いられる肉付図形リス
ト、検査パターン及び参照パターンの例を示す図であ
る。
【図9】図7の装置での孔ずれ検査説明図である。
【図10】図7の装置での孔面積検査説明図である。
【図11】従来技術の問題点説明図である。
【符号の説明】
10 試料 11、12、13 リードパターン 20、21 光源 22 撮像装置 23、23A 2値画像入力回路 24、24A パターンメモリ 25 スケルトン作成部 26、26A スケルトンメモリ 30、44 外部記憶装置 31 バッファメモリ 35、35A 展開部 36 参照スケルトンメモリ 36A、36B 参照パターンメモリ 37、37A 位置合わせ部 38、38A レジスタ 40 リード検査部 41 ランド検査部 42 ノアゲート 43 欠陥出力部 50 孔面積検査部 51 孔ずれ検査部 410L 上限枠 410S 下限枠

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 試料上のパターンの画像を検査パターン
    として第1記憶部に格納し、格納された該検査パターン
    を参照パターンと比較して検査を行うパターン検査方法
    において、 (1)該参照パターンを、肉付図形の識別コードと該肉
    付図形の移動範囲の端点を示す座標との組を含む分解デ
    ータで表わして、第2記憶部に格納しておき、 (2)該識別コードを、該肉付図形の形状及びサイズと
    該サイズの許容範囲とに対応させて第3記憶部に格納し
    ておき、 (3)該第2記憶部から該検査パターンに対応する該分
    解データを読み出し、該分解データの該識別コードを参
    照して該第3記憶部から対応するデータを読み出し、該
    検査パターンのサイズが該参照パターンのサイズの許容
    範囲内にあるかどうかを判定することにより、該検査パ
    ターンを検査する、ことを特徴とするパターン検査方
    法。
  2. 【請求項2】 上記工程(3)では、 (3−1)上記検査パターンから、その中心線を抽出し
    た検査スケルトンを作成して、第4記憶部に格納し、 (3−2)上記第2記憶部から上記分解データを読み出
    し該検査スケルトンに対応した参照スケルトンを作成し
    て、第5記憶部に格納し、 (3−3)該第4記憶部からデータを順次読み出し、そ
    のデータに該検査スケルトンの構成画素が含まれていれ
    ば、該構成画素に対応した該参照スケルトンの構成画素
    が該第4記憶部内に存在するかどうかを調べ、存在すれ
    ば、該検査スケルトンの構成画素に対応した該検査パタ
    ーンのサイズが該参照スケルトンの構成画素に対応した
    参照パターンのサイズの許容範囲内にあるかどうかを判
    定する、 ことを特徴とする請求項1記載のパターン検査方法。
  3. 【請求項3】 上記工程(3−2)では、上記参照スケ
    ルトンの構成画素に、対応する上記識別コードを付加し
    て上記第4記憶部に格納し、 上記工程(3−3)では、付加された該識別コードを参
    照して上記第3記憶部から対応するデータを読み出し、
    上記検査パターンのサイズが上記参照パターンのサイズ
    の許容範囲内にあるかどうかを判定する、 ことを特徴とする請求項2記載のパターン検査方法。
  4. 【請求項4】 上記工程(3−3)では、上記参照スケ
    ルトンの構成画素が上記第4記憶部内に存在すると判定
    した後に、上記検査スケルトンの構成画素に対応した上
    記検査パターンのサイズを測長する、 ことを特徴とする請求項3記載のパターン検査方法。
  5. 【請求項5】 上記工程(3−1)では、上記検査スケ
    ルトンの構成画素に、該構成画素に対応する上記検査パ
    ターンのサイズを付加して上記第4記憶部に格納する、 ことを特徴とする請求項3記載のパターン検査方法。
  6. 【請求項6】 上記検査パターン及び上記参照パターン
    は、プリント配線板のリードパターンとランドパターン
    とを含み、 上記工程(3−2)では、上記参照スケルトンの構成画
    素にさらに、該構成画素がリードパターンに対応してい
    るかどうかを示すリードフラグと、該構成画素がランド
    パターンに対応しているかどうかを示すランドフラグと
    を付加して上記第4記憶部に格納し、該参照スケルトン
    の構成画素がリードパターンに対応し且つランドパター
    ンの許容範囲に含まれる場合には両パターンに対応して
    いるように該リードフラグ及び該ランドフラグを設定
    し、 上記工程(3−3)では、該リードフラグがリードパタ
    ーンであることを示し且つ該ランドフラグがランドパタ
    ーンであることを示している場合には、リードパターン
    としての検査及びランドパターンとしての検査を行い、
    両検査の結果のいずれかが良であれば該検査パターンが
    良であると判定する、 ことを特徴とする請求項3乃至5のいずれか1つに記載
    のパターン検査方法。
  7. 【請求項7】 上記工程(3−3)では、上記リードパ
    ターンの検査と上記ランドパターンの検査とをそれぞれ
    リードパターン検査部とランドパターン検査部とで並列
    して処理する、 ことを特徴とする請求項6記載のパターン検査方法。
  8. 【請求項8】 試料に形成されたスルーホールのパター
    ンの画像を検査パターンとして第1記憶部に格納し、格
    納された該検査パターンをスルーホールの参照パターン
    と位置合わせし、両パターンの一致面積に基づいてスル
    ーホールの孔面積を検査するパターン検査方法であっ
    て、 (1)該参照パターンを、肉付図形の識別コードと該肉
    付図形の配置点を示す座標との組を含む分解データで表
    わして、第2記憶部に格納しておき、 (2)該識別コードを、該肉付図形のサイズと孔一致面
    積許容範囲とに対応させて第3記憶部に格納しておき、 (3)該第2記憶部から該検査パターンに対応する該分
    解データを読み出し、該分解データの該識別コードを参
    照して該第3記憶部から対応するデータを読み出し、該
    検査パターンと該参照パターンの孔一致面積が孔一致面
    積許容範囲内にあるかどうかを判定することにより、該
    検査パターンを検査する、 ことを特徴とするパターン検査方法。
  9. 【請求項9】 試料上のリードパターン及びランドパタ
    ーンの画像を第1検査パターンとして第1記憶部に格納
    し、該試料に形成されたスルーホールのパターンの画像
    を第2検査パターンとして第2記憶部に格納し、格納さ
    れた該第1検査パターンをリードパターン及びランドパ
    ターンの第1参照パターンと位置合わせし、該位置合わ
    せの関係を、格納された該第2検査パターンとスルーホ
    ールの第2参照パターンとに適用し、該第2検査パター
    ンのスケルトンと該第2参照パターンのスケルトンとの
    間の距離に基づいてスルーホールの孔ずれを検査するパ
    ターン検査方法であって、 (1)該第2参照パターンを、肉付図形の識別コードと
    該肉付図形の配置点を示す座標との組を含む分解データ
    で表わして、第3記憶部に格納しておき、 (2)該識別コードを、該肉付図形のサイズと孔ずれ許
    容範囲とに対応させて第4記憶部に格納しておき、 (3)該第3記憶部から該第2検査パターンに対応する
    該分解データを読み出し、該分解データの該識別コード
    を参照して該第4記憶部から対応するデータを読み出
    し、該第2検査パターンのスケルトンと該第2参照パタ
    ーンのスケルトンとの間の距離が孔ずれ許容範囲内にあ
    るかどうかを判定することにより、該第2検査パターン
    を検査する、 ことを特徴とするパターン検査方法。
  10. 【請求項10】 試料上のパターンの画像を検査パター
    ンとして第1記憶部に格納し、格納された該検査パター
    ンを参照パターンと比較して検査を行うパターン検査装
    置において、 該参照パターンが、肉付図形の識別コードと該肉付図形
    の移動範囲の端点を示す座標との組を含む分解データで
    表わされて格納された第2記憶部と、 該識別コードが、該肉付図形の形状及びサイズと該サイ
    ズの許容範囲とに対応して格納された第3記憶部と、 該第2記憶部から該検査パターンに対応する該分解デー
    タを読み出し、該分解データの該識別コードを参照して
    該第3記憶部から対応するデータを読み出し、該検査パ
    ターンのサイズが該参照パターンのサイズの許容範囲内
    にあるかどうかを判定する処理部と、 を有することを特徴とするパターン検査装置。
  11. 【請求項11】 試料に形成されたスルーホールのパタ
    ーンの画像を検査パターンとして第1記憶部に格納し、
    格納された該検査パターンをスルーホールの参照パター
    ンと位置合わせし、両パターンの一致面積に基づいてス
    ルーホールの孔面積を検査するパターン検査装置であっ
    て、 該参照パターンが、肉付図形の識別コードと該肉付図形
    の配置点を示す座標との組を含む分解データで表わされ
    て格納された第2記憶部と、 該識別コードが、該肉付図形のサイズと孔一致面積許容
    範囲とに対応して格納された第3記憶部と、 該第2記憶部から該検査パターンに対応する該分解デー
    タを読み出し、該分解データの該識別コードを参照して
    該第3記憶部から対応するデータを読み出し、該検査パ
    ターンと該参照パターンの孔一致面積が孔一致面積許容
    範囲内にあるかどうかを判定する処理部と、 を有することを特徴とするパターン検査装置。
  12. 【請求項12】 試料上のリードパターン及びランドパ
    ターンの画像を第1検査パターンとして第1記憶部に格
    納し、該試料に形成されたスルーホールのパターンの画
    像を第2検査パターンとして第2記憶部に格納し、格納
    された該第1検査パターンをリードパターン及びランド
    パターンの第1参照パターンと位置合わせし、該位置合
    わせの関係を、格納された該第2検査パターンとスルー
    ホールの第2参照パターンとに適用し、該第2検査パタ
    ーンのスケルトンと該第2参照パターンのスケルトンと
    の間の距離に基づいてスルーホールの孔ずれを検査する
    パターン検査方法であって、 該第2参照パターンが、肉付図形の識別コードと該肉付
    図形の配置点を示す座標との組を含む分解データで表わ
    されて格納された第3記憶部と、 該識別コードが、該肉付図形のサイズと孔ずれ許容範囲
    とに対応して格納された第4記憶部と、 該第3記憶部から該第2検査パターンに対応する該分解
    データを読み出し、該分解データの該識別コードを参照
    して該第4記憶部から対応するデータを読み出し、該第
    2検査パターンのスケルトンと該第2参照パターンのス
    ケルトンとの間の距離が孔ずれ許容範囲内にあるかどう
    かを判定する処理部と、 を有することを特徴とするパターン検査装置。
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