JP2007284540A - ポリカーボネート樹脂組成物及びその成形板 - Google Patents

Abstract

【課題】中赤外線領域を遮蔽し、かつ透明性、熱安定性に優れたポリカーボネート樹脂組成物及びその成形板を提供すること。
【解決手段】ポリカーボネート、高分子系分散剤にて処理されてなるアンチモンドープ酸化錫微粒子（ＡＴＯ）及び／又は高分子系分散剤にて処理されてなる錫ドープ酸化インジウム微粒子（ＩＴＯ）、及び分子内にアルコキシ基を１個以上有し、かつフェニル基を有する反応性シリコーン化合物を特定の割合で配合してなるポリカーボネート樹脂組成物、及びそのポリカーボネート樹脂組成物を射出成形又は押出し成形してなる成形板である。
【選択図】なし

Description

本発明は、ポリカーボネート樹脂組成物及びその成形板に関し、より詳しくは、中赤外線領域を遮蔽し、熱安定性及び透明性に優れ、建材（エクステリア）、樹脂性窓、電気、電子用窓部品として好適なポリカーボネート樹脂組成物及びその成形板に関する。

赤外線を効率良くカットすることにより、太陽光や赤外線ランプ等による温度上昇を防止することができるフィルムやシートが知られている。
ポリカーボネートは衝撃性、耐熱性、透明性に優れており、建材等の透明板として広く使用され、ポリカーボネートに赤外線吸収材を配合した透明板が知られている。
しかし、このような透明板は、赤外線吸収材に起因する樹脂の劣化や赤外線吸収材自身の劣化、さらには赤外線吸収材の分散不良を生じるために、中赤外線領域（波長領域１５００〜２５００ｎｍ）を遮蔽した透明性、熱安定性に優れた熱線遮蔽板を得ることは困難であった。
そのために透明板を得る方法としては、共押出しにより中赤外線遮蔽材を含む他の樹脂をポリカーボネートのシート表層に積層する方法や、赤外線吸収材を含む塗料を塗布したフィルムをポリカーボネートのシートに貼り合わせる方法等がとられている
しかし、これらのシート成形品は、形状の自由度がなく、共押出し工程、又は塗料の塗布やフィルムを貼り合わせる工程を要するために高コストにつながるという問題がある。
そこで、中赤外線領域を遮蔽でき、成形品が押出成形又は射出成形によって得られるポリカーボネート樹脂組成物が求められている。
例えば、アンチモンドープ酸化錫微粒子（ＡＴＯ）や錫ドープ酸化インジウム微粒子（ＩＴＯ）等を分散剤とともに含有させる方法により得られたポリカーボネート樹脂組成物が提案されている（例えば、特許文献１及び２参照）。該分散剤としては、低分子のステアリン酸やグリセリンモノステアレート等が例示されている。しかし、この方法により得られたポリカーボネート樹脂組成物は、透明性（ヘーズ：曇り度）や熱安定性が満足できるものではなく、実用的ではない。

特開２０００−２３４０６６号公報 特開２０００−１７８４２８号公報

本発明は、中赤外線領域を遮蔽し、かつ透明性、熱安定性に優れたポリカーボネート樹脂組成物及びその成形板を提供することを目的とする。

本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討した結果、ポリカーボネート、高分子系分散剤にて処理されてなるアンチモンドープ酸化錫微粒子（ＡＴＯ）及び／又は高分子系分散剤にて処理されてなる錫ドープ酸化インジウム微粒子（ＩＴＯ）、及び分子内にアルコキシ基を１個以上有し、かつフェニル基を有する反応性シリコーン化合物を特定の割合で配合してなるポリカーボネート樹脂組成物、及びその成形板により、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、以下の（１）〜（９）を提供するものである。
（１）（Ａ）ポリカーボネート１００質量部に対して、（Ｂ）高分子系分散剤にて処理されてなるアンチモンドープ酸化錫微粒子（ＡＴＯ）及び／又は高分子系分散剤にて処理されてなる錫ドープ酸化インジウム微粒子（ＩＴＯ）０．０３〜１質量部、及び（Ｃ）分子内にアルコキシ基を１個以上有し、かつフェニル基を有する反応性シリコーン化合物０．０３〜１質量部を含むことを特徴とするポリカーボネート樹脂組成物。
（２）（Ａ）ポリカーボネート１００質量部に対して、（Ｄ）酸化防止剤０．０００１〜１質量部を含むことを特徴とする上記（１）に記載のポリカーボネート樹脂組成物。
（３）（Ａ）ポリカーボネート１００質量部に対して、（Ｅ）紫外線吸収剤０．０００１〜１質量部を含むことを特徴とする上記（１）又は（２）に記載のポリカーボネート樹脂組成物。
（４）（Ａ）ポリカーボネート１００質量部に対して、（Ｆ）六ホウ化ランタン含有熱線遮蔽材０．００１〜０．１質量部を含むことを特徴とする上記（１）〜（３）のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂組成物。
（５）上記（１）〜（３）のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂組成物を射出成形又は押出成形してなることを特徴とする成形板。
（６）波長１５００〜２５００ｎｍの領域での光線透過率が２０％未満であって、かつ、ヘーズが５％未満であることを特徴とする上記（５）に記載の成形板。
（７）全光線透過率（Ｃ光源）が１５％以上であることを特徴とする上記（５）又は（６）に記載の成形板。
（８）上記（４）に記載のポリカーボネート樹脂組成物を射出成形又は押出成形してなる成形板であって、波長１５００〜２５００ｎｍの領域での光線透過率が２０％未満であり、波長１０００ｎｍにおける光線透過率が２０％未満であり、かつ、ヘーズが５％未満であることを特徴とする成形板。
（９）全光線透過率（Ｃ光源）が１５％以上であることを特徴とする上記（８）に記載の成形板。

本発明によれば、中赤外線領域を遮蔽し、かつ透明性、熱安定性に優れたポリカーボネート樹脂組成物及びその成形板を得ることができる。

〔（Ａ）ポリカーボネート〕
本発明に用いる（Ａ）ポリカーボネートとしては、特に制限はなく種々のものを挙げることができる。通常、二価フェノールとカーボネート前駆体との反応により製造される芳香族ポリカーボネートを用いることができる。二価フェノールとカーボネート前駆体とを溶液法又は溶融法、すなわち、二価フェノールとホスゲンとを反応させる界面重縮合法、又は二価フェノールとジフェニルカーボネート等とを反応させるエステル交換法により製造されたものを用いることができる。

二価フェノールとしては、様々なものを挙げられるが、特に２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン〔ビスフェノールＡ〕、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン等のビス（ヒドロキシフェニル）アルカン系、４，４'−ジヒドロキシジフェニル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロアルカン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）オキシド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホキシド、及びビス（４−ヒドロキシフェニル）ケトン等が挙げられる。
二価フェノールとしては、好ましくはビス（ヒドロキシフェニル）アルカン系、特に好ましくはビスフェノールＡを主原料としたものである。

カーボネート前駆体としては、カルボニルハライド、ハロホーメート又はカルボニルエステル等であり、具体的にはホスゲン、二価フェノールのジハロホーメート、ジフェニルカーボネート、ジメチルカーボネート及びジエチルカーボネート等である。この二価フェノールとしては、ハイドロキノン、レゾルシン及びカテコール等が挙げられる。これらの二価フェノールは、１種を単独で用いても、又は２種以上を混合して用いてもよい。

本発明に用いられる（Ａ）ポリカーボネートは、未封止の水酸基末端を含有していてもよく、その他の末端は、ポリカーボネートの製造で常用されている末端封止剤で封止されていてもよい。
末端封止剤としては、フェノール、ｐ−クレゾール、ｐ−ｔ−ブチルフェノール、ｐ−ｔ−オクチルフェノール、ｐ−クミルフェノール、ｐ−ノニルフェノール、ｐ−ｔ−アミルフェノール、ブロモフェノール及びトリブロモフェノール、ペンタブロモフェノール等が挙げられる。

本発明に用いられる（Ａ）ポリカーボネートは、分岐構造等を有していてもよい。
分岐剤としては、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、α，α'，α’’−トリス（４−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリイソプロピルベンゼン、フロログリシン、トリメリット酸及びイサチンビス（ｏ−クレゾール）等が挙げられる。
また、分子量を調節のために、フェノール、ｐ−ｔ−ブチルフェノール、ｐ−ｔ−オクチルフェノール及びｐ−クミルフェノール等が用いられる。

本発明に用いられる（Ａ）ポリカーボネートの粘度平均分子量（Ｍｖ）は、好ましくは１０，０００〜５０，０００の範囲である。粘度平均分子量が５０，０００以下であると、十分な透明性が得られ、成形加工性が向上する。１０，０００以上であると、十分な強度や透明性が得られる。この粘度平均分子量としては、より好ましくは１２，０００〜４０，０００の範囲、特に好ましくは１４，０００〜３０，０００である。
この粘度平均分子量（Ｍｖ）は、ウベローデ型粘度計を用いて、２０℃における塩化メチレン溶液の粘度を測定し、これより極限粘度［η］を求め、次式にて算出するものである。
［η］＝１．２３×１０^-5Ｍｖ^0.83

〔（Ｂ）高分子系分散剤にて処理されてなるＡＴＯ及び／又はＩＴＯ〕
本発明に用いる（Ｂ）成分としては、高分子系分散剤にて処理されてなるアンチモンドープ酸化錫微粒子（ＡＴＯ）及び／又は高分子系分散剤にて処理されてなる錫ドープ酸化インジウム微粒子（ＩＴＯ）である。

アンチモンドープ酸化錫微粒子（ＡＴＯ）としては、酸化錫と酸化アンチモンの固溶体であり、アンチモン含有量が、ＡＴＯに対して通常１〜２０質量％の範囲、好ましくは５〜２０質量％の範囲であるＡＴＯが挙げられる。
錫ドープ酸化インジウム微粒子（ＩＴＯ）としては、錫原子の含有量が、ＩＴＯに対して通常３０質量％以下、好ましくは１〜２０質量％の範囲であるＩＴＯが挙げられる。
ＡＴＯ及びＩＴＯの平均一次粒子径は、通常０．００１〜０．１５μｍである。この範囲内にあれば、成形板のヘーズが増大することがなく好適である。該平均一次粒子径としては、好ましくは０．００１〜０．１μｍである。
これらのＡＴＯ及びＩＴＯには、必要に応じてシランカップリング剤処理、ケイ酸コーティング等、公知の表面処理を行うことができる。

高分子系分散剤としては、ポリアクリレート系分散剤、ポリエステル系分散剤、ポリウレタン系分散剤、ポリエーテル系分散剤、及びポリエステルウレタン系分散剤等が挙げられる。
ポリアクリレート系分散剤としては、サンノプコ（ＳＡＮ ＮＯＰＫＯ）(株)製「ＳＮシックナーＡ−８５０、ＳＮシックナーＡ−８１５」（いずれも商品名）、エフカアディティブズ（ＥＦＫＡ ＡＤＤＩＴＩＶＥＳ Ｂ．Ｖ．）社製「ＥＦＫＡ４５００、ＥＦＫＡ４５３０」（いずれも商品名）、ビックケミー（ＢＹＫ−Ｃｈｅｍｉｅ）社製「Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１１６」（商品名）、楠本化成（株）製「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ ＤＮ９００」（商品名）等が例示される。
ポリエステル系分散剤としては、アビシア（Ａｖｅｃｉａ）社製「Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ２２０００、Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ２４０００ＳＣ、Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ２４０００ＧＲ、Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ２６０００、Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ２７０００、Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ２８０００、Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ３６０００、Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ３６６００、Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ３８５００」（いずれも商品名）、楠本化成（株）製「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ ＤＡ７０３５０、ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ ＤＡ７０５、ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ ＤＡ７２５、ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ ＤＡ８６０、ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ ＤＡ８７３Ｎ、ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ ＤＡ３７５」（いずれも商品名）等が例示される。

ポリウレタン系分散剤としては、エフカアディティブズ社製「ＥＦＫＡ４０４６、ＥＦＫＡ４０４７、ＥＦＫＡ４５２０」（いずれも商品名）、コグニス（Ｃｏｇｎｉｓ）社製「ＴＥＸＡＰＨＯＲ Ｐ６０、ＴＥＸＡＰＨＯＲ Ｐ６３、ＴＥＸＡＰＨＯＲ Ｐ６１０」（いずれも商品名）等が例示される。
ポリエーテル系分散剤としては、サンノプコ（株）製「ＳＮシックナーＡ−８０１、ＳＮシックナーＡ−８０２、ＳＮシックナーＡ−８０３、ＳＮシックナーＡ−８０４、ＳＮシックナーＡ−８０６」（いずれも商品名）、楠本化成（株）製「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ ＤＡ２３４、ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ ＤＡ３２５」（いずれも商品名）等が例示さる。
これらの高分子系分散剤としては、１種を単独でも、又は２種以上を混合して用いてもよい。
これらの高分子系分散剤としては、熱安定性、耐加水分解性の観点から、ポリアクリレート系分散剤及びポリエステル系分散剤が好ましい。
なお、高分子系分散剤の常温での状態としては、液体、固体、ゲル状のいずれの状態のものも用いることができる。

本発明に用いる（Ｂ）成分は、通常、ＡＴＯ及び／又はＩＴＯに高分子系分散剤を配合して処理することにより分散体として得られるものである。この処理方法としては、特に制限はないが、以下の方法が例示できる。
例えば、ＡＴＯ及び／又はＩＴＯに、高分子系分散剤を配合し、均一に撹拌混合する方法や、溶剤に分散させたＡＴＯ及び／又はＩＴＯに、溶剤に溶解した高分子系分散剤を配合し、混合撹拌した後、溶剤を加熱フラッシュして除去する方法等が挙げられる。なお、上記の溶剤を用いる方法の場合、湿式ビーズミル等により粒子の分散を維持しながら混合撹拌してもよい。
これらの方法において、高分子系分散剤の配合量としては、ＡＴＯ及び／又はＩＴＯ１質量部に対して、通常０．３〜１０質量部の範囲である。０．３質量部以上であると、ＡＴＯ及び／又はＩＴＯを、ポリカーボネート樹脂組成物中に凝集等が生じることなく均一に分散させることができる。また、ヘーズが増大することがなく透明性が良好となる。１０質量部以下であると、樹脂の熱安定性や機械物性の低下を抑えることができる。高分子系分散剤の配合量としては、好ましくは０．５〜７質量部の範囲である。
また、上記の処理方法としては、例えば、ＡＴＯ及び／又はＩＴＯをメチルメタクリレート等の重合性モノマー中に分散させた状態で、該モノマーを重合させて、得られた重合体中にＡＴＯ及び／又はＩＴＯを分散させる方法が挙げられる。この方法による場合、該モノマーの配合量としては、該モノマーの重合体の配合量が、上記の高分子系分散剤の配合量の範囲内となるように調製することが好ましい。

本発明において、（Ｂ）成分の配合量としては、（Ａ）ポリカーボネート１００質量部に対して、通常０．０３〜1質量部の範囲である。０．０３質量部以上であると、中赤外線領域の遮蔽効果が良好に発揮される。１質量部以下であると、機械物性及び熱安定性が向上し、またヘーズが増大することがなく透明性が良好となる。（Ｂ）成分の配合量としては、好ましくは０．０３〜０．５質量部の範囲である。

〔（Ｃ）反応性シリコーン化合物〕
本発明に用いる（Ｃ）分子内にアルコキシ基を１個以上有し、かつフェニル基を有する反応性シリコーン化合物としては、その分子の主鎖における珪素原子にフェニル基が結合した形態を有し、その分子末端又はその側鎖にアルコキシ基を１個以上有する反応性シリコーン化合物が好ましい。具体的な化合物としては、ポリメチルフェニルシロキサン構造やポリジフェニルシロキサン構造からなる主鎖を有し、その分子末端又はその側鎖にアルコキシ基を１個以上有する反応性シリコーン化合物が挙げられる。
また、このシリコーン化合物としては、その数平均分子量が２００以上であるものが好ましく、５００〜５，０００，０００の範囲のものがより好ましい。そして、その形態としては、オイル状、ワニス状、ガム状、粉末状、ペレット状等の任意のものを用いることができる。
また、このシリコーン化合物としては、その屈折率が１．４５〜１．６の範囲にあるものが好ましい。屈折率がこの範囲内にあると、ヘーズが増大することがなく透明性が良好となり好適である。このような屈折率を持つ（Ｃ）成分としては、信越化学製「ＫＲ５１１」（商品名、屈折率＝１．５１８）、東レダウコーニング社製「ＤＣ３０３７」（商品名、屈折率＝１．４９）等が挙げられる。
（Ｃ）成分としては、１種を単独でも、又は２種以上を組み合わせて用いてもよく、（Ｃ）成分が混合物である場合でも、該混合物の屈折率が１．４５〜１．６の範囲であればよい。

本発明において、（Ｃ）成分の配合量としては、（Ａ）ポリカーボネート１００質量部に対して、通常０．０３〜１質量部の範囲である。（Ｃ）成分の配合量が上記範囲内にあると、十分な熱安定性が得られ、しかも、成形時にシルバーが発生することなく外観が良好となる。（Ｃ）成分の配合量としては、好ましくは０．０５〜０．６質量部の範囲である。

本発明のポリカーボネート樹脂組成物においては、本発明の目的が損なわれない範囲で、この（Ｃ）成分の反応性シリコーン化合物と共に、他のシリコーン化合物を、必要に応じて含有させることができる。
他のシリコーン化合物としては、例えば、東レ・ダウコーニング社製「ＳＨ１１０７（屈折率１．３９６）、ＳＲ２４０２、ＢＹ１６−１６０，ＢＹ１６−１６１」（いずれも商品名、アルキル水素シリコーン）等が例示できる。他のシリコーン化合物の屈折率は、上記の範囲内にあるものが好ましいが、（Ｃ）成分との混合物としての屈折率が上記の範囲内にあればよい。

〔（Ｄ）酸化防止剤〕
本発明のポリカーボネート樹脂組成物には、必要に応じて、（Ｄ）酸化防止剤を配合することができる。（Ｄ）酸化防止剤としては、リン系酸化防止剤やフェノール系酸化防止剤が好適に用いられる。これらは、１種を単独でも又は２種以上を組み合わせても用いることができる。
このリン系酸化防止剤としては、例えば、トリフェニルホスファイト、ジフェニルノニルホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリスノニルフェニルホスファイト、ジフェニルイソオクチルホスファイト、２，２'−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、ジフェニルモノ（トリデシル）ホスファイト、２，２'−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）フルオロホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、フェニルジ（トリデシル）ホスファイト、トリス（２−エチルヘキシル）ホスファイト、トリス（イソデシル）ホスファイト、トリス（トリデシル）ホスファイト、ジブチルハイドロジェンホスファイト、トリラウリルトリチオホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４'−ビフェニレンジホスホナイト、４，４'−イソプロピリデンジフェノールドデシルホスファイト、４，４'−イソプロピリデンジフェノールトリデシルホスファイト、４，４'−イソプロピリデンジフェノールテトラデシルホスファイト、４，４'−イソプロピリデンジフェノールペンタデシルホスファイト、４，４'−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェニル）ジトリデシルホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジステアリル−ペンタエリスリトールジホスファイト、フェニルビスフェノールＡペンタエリスリトールジホスファイト、テトラフェニルジプロピレングリコールジホスファイト、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ジ−トリデシルホスファイト−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、３，４，５，６−ジベンゾ−１，２−オキサホスファン、トリフェニルホスフィン、ジフェニルブチルホスフィン、ジフェニルオクタデシルホスフィン、トリス−（ｐ−トリル）ホスフィン、トリス−（ｐ−ノニルフェニル）ホスフィン、トリス−（ナフチル）ホスフィン、ジフェニル−（ヒドロキシメチル）−ホスフィン、ジフェニル−（アセトキシメチル）−ホスフィン、ジフェニル−（β−エチルカルボキシエチル）−ホスフィン、トリス−（ｐ−クロロフェニル）ホスフィン、トリス−（ｐ−フルオロフェニル）ホスフィン、ジフェニルベンジルホスフィン、ジフェニル−β−シアノエチルホスフィン、ジフェニル−（ｐ−ヒドロキシフェニル）−ホスフィン、ジフェニル−１，４−ジヒドロキシフェニル−２−ホスフィン、フェニルナフチルベンジルホスフィン等が挙げられる。

フェノール系酸化防止剤としては、例えば、ｎ−オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，２'−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕等のヒンダードフェノール類が挙げられる。
これらの（Ｄ）酸化防止剤の中で、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト等のペンタエリスリトールジホスファイト構造を持つものやトリフェニルホスフィンが好ましい。

本発明において、（Ｄ）酸化防止剤の配合量は、（Ａ）ポリカーボネート１００質量部に対して、通常０．０００１〜１質量部の範囲である。０．０００１質量部以上であると、成形時の熱安定性が良好となり、色調が安定する。１質量部以下であると、効果と経済性のバランスが良好となる。（Ｄ）酸化防止剤の配合量としては、好ましくは０．００１〜０．６質量部の範囲である。

〔（Ｅ）紫外線吸収剤〕
本発明のポリカーボネート樹脂組成物には、必要に応じて、（Ｅ）紫外線吸収剤を配合することができる。（Ｅ）紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系、サリチレート系、マロン酸エステル系、オキサリルアラニド系、トリアジン系、ベンゾフェノン系、シアノアクリレート系等の各種化合物が挙げられる。これらは、１種を単独でも又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
ベンゾトリアゾール系化合物としては、２−（２'−ヒドロキシ−５'−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−５'−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−５'−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−３'，５'−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−３'，５'−ジ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−３'−ドデシル−５'−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−３'，５'−ジクミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２'−メチレンビス〔４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール〕等が挙げられる。
サリチレート系化合物としては、フェニルサリチレート、ｐ−ｔ−ブチルフェニルサリチレート、ｐ−オクチルフェニルサリチレート等が挙げられる。
マロン酸エステル系化合物としては、ベンジリデンビスジエチルマロネート、４−メトキシフェニル−メチレン−ジメチルエステル等が挙げられる。
オキサリルアラニド系化合物としては、炭素数１〜１２の炭化水素基を有するオキサリルアラニド化合物等が挙げられる。

本発明において、（Ｅ）紫外線吸収剤の配合量は、（Ａ）ポリカーボネート１００質量部に対して、通常０．０００１〜１質量部の範囲である。０．０００１質量部以上であると、耐候性が良好となり、屋外での使用時に変色が抑制される。１質量部以下であると、効果と経済性のバランスが良好となる。（Ｅ）紫外線吸収剤の配合量としては、好ましくは０．０１〜０．８質量部の範囲である。

〔（Ｆ）六ホウ化ランタン含有熱線遮蔽材〕
本発明のポリカーボネート樹脂組成物には、必要に応じて、（Ｆ）六ホウ化ランタン含有熱線遮蔽材を配合することができる。（Ｆ）六ホウ化ランタン含有熱線遮蔽材としては、六ホウ化ランタン微粒子を高分子分散剤中に分散させたものを例示でき、具体的には、住友金属鉱山（株）製「ＫＨＤＳ−０６」(商品名)が挙げられる。
六ホウ化ランタン含有熱線遮蔽材は、波長１０００ｎｍ付近の光を反射吸収して遮蔽し、波長３８０〜７８０ｎｍ（可視光部）の光を透過する特性を有している。六ホウ化ランタン含有熱線遮蔽材の詳細については、特開２００３−２７７０４５号公報、及び特開２００３−３２７７１７号公報に記載されている。

本発明において、（Ｆ）六ホウ化ランタン含有熱線遮蔽材の配合量は、（Ａ）ポリカーボネート１００質量部に対して、通常０．００１〜０．１質量部の範囲である。０．００１質量部以上であると、波長１０００ｎｍ付近の光の吸収効果が十分に得られ、０．１質量部以下であると、可視光部の光線透過率の低下を抑えることができる。（Ｆ）六ホウ化ランタン含有熱線遮蔽材の配合量としては、好ましくは０．００３〜０．０７質量部の範囲である。

〔添加剤〕
本発明のポリカーボネート樹脂組成物においては、本発明の目的が損なわれない範囲で、各種添加剤を必要に応じて配合することもできる。添加剤としては、例えば、任意の色調を与える観点から添加される染料、顔料等の着色剤、その他帯電防止剤、離型剤、可塑剤、抗菌剤、及び相溶化剤等が挙げられる。
着色剤としては、ペリレン系染料、クマリン系染料、チオインジゴ系染料、アンスラキノン系染料、チオキサントン系染料、フェロシアン化物、ペリノン系染料、キノリン系染料、フタロシアニン系染料等が好適に挙げられる。
これらの着色剤の配合量としては、ポリカーボネート樹脂組成物全量に対して、通常０．１〜２，０００質量ｐｐｍの範囲であり、好ましくは０．５〜２００質量ｐｐｍの範囲である。また、着色剤としては、カーボンブラック等の炭素フィラーも好適に挙げられる。

〔ポリカーボネート樹脂組成物〕
次に、本発明のポリカーボネート樹脂組成物は、（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）成分と、必要に応じて用いられる（Ｄ）、（Ｅ）及び（Ｆ）成分と、さらに、必要に応じて用いられる各種添加剤とを配合し、溶融混練することにより得られる。
配合及び混練は、通常用いられる機器、例えば、リボンブレンダー、ドラムタンブラー、ヘンシェルミキサー等で予備混合して、バンバリーミキサー、単軸スクリュー押出機、二軸スクリュー押出機、多軸スクリュー押出機及びコニーダ等を用いる方法で行うことができる。
混練の際の加熱温度は、通常２４０〜３００℃の範囲で適宜選択される。この溶融混練成形としては、押出成形機、特に、ベント式の押出成形機の使用が好ましい。

〔ポリカーボネート樹脂組成物を用いた成形板〕
本発明の成形板は、上記各成分を溶融混練して、ポリカーボネート樹脂組成物のペレットを製造し、次いで、このペレットを用いて、好ましくは射出成形法、又は押出成形法により製造することができる。
本発明の成形板Ｉ〔（Ｆ）成分を含まない場合〕としては、波長１５００〜２５００ｎｍの領域での光線透過率が、通常２０％未満である。２０％未満であると、十分な中赤外線遮蔽効果が得られる。該光線透過率としては、１５％以下であることが好ましい。
本発明の成形板Ｉとしては、ヘーズが、通常５％未満である。５％未満であると、十分な透明性が得られる。ヘーズとしては、４％以下であることが好ましい。
また、本発明の成形板Ｉとしては、全光線透過率（Ｃ光源）が、通常１５％以上である。全光線透過率が１５％以上であると、十分な視認性が得られ、また、所望の着色を実施することができる。なお、全光線透過率（Ｃ光源）は、Ｃ光源を用いて測定した全光線透過率である。

本発明の成形板ＩＩ〔（Ｆ）成分を含む場合〕としては、波長１５００〜２５００ｎｍの領域での光線透過率が、通常２０％未満である。２０％未満であると、十分な中赤外線遮蔽効果が得られる。該光線透過率としては、１５％以下であることが好ましい。
さらに、本発明の成形板ＩＩとしては、波長１０００ｎｍにおける光線透過率が通常２０％未満である。２０％未満であると、十分な熱線遮蔽効果が得られる。該光線透過率としては、１５％以下であることがより好ましい。
本発明の成形板ＩＩとしては、ヘーズが、通常５％未満である。５％未満であると、十分な透明性が得られる。ヘーズとしては、４％以下であることが好ましい。
また、本発明の成形板ＩＩとしては、全光線透過率（Ｃ光源）が、通常１５％以上である。全光線透過率が１５％以上であると、十分な視認性が得られ、また、所望の着色を実施することができる。

以下、本発明について実施例及び比較例を示してより具体的に説明するが、本発明はこれらによって、何ら制限されるものではない。
製造例１
〔高分子系分散剤処理ＩＴＯの製造〕
１５質量％ＩＴＯトルエン分散液（シーアイ化成（株）製、ＩＴＯ平均粒子径：３０ｎｍ）１００ｇに、ＩＴＯ１質量部に対し、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）３質量部となるように、２０質量％ＰＭＭＡのトルエン溶液２３０ｇを加え、室温（２５℃）で混合撹拌し、さらに１２０℃で加熱濃縮して粘稠な液体を得た。次いで乾燥した後、粉砕して、ＰＭＭＡで処理されたＩＴＯ６０ｇを得た。

実施例１〜９、比較例１〜８
〔配合成分〕
実施例及び比較例で用いた材料の種類は、下記のとおりである。
（Ａ）ポリカーボネート
（Ａ−１）：ポリカーボネート（商品名：タフロンＦＮ２２００、出光興産（株）製、粘度平均分子量２２，０００）
（Ｂ）ＡＴＯ又はＩＴＯ
（Ｂ−１）：高分子系分散剤にて処理されてなるＡＴＯ〔商品名：ＦＭＤＳ−８７４、住友金属鉱山（株）製、ＡＴＯ１質量部に対してポリメチルメタクリレート系分散剤３質量部からなる熱線遮蔽材、ＡＴＯ平均粒子径：８０ｎｍ、ＡＴＯ中のアンチモン含有量：１０質量％〕
（Ｂ−２）：上記製造例１で得られた高分子系分散剤（ＰＭＭＡ）にて処理されてなるＩＴＯ
（Ｂ−３）：ＡＴＯ粉末〔商品名：Ｔ−１、ＪＥＭＣＯ製、ＡＴＯ平均粒子径：３１ｎｍ（分散液の平均粒子径）〕とステアリン酸モノグリセライド（低分子系分散剤）（商品名：リケマールＳ−１００Ａ、理研ビタミン（株）製）との混合物
（Ｂ−４）：ＡＴＯ粉末〔商品名：Ｔ−１、ＪＥＭＣＯ製、ＡＴＯ平均粒子径：３１ｎｍ（分散液の平均粒子径）〕
（Ｂ−５）：溶剤分散ＡＴＯ（（株）ＪＥＭＣＯ製、ＡＴＯ濃度１５質量％ｎ−ブタノール分散液、ＡＴＯ粒度分布：３０ｎｍ（Ｄ₅₀），８４ｎｍ（Ｄ₉₀），１９ｎｍ（Ｄ₁₀））
（Ｂ−６）：溶剤分散IＴＯ（商品名：ＥＩ−１、（株）ＪＥＭＣＯ製、IＴＯ濃度１５質量％エタノール分散液、IＴＯ粒度分布：６８ｎｍ（Ｄ₅₀），３７ｎｍ（Ｄ₁₀），１７１ｎｍ（Ｄ₉₀））
（Ｃ）反応性シリコーン化合物
（Ｃ−１）：メトキシ基、フェニル基及びビニル基を有するオルガノポリシロキサン（商品名：ＫＲ５１１、信越シリコーン（株）製、屈折率＝１．５１８）
（Ｃ−２）：メトキシ基、フェニル基及びビニル基を有するオルガノポリシロキサン（商品名：ＤＣ３０３７、東レ・ダウコーニング（株）製、屈折率＝１．４９）
（Ｃ−３）：メトキシ基を有し、フェニル基を有さないオルガノシロキサン（商品名：ＦＺ３５１７、日本ユニカー（株）製、屈折率＝１．４０）

（Ｄ）酸化防止剤
（Ｄ−１）：ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト（商品名：アデカスタブＰＥＰ−３６、旭電化工業（株）製）
（Ｄ−２）：ｎ−オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート（商品名：イルガノックス１０７６、チバ・スペシャルティケミカル（株）製）
（Ｄ−３）：トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト（商品名：イルガフォス１６８、チバ・スペシャルティケミカル（株）製）
（Ｄ−４）：トリフェニルホスフィン（商品名：ＪＣ２６３、城北化学（株）製）
（Ｅ）紫外線吸収剤
（Ｅ−１）：ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤（商品名：ケミソーブ７９、ケミプロ化成（株）製）
（Ｆ）六ホウ化ランタン含有熱線遮蔽材
（Ｆ−１）：ＫＨＤＳ−０６〔商品名、住友金属鉱山（株）製、六ホウ化ランタン微粒子（平均粒子径７０ｎｍ）１質量部に対して、高分子分散剤２．５質量部、及び酸化ジルコニウム（ＩＶ）１質量部からなる熱線遮蔽材〕

（Ｇ）染料又は顔料
（Ｇ−１）：アンスラキノン系青色染料（商品名：ダイアレジンブルーＧ、三菱化学（株）製）
（Ｇ−２）：アンスラキノン系青色染料（商品名：ダイアレジンブルーＮ、三菱化学（株）製）
（Ｇ−３）：アンスラキノン系赤色染料（商品名：住化カラーＤ４００２ＰＲ、住化カラー（株）製）
（Ｇ−４）：カーボンブラック（商品名：三菱カーボンＭ−１００、三菱カーボン（株）製）

〔ポリカーボネート樹脂組成物、及びその成形板の製造〕
上記に示す配合成分を表１及び表２に示す配合量で配合し、混合機スーパーフローター（ＳＦＣ−５０、（株）川田製作所製）にてドライブレンドした後、５０ｍｍ径の単軸押出し機（ＮＶＣ−５０、谷藤機械工業（株）製）に供給し、２８０℃で溶融混合し、ストランド状に押し出した後切断し、ポリカーボネート樹脂組成物のペレットを得た。
次に得られたペレットを１２０℃で５時間乾燥した後、射出成形機（ＩＳ１５０ＥＮ、東芝機械（株）製）を用いて、２８０℃で射出成形して試験片（１００×１００ｍｍ、厚み５ｍｍ、又は１００×１００ｍｍ、厚み２ｍｍ）を作製した。この試験片を下記（２）及び（３）の試験に用いた。

〔物性試験〕
（１）熱安定性
上記で作製したペレットを乾燥し、射出成形機（ＥＣ４０Ｎ 東芝機械（株）製）を用いて３４０℃で射出成形し、熱安定性評価用の試験片（８０ｍｍ×４５ｍｍ、厚み３．２ｍｍ）を作製した。得られた試験片について、黄色度（初期ＹＩ）、及び粘度平均分子量（初期Ｍｖ）を測定した。また、同様に得られた試験片について、成形機内に１５分間滞留した後の黄色度（滞留後ＹＩ）、及び粘度平均分子量（滞留後Ｍｖ）を測定した。ΔＹＩ（黄変度：滞留後ＹＩと初期ＹＩとの差）、ΔＭｖ（初期Ｍｖと滞留後Ｍｖとの差）より得られた試験片の熱安定性を評価した。
ＹＩは、ＪＩＳ Ｋ ７１０３に準拠し、Ｍａｃｂｅｔｈ社製ＣＯＬＯＲ−ＥＹＥを用いて測定した。
Ｍｖは、ウベローデ型粘度計を用いて、２０℃における塩化メチレン溶液の粘度を測定し、これより極限粘度［η］を求め、次式にて算出した。
［η］＝１．２３×１０^-5Ｍｖ^0.83

（２）全光線透過率（Ｃ光源）（％）及びヘーズ（％）
上記で作製した試験片について、ＤＩＧＩＴＡＬ ＨＡＺＥ ＣＯＭＰＵＴＥＲ（ＨＧＭ−２ＤＰ、スガ試験機（株）製）を用いて、厚み５ｍｍ又は２ｍｍでのＣ光源における全光線透過率、及び厚み５ｍｍ又は２ｍｍでのヘーズを測定した。なお、全光線透過率の測定は、ＪＩＳ Ｋ ７３６１−１に準拠した。

（３）光線透過率（％）
上記で得られた試験片について、自記分光光度計（ＵＶ−３１００ＰＣ、島津製作所（株）製）を用いて、波長１５００〜２５００ｎｍ領域での光線透過率を測定し、該波長領域での最大透過率より評価した。なお、実施例５及び６では、さらに波長１０００ｎｍにおける光線透過率を測定した。

本発明のポリカーボネート樹脂組成物及びその成形板は、中赤外線領域を遮蔽し、かつ透明性、熱安定性に優れ、建材（エクステリア）、樹脂性窓、電気、電子用窓部品として有効に利用できる。

Claims (9)

1. （Ａ）ポリカーボネート１００質量部に対して、（Ｂ）高分子系分散剤にて処理されてなるアンチモンドープ酸化錫微粒子（ＡＴＯ）及び／又は高分子系分散剤にて処理されてなる錫ドープ酸化インジウム微粒子（ＩＴＯ）０．０３〜１質量部、及び（Ｃ）分子内にアルコキシ基を１個以上有し、かつフェニル基を有する反応性シリコーン化合物０．０３〜１質量部を含むことを特徴とするポリカーボネート樹脂組成物。
2. （Ａ）ポリカーボネート１００質量部に対して、（Ｄ）酸化防止剤０．０００１〜１質量部を含むことを特徴とする請求項１に記載のポリカーボネート樹脂組成物。
3. （Ａ）ポリカーボネート１００質量部に対して、（Ｅ）紫外線吸収剤０．０００１〜１質量部を含むことを特徴とする請求項１又は２に記載のポリカーボネート樹脂組成物。
4. （Ａ）ポリカーボネート１００質量部に対して、（Ｆ）六ホウ化ランタン含有熱線遮蔽材０．００１〜０．１質量部を含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂組成物。
5. 請求項１〜３のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂組成物を射出成形又は押出成形してなることを特徴とする成形板。
6. 波長１５００〜２５００ｎｍの領域での光線透過率が２０％未満であって、かつ、ヘーズが５％未満であることを特徴とする請求項５に記載の成形板。
7. 全光線透過率（Ｃ光源）が１５％以上であることを特徴とする請求項５又は６に記載の成形板。
8. 請求項４に記載のポリカーボネート樹脂組成物を射出成形又は押出成形してなる成形板であって、波長１５００〜２５００ｎｍの領域での光線透過率が２０％未満であり、波長１０００ｎｍにおける光線透過率が２０％未満であり、かつ、ヘーズが５％未満であることを特徴とする成形板。
9. 全光線透過率（Ｃ光源）が１５％以上であることを特徴とする請求項８に記載の成形板。