JP2007277113A - ベンズアントラセン誘導体、及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】12位に水素原子を有する新規なベンズアントラセン誘導体、並びに陰極と陽極間に少なくとも発光層を含む一層又は複数層からなる有機薄膜層が挟持されている有機エレクトロルミネッセンス素子において、該有機薄膜層の少なくとも1層が、前記ベンズアントラセン誘導体を単独もしくは混合物の成分として含有する有機エレクトロルミネッセンス素子である。
【選択図】なし
Description
また、発光材料として12位に芳香族炭化水素環を有するベンズアントラセン誘導体が特許文献4に開示されている。このようなベンズアントラセン誘導体は青色発光材料として用いられるが、素子寿命が十分でなく、色度が良好でないという欠点を有していた。
Lは、連結基であり、単結合、置換もしくは無置換の核炭素数6〜50の2価の芳香族炭化水素環基、置換もしくは無置換の核原子数5〜50の2価の芳香族複素環基、置換もしくは無置換のフルオレニレン基、又は置換もしくは無置換のカルバゾリレン基である。
nは1〜4の整数である。nが2以上の整数である時、Lはそれぞれ同一でも異なっていても良い。
Arは、単結合、水素原子、置換もしくは無置換の核炭素数6〜50の芳香族炭化水素環基、置換もしくは無置換の核原子数5〜50の芳香族複素環基、フルオレニル基、又はカルバゾリル基である。
mは1〜4の整数である。mが2以上の整数である時、複数のR1〜R10及びLはそれぞれ同一でも異なっていても良い。]
Lは、連結基であり、単結合、置換もしくは無置換の核炭素数6〜50の2価の芳香族炭化水素環基、置換もしくは無置換の核原子数5〜50の2価の芳香族複素環基、置換もしくは無置換のフルオレニレン基、又は置換もしくは無置換のカルバゾリレン基である。
nは1〜4の整数である。nが2以上の整数である時、Lはそれぞれ同一でも異なっていても良い。
Arは、単結合、水素原子、置換もしくは無置換の核炭素数6〜50の芳香族炭化水素環基、置換もしくは無置換の核原子数5〜50の芳香族複素環基、フルオレニル基、又はカルバゾリル基である。
mは1〜4の整数である。mが2以上の整数である時、複数のR1〜R10及びLはそれぞれ同一でも異なっていても良い。
これらの中でも好ましくは、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、9−(10−フェニル)アントリル基、9−(10−ナフチル−1 −イル)アントリル基、9−(10−ナフチル−2−イル)アントリル基、9−フェナントリル基、1−ピレニル基、2−ピレニル基、4−ピレニル基、2−ビフェニルイル基、3−ビフェニルイル基、4−ビフェニルイル基、o−トリル基、m−トリル基、p−トリル基、p−t−ブチルフェニル基である。
R1〜R30のアルコキシ基は、−OYで表される基であり、Yの例としては、前記アルキル基と同様の例が挙げられる。
R1〜R30の置換もしくは無置換のアリールチオ基は、−SY’と表され、Y’の例としては、前記アリールオキシ基のY’と同様の例が挙げられる。
R1〜R30の置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基は−COOZと表され、Zの例としては、前記アルキル基と同様の例が挙げられる。
R1〜R30の置換もしくは無置換のシリル基、としては、例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、t−ブチルジメチルシリル基、ビニルジメチルシリル基、プロピルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基等が挙げられ、いずれも置換されていてもよい。
R1〜R30のハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられる。
Lの置換もしくは無置換の核炭素数6〜50の2価の芳香族炭化水素環基の例としては、前記R1〜R30の芳香族炭化水素基からさらに水素原子1個を取り除いて生ずる2価基が挙げられ、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン、ナフタセン、クリセン、ピレン等から生ずる2価基が好ましい。
Lの置換もしくは無置換の核原子数5〜50の2価の芳香族複素環残基の例としては、前記R1〜R30の芳香族複素環基からさらに水素原子1個を取り除いて生ずる2価基が挙げられ、ピロール、ピリジン、インドール、イソインドール、キノリン、カルバゾール、フェナントロリン、チオフェン、フラン、ベンゾチオフェン、ベンゾフラン、ベンゾイミダゾール、ジベンゾチオフェン、ジベンゾフラン等から生ずる2価基が好ましい。
nは1〜4の整数である。nが2以上の整数である時、Lはそれぞれ同一でも異なっていても良い。
Arの置換もしくは無置換の2価の芳香族炭化水素環残基の例としては、Lにおける例と同様に、前記R1〜R30の芳香族炭化水素基からさらに水素原子1個を取り除いて生ずる2価基が挙げられ、好ましい例も同様である。
Arの置換もしくは無置換の2価の芳香族複素環残基の例としては、Lにおける例と同様に、前記R1〜R30の芳香族複素環基からさらに水素原子1個を取り除いて生ずる2価基が挙げられ、好ましい例も同様である。
mは1〜4の整数である。mが2以上の整数である時、複数のR1〜R30及びLはそれぞれ同一でも異なっていても良い。
本発明の有機EL素子は、陽極と陰極間に少なくとも発光層を含む一層又は複数層からなる有機薄膜層が挟持されている有機エレクトロルミネッセンス素子において、前記有機薄膜層が前記一般式(1)に記載の12位に水素原子を有するベンズアントラセン誘導体から選ばれる少なくとも1種類を単独もしくは混合物の成分として含有する。
スチリルアミン化合物としては、下記一般式(A)で表されるものが好ましい。
ここで、炭素数が6〜20の芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントラニル基、フェナントリル基、テルフェニル基等が挙げられる。
本発明の有機EL素子の代表的な素子構成としては、
(1)陽極/発光層/陰極
(2)陽極/正孔注入層/発光層/陰極
(3)陽極/発光層/電子注入層/陰極
(4)陽極/正孔注入層/発光層/電子注入層/陰極
(5)陽極/有機半導体層/発光層/陰極
(6)陽極/有機半導体層/電子障壁層/発光層/陰極
(7)陽極/有機半導体層/発光層/付着改善層/陰極
(8)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子注入層/陰極
(9)陽極/絶縁層/発光層/絶縁層/陰極
(10)陽極/無機半導体層/絶縁層/発光層/絶縁層/陰極
(11)陽極/有機半導体層/絶縁層/発光層/絶縁層/陰極
(12)陽極/絶縁層/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/絶縁層/陰極
(13)陽極/絶縁層/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子注入層/陰極
などの構造を挙げることができる。
これらの中で通常(8)の構成が好ましく用いられるが、これらに限定されるものではない。
また、本発明の有機EL素子において、本発明の12位に水素原子を有するベンズアントラセン誘導体は、上記のどの有機層に用いられてもよいが、これらの構成要素の中の発光帯域もしくは正孔輸送帯域に含有されていることが好ましく、含有させる量は30〜100モル%から選ばれる。
このような透光性基板としては、例えば、ガラス板、合成樹脂板などが好適に用いられる。ガラス板としては、特にソーダ石灰ガラス、バリウム・ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、石英などで成形された板が挙げられる。また、合成樹脂 板としては、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエーテルサルファイド樹脂、ポリスルホン樹脂などの板か挙げられる。
陽極はこれらの電極物質を蒸着法やスパッタリング法等の方法で薄膜を形成させることにより作製することができる。
このように発光層からの発光を陽極から取り出す場合、陽極の発光に対する透過率が10%より大きくすることが好ましい。また陽極のシート抵抗は、数百Ω/□以下が好ましい。陽極の膜厚は材料にもよるが、通常10nm〜1μm、好ましくは10〜200nmの範囲で選択される。
(i)注入機能;電界印加時に陽極又は正孔注入層より正孔を注入することができ、陰極又は電子注入層より電子を注入することができる機能
(ii)輸送機能;注入した電荷(電子と正孔)を電界の力で移動させる機能
(iii) 発光機能;電子と正孔の再結合の場を提供し、これを発光につなげる機能
を有する。
この発光層を形成する方法としては、例えば蒸着法、スピンコート法、LB法等の公知の方法を適用することができる。発光層は、特に分子堆積膜であることが好ましい。ここで分子堆積膜とは、気相状態の材料化合物から沈着され形成された薄膜や、溶液状態又は液相状態の材料化合物から固体化され形成された膜のことであり、通常この分子堆積膜は、LB法により形成された薄膜(分子累積膜)とは凝集構造、高次構造の相違や、それに起因する機能的な相違により区分することができる。
また特開昭57−51781号公報に開示されているように、樹脂等の結着剤と材料化合物とを溶剤に溶かして溶液とした後、これをスピンコート法等により薄膜化することによっても、発光層を形成することができる。
本発明の目的が損なわれない範囲で、所望により、発光層に、本発明の12位に水素原子を有するベンズアントラセン誘導体からなる発光材料以外の他の公知の発光材料を含有させてもよく、また、本発明の発光材料を含む発光層に、他の公知の発光材料を含む発光層を積層してもよい。
正孔注入層の材料としては上記のものを使用することができるが、ポルフィリン化合物(特開昭63−2956965号公報等に開示のもの)、芳香族第三級アミン化合物及びスチリルアミン化合物(米国特許第4,127,412号明細書、特開昭53−27033号公報、同54−58445号公報、同54−149634号公報、同54−64299号公報、同55−79450号公報、同55−144250号公報、同56−119132号公報、同61−295558号公報、同61−98353号公報、同63−295695号公報等参照)、特に芳香族第三級アミン化合物を用いることが好ましい。
また米国特許第5,061,569号に記載されている2個の縮合芳香族環を分子内に有する、例えば4,4’−ビス(N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ)ビフェニル(以下NPDと略記する)、また特開平4−308688号公報に記載されているトリフェニルアミンユニットが3つスターバースト型に連結された4,4',4''−トリス(N−(3−メチルフェニル)−N−フェニルアミノ)トリフェニルアミン(以下MTDATAと略記する)等を挙げることができる。
正孔注入、輸送層は上述した化合物を、例えば真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、LB法等の公知の方法により薄膜化することにより形成することができる。正孔注入、輸送層としての膜厚は特に制限はないが、通常は5nm〜5μmである。
また、有機半導体層は発光層への正孔注入又は電子注入を助ける層であって、10-10S/cm以上の導電率を有するものが好適である。このような有機半導体層の材料としては、含チオフェンオリゴマーや特開平8−193191号公報に開示してある含アリールアミンオリゴマー等の導電性オリゴマー、含アリールアミンデンドリマー等の導電性デンドリマー等を用いることができる。
また、有機EL素子は発光した光が電極(この場合は陰極)により反射するため、直接陽極から取り出される発光と、電極による反射を経由して取り出される発光とが干渉することが知られている。この干渉効果を効率的に利用するため、電子輸送層は数nm〜数μmの膜厚で適宜選ばれるが、特に膜厚が厚いとき、電圧上昇を避けるために、104〜106V/cmの電界印加時に電子移動度が少なくとも10-5cm2/Vs以上であることが好ましい。
電子注入層に用いられる材料としては、8−ヒドロキシキノリン又はその誘導体の金属錯体やオキサジアゾール誘導体が好適である。上記8−ヒドロキシキノリン又はその誘導体の金属錯体の具体例としては、オキシン(一般に8−キノリノール又は8−ヒドロキシキノリン)のキレートを含む金属キレートオキシノイド化合物、例えばトリス(8−キノリノール)アルミニウムを電子注入材料として用いることができる。
ここでアリール基としてはフェニル基、ビフェニル基、アントラニル基、ペリレニル基、ピレニル基が挙げられる。また、アリーレン基としてはフェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基、アントラニレン基、ペリレニレン基、ピレニレン基などが挙げられる。また、置換基としては炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基又はシアノ基等が挙げられる。この電子伝達化合物は薄膜形成性のものが好ましい。
Ar1は、置換もしくは無置換の核炭素数6〜60のアリール基、又は置換もしくは無置換の核炭素数3〜60のヘテロアリール基であり、Ar2は、水素原子、置換もしくは無置換の核炭素数6〜60のアリール基、置換もしくは無置換の核炭素数3〜60のヘテロアリール基、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルキル基、又は置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルコキシ基、あるいはこれらの2価の基である。ただし、Ar1及びAr2のいずれか一方は、置換もしくは無置換の核炭素数10〜60の縮合環基、又は置換もしくは無置換の核炭素数3〜60のモノヘテロ縮合環基である。
L1、L2及びLは、それぞれ独立に、単結合、置換もしくは無置換の核炭素数6〜60のアリーレン基、置換もしくは無置換の核炭素数3〜60のヘテロアリーレン基、又は置換もしくは無置換のフルオレニレン基である。
Rは、水素原子、置換もしくは無置換の核炭素数6〜60のアリール基、置換もしくは無置換の核炭素数3〜60のヘテロアリール基、置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルキル基、又は置換もしくは無置換の炭素数1〜20のアルコキシ基であり、nは0〜5の整数であり、nが2以上の場合、複数のRは同一でも異なっていてもよく、また、隣接する複数のR基同士で結合して、炭素環式脂肪族環又は炭素環式芳香族環を形成していてもよい。)で表される含窒素複素環誘導体。
(式中、HArは、置換基を有していてもよい炭素数3〜40の含窒素複素環であり、Lは、単結合、置換基を有していてもよい炭素数6〜60のアリーレン基、置換基を有していてもよい炭素数3〜60のヘテロアリーレン基又は置換基を有していてもよいフルオレニレン基であり、Ar1は、置換基を有していてもよい炭素数6〜60の2価の芳香族炭化水素基であり、Ar2は、置換基を有していてもよい炭素数6〜60のアリール基又は置換基を有していてもよい炭素数3〜60のヘテロアリール基である。)で表される含窒素複素環誘導体。
一般式(K)の配位子を形成する環A1及びA2の置換基の具体的な例を挙げると、塩素、臭素、ヨウ素、フッ素のハロゲン原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ステアリル基、トリクロロメチル基等の置換もしくは無置換のアルキル基、フェニル基、ナフチル基、3−メチルフェニル基、3−メトキシフェニル基、3−フルオロフェニル基、3−トリクロロメチルフェニル基、3−トリフルオロメチルフェニル基、3−ニトロフェニル基等の置換もしくは無置換のアリール基、メトキシ基、n−ブトキシ基、t−ブトキシ基、トリクロロメトキシ基、トリフルオロエトキシ基、ペンタフルオロプロポキシ基、2,2,3,3−テトラフルオロプロポキシ基、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロポキシ基、6−(パーフルオロエチル)ヘキシルオキシ基等の置換もしくは無置換のアルコキシ基、フェノキシ基、p−ニトロフェノキシ基、p−t−ブチルフェノキシ基、3−フルオロフェノキシ基、ペンタフルオロフェニル基、3−トリフルオロメチルフェノキシ基等の置換もしくは無置換のアリールオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、t−ブチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基等の置換もしくは無置換のアルキルチオ基、フェニルチオ基、p−ニトロフェニルチオ基、p−t−ブチルフェニルチオ基、3−フルオロフェニルチオ基、ペンタフルオロフェニルチオ基、3−トリフルオロメチルフェニルチオ基等の置換もしくは無置換のアリールチオ基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、メチルアミノ基、ジエチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジフェニルアミノ基等のモノ又はジ置換アミノ基、ビス(アセトキシメチル)アミノ基、ビス(アセトキシエチル)アミノ基、ビスアセトキシプロピル)アミノ基、ビス(アセトキシブチル)アミノ基等のアシルアミノ基、水酸基、シロキシ基、アシル基、メチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、プロイピルカルバモイル基、ブチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基等のカルバモイル基、カルボン酸基、スルフォン酸基、イミド基、シクロペンタン基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、アントラニル基、フェナントリル基、フルオレニル基、ピレニル基等のアリール基、ピリジニル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、トリアジニル基、インドリニル基、キノリニル基、アクリジニル基、ピロリジニル基、ジオキサニル基、ピペリジニル基、モルフォリジニル基、ピペラジニル基、トリアチニル基、カルバゾリル基、フラニル基、チオフェニル基、オキサゾリル基、オキサジアゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、トリアゾリル基、イミダゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、プラニル基等の複素環基等がある。また、以上の置換基同士が結合してさらなる6員アリール環もしくは複素環を形成しても良い。
また、より具体的に、好ましい還元性ドーパントとしては、Na(仕事関数:2.36eV)、K(仕事関数:2.28eV)、Rb(仕事関数:2.16eV)及びCs(仕事関数:1.95eV)からなる群から選択される少なくとも一つのアルカリ金属や、Ca(仕事関数:2.9eV)、Sr(仕事関数:2.0〜2.5eV)、及びBa(仕事関数:2.52eV)からなる群から選択される少なくとも一つのアルカリ土類金属が挙げられる仕事関数が2.9eV以下のものが特に好ましい。これらのうち、より好ましい還元性ドーパントは、K、Rb及びCsからなる群から選択される少なくとも一つのアルカリ金属であり、さらに好ましくは、Rb又はCsであり、最も好ましのは、Csである。これらのアルカリ金属は、特に還元能力が高く、電子注入域への比較的少量の添加により、有機EL素子における発光輝度の向上や長寿命化が図られる。また、仕事関数が2.9eV以下の還元性ドーパントとして、これら2種以上のアルカリ金属の組合わせも好ましく、特に、Csを含んだ組み合わせ、例えば、CsとNa、CsとK、CsとRbあるいはCsとNaとKとの組み合わせであることが好ましい。Csを組み合わせて含むことにより、還元能力を効率的に発揮することができ、電子注入域への添加により、有機EL素子における発光輝度の向上や長寿命化が図られる。
また、電子輸送層を構成する半導体としては、Ba、Ca、Sr、Yb、Al、Ga、In、Li、Na、Cd、Mg、Si、Ta、Sb及びZnの少なくとも一つの元素を含む酸化物、窒化物又は酸化窒化物等の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。また、電子輸送層を構成する無機化合物が、微結晶又は非晶質の絶縁性薄膜であることが好ましい。電子輸送層がこれらの絶縁性薄膜で構成されていれば、より均質な薄膜が形成されるために、ダークスポット等の画素欠陥を減少させることができる。なお、このような無機化合物としては、上述したアルカリ金属カルコゲニド、アルカリ土類金属カルコゲニド、アルカリ金属のハロゲン化物及びアルカリ土類金属のハロゲン化物等が挙げられる。
この陰極はこれらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させることにより、作製することができる。
ここで、発光層からの発光を陰極から取り出す場合、陰極の発光に対する透過率は10%より大きくすることが好ましい。また、陰極としてのシート抵抗は数百Ω/□以下が好ましく、さらに、膜厚は通常10nm〜1μm、好ましくは50〜200nmである。
絶縁層に用いられる材料としては、例えば、酸化アルミニウム、弗化リチウム、酸化リチウム、弗化セシウム、酸化セシウム、酸化マグネシウム、弗化マグネシウム、酸化カルシウム、弗化カルシウム、窒化アルミニウム、酸化チタン、酸化珪素、酸化ゲルマニウム、窒化珪素、窒化ホウ素、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、酸化バナジウム等が挙げられる。これらの混合物や積層物を用いてもよい。
以下、透光性基板上に、陽極/正孔注入層/発光層/電子注入層/陰極が順次設けられた構成の有機EL素子の作製例について説明する。
まず、適当な透光性基板上に、陽極材料からなる薄膜を1μm以下、好ましくは10〜200nmの範囲の膜厚になるように、蒸着法あるいはスパッタリング法により形成し、陽極とする。次に、この陽極上に正孔注入層を設ける。正孔注入層の形成は、前述したように真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、LB法等の方法により行うことができるが、均質な膜が得られやすく、かつピンホールが発生しにくい等の点から真空蒸着法により形成することが好ましい。真空蒸着法により正孔注入層を形成する場合、その蒸着条件は使用する化合物(正孔注入層の材料)、目的とする正孔注入層の結晶構造や再結合構造等により異なるが、一般に蒸着源温度50〜450℃、真空度10-7〜10-3Torr、蒸着速度0.01〜50nm/秒、基板温度−50〜300℃、膜厚5nm〜5μmの範囲で適宜選択することが好ましい。
そして、最後に陰極を積層して有機EL素子を得ることができる。陰極は金属から構成されるもので、蒸着法、スパッタリングを用いることができる。しかし、下地の有機物層を製膜時の損傷から守るためには真空蒸着法が好ましい。
以上の有機EL素子の作製は、一回の真空引きで、一貫して陽極から陰極まで作製することが好ましい。
本発明の有機EL素子の各有機層の膜厚は特に制限されないが、ピンホール等の欠陥や、効率を良くするため、通常は数nmから1μmの範囲が好ましい。
なお、有機EL素子に直流電圧を印加する場合、陽極を+、陰極を−の極性にして、5〜40Vの電圧を印加すると発光が観測できる。また逆の極性で電圧を印加しても電流は流れず、発光は全く生じない。さらに交流電圧を印加した場合には陽極が+、陰極が−の極性になった時のみ均一な発光が観測される。印加する交流の波形は任意でよい。
市販のベンズアントラセン40gをDMF300mlに分散し、NBS35.6gを室温で加えた。3.5時間攪拌後、水600mlを加え、析出晶をろ別、メタノールで洗浄した。得られた粗結晶をトルエン/シリカゲルカラムにて精製した後、ヘキサンでろ過することで7−ブロモベンズアントラセン49.3gをクリーム色結晶として得た(収率91%)
得られた7−ブロモベンズアントラセン20gを脱水THF200mlに溶解し、‐62℃に冷却した。1.6M−ノルマルブチルリチウムヘキサン溶液50mlを滴下し、30分攪拌した。‐5℃に昇温した後、再度‐64℃に冷却し、ホウ酸トリメチル22.4gのTHF溶液を滴下した。一晩後、希塩酸にて酸性化した後、トルエン抽出、水洗、飽和食塩水洗を行い、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去した後、得られた残渣をトルエン/ヘキサンにて結晶化することで、7−ベンズアントラセンボロン酸14gをクリーム色結晶として得た(収率79%)。
アルゴン雰囲気下、既知の方法により合成した3−(ナフタレン−2−イル)−(6−ブロモナフタレン−2−イル)ベンゼン6.73g、7−ベンズアントラセンボロン酸4.92gをトルエン80ml、DME80mlに分散し、2M−炭酸ナトリウム水溶液25mlを加えた。更にテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム0.57gを加え、7時間加熱還流した。一晩後、析出物をろ別し、母液を水、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去した。得られた残渣をアセトンにて結晶化することで、目的の化合物(BAN−2)4.7gを灰白色結晶として得た(収率51%)。得られた化合物のFD−MS(フィールドディソープションマス分析)を測定したところ、C44H28=556に対しm/z=556が得られたことから、この化合物をBAN−2と同定した。
アルゴン雰囲気下、既知の方法により合成した3−(ナフタレン−2−イル)フェニルボロン酸4.4g、7−ブロモベンズアントラセン5gをトルエン60mlに分散し、2M−炭酸ナトリウム水溶液26mlを加えた。更にテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム0.57gを加え、7時間加熱還流した。一晩後、析出物をろ別し、母液を水、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去した。得られた残渣をトルエン/ヘキサンにて結晶化することで、目的の化合物(BAN−3)4.3gを灰白色結晶として得た(収率61%)。得られた化合物のFD−MS(フィールドディソープションマス分析)を測定したところ、C34H22=430に対しm/z=430が得られたことから、この化合物をBAN−3と同定した。
アルゴン雰囲気下、p‐ジブロモベンゼン2.65g、7−ベンズアントラセンボロン酸6.7gをトルエン80ml、DME80mlに溶解し、2M−炭酸ナトリウム水溶液40mlを加えた。更にテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム0.78gを加え、8時間加熱還流した。一晩後、析出物をろ別し、得られた結晶を水、メタノール、熱トルエンで洗浄することで、目的の化合物(BAN−17)4.6gを灰白色結晶として得た(収率78%)。得られた化合物のFD−MS(フィールドディソープションマス分析)を測定したところ、C42H26=530に対しm/z=530が得られたことから、この化合物をBAN−17と同定した。
アルゴン雰囲気下、2,6‐ジブロモナフタレン4g、7−ベンズアントラセンボロン酸8.4gをトルエン100ml、DME100mlに溶解し、2M−炭酸ナトリウム水溶液46mlを加えた。更にテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム0.97gを加え、8時間加熱還流した。一晩後、析出物をろ別し、得られた結晶を水、メタノール、熱トルエンで洗浄することで、目的の化合物(BAN−18)6.7gを灰白色結晶として得た(収率82%)。得られた化合物のFD−MS(フィールドディソープションマス分析)を測定したところ、C46H28=580に対しm/z=580が得られたことから、この化合物をBAN−18と同定した。
アルゴン雰囲気下、2,7‐ジブロモ‐9,9‐ジメチル‐9H‐フルオレン4g、7−ベンズアントラセンボロン酸6.8gをトルエン100ml、DME100mlに溶解し、2M−炭酸ナトリウム水溶液38mlを加えた。更にテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム0.79gを加え、8時間加熱還流した。一晩後、析出物をろ別し、得られた結晶を水、メタノール、熱トルエンで洗浄することで、目的の化合物(BAN−22)5.0gを灰白色結晶として得た(収率68%)。得られた化合物のFD−MS(フィールドディソープションマス分析)を測定したところ、C51H34=646に対しm/z=646が得られたことから、この化合物をBAN−22と同定した。
アルゴン雰囲気下、1,3,5‐トリブロモベンゼン2.8g、7−ベンズアントラセンボロン酸8.0gをトルエン100ml、DME100mlに溶解し、2M−炭酸ナトリウム水溶液45mlを加えた。更にテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム0.72gを加え、8時間加熱還流した。一晩後、析出物をろ別し、得られた結晶を水、メタノール、熱トルエンで洗浄することで、目的の化合物(BAN−25)4.5gを灰白色結晶として得た(収率66%)。得られた化合物のFD−MS(フィールドディソープションマス分析)を測定したところ、C60H36=756に対しm/z=756が得られたことから、この化合物をBAN−25と同定した。
アルゴン雰囲気下、既知の方法により合成した3−(9−(ナフタレン−2−イル)アントラセン−10−イル)フェニルボロン酸6.1g、7−ブロモベンズアントラセン4.0gをトルエン80ml、DME80mlに溶解し、2M−炭酸ナトリウム水溶液25mlを加えた。更にテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム0.45gを加え、7時間加熱還流した。一晩後、析出物をろ別し、母液を水、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去した。得られた残渣をトルエン/ヘキサンにて結晶化することで、目的の化合物(BAN−36)6.24gをクリーム色結晶として得た(収率78%)。得られた化合物のFD−MS(フィールドディソープションマス分析)を測定したところ、C48H30=606に対しm/z=606が得られたことから、この化合物をBAN−36と同定した。
25mm×75mm×1.1mm厚のITO透明電極付きガラス基板(ジオマティック社製)をイソプ ロピルアルコール中で超音波洗浄を5分間行なった後、UVオゾン洗浄を30分間行なった。洗浄後の透 明電極ライン付きガラス基板を真空蒸着装置の基板ホルダーに装着し、まず透明電極ラインが形成されて いる側の面上に前記透明電極を覆うようにして膜厚60nmのN,N’−ビス(N,N’−ジフェニル− 4−アミノフェニル)−N,N−ジフェニル−4,4’−ジアミノ−1,1’−ビフェニル膜(以下「T PD232膜」と略記する。)を成膜した。このTPD232膜は、正孔注入層として機能する。TPD 232膜の成膜に続けて、このTPD232膜上に膜厚20nmのN,N,N’,N’−テトラ(4−ビ フェニル)−ジアミノビフェニレン層 以下「TBDB層」を成膜した。この膜は正孔輸送層として機能 する。さらに膜厚40nmのBAN−3を蒸着し成膜した。同時に発光分子として、下記のアミン化合物 BD1をBAN−3に対し、重量比BAN−3:BD1=40:2で蒸着した。この膜は、発光層として 機能する。この膜上に膜厚10nmのAlq膜を成膜した。これは、電子注入層として機能する。この後 還元性ト゛ーパントであるLi(Li源:サエスゲッター社製)とAlqを二元蒸着させ、電子注入層(陰極 )としてAlq:Li膜(膜厚10nm)を形成した。このAlq:Li膜上に金属Alを蒸着させ金属 陰極を形成し有機EL発光素子を形成した。この素子に通電試験を行ったところ、電圧 6.9 V、電流 密度10mA/cm2にて768cd/m2の青色発光が得られた。初期輝度を1000cd/m2にし てこの有機EL素子の半減寿命を測定した結果を表1に示す。
発光層の材料としてAN−3の代わりに表1に記載の化合物を用いた以外は実施例1と全く同様に有機EL素子を作製した。初期輝度を1000cd/m2にしてこの有機EL素子の半減寿命を測定した結果を表1に示す。
実施例1において発光層の材料として、アミン化合物BD1の代わりにアミン化合物BD2を用いた以外は同様にして有機EL素子を作成し、実施例1と同様にして半減寿命を測定した。それらの結果を表1に示す。
実施例1において発光層の材料として、アミン化合物BD1の代わりにアミン化合物BD3を用いた以外は同様にして有機EL素子を作成し、実施例1と同様にして半減寿命を測定した。それらの結果を表1に示す。
Claims (8)
- 下記一般式(1)で表される12位に水素原子を有するベンズアントラセン誘導体。
Lは、連結基であり、単結合、置換もしくは無置換の核炭素数6〜50の2価の芳香族炭化水素環基、置換もしくは無置換の核原子数5〜50の2価の芳香族複素環基、置換もしくは無置換のフルオレニレン基、又は置換もしくは無置換のカルバゾリレン基である。
nは1〜4の整数である。nが2以上の整数である時、Lはそれぞれ同一でも異なっていても良い。
Arは、単結合、水素原子、置換もしくは無置換の核炭素数6〜50の芳香族炭化水素環基、置換もしくは無置換の核原子数5〜50の芳香族複素環基、フルオレニル基、又はカルバゾリル基である。
mは1〜4の整数である。mが2以上の整数である時、複数のR1〜R10及びLはそれぞれ同一でも異なっていても良い。] - 陽極と陰極間に少なくとも発光層を含む一層又は複数層からなる有機薄膜層が挟持されている有機エレクトロルミネッセンス素子において、該有機薄膜層が請求項1〜4のいずれかに記載の12位に水素原子を有するベンズアントラセン誘導体から選ばれる少なくとも1種類を単独もしくは混合物の成分として含有する有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 前記発光層が、請求項1〜4のいずれかに記載の12位に水素原子を有するベンズアントラセン誘導体を、主成分として含有する請求項5記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 前記発光層が、さらにアリールアミン化合物を含有する請求項5に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 前記発光層が、さらにスチリルアミン化合物を含有する請求項5に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
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