JP2007273817A - 面発光型半導体レーザ素子及び面発光型半導体レーザ素子の製造方法 - Google Patents
面発光型半導体レーザ素子及び面発光型半導体レーザ素子の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007273817A JP2007273817A JP2006098694A JP2006098694A JP2007273817A JP 2007273817 A JP2007273817 A JP 2007273817A JP 2006098694 A JP2006098694 A JP 2006098694A JP 2006098694 A JP2006098694 A JP 2006098694A JP 2007273817 A JP2007273817 A JP 2007273817A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- reflective film
- semiconductor
- semiconductor laser
- multilayer reflective
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Abstract
【解決手段】半導体基板1と、前記半導体基板1上に設けられ、複数の積層した半導体層からなる上部多層反射膜6及び下部多層反射膜2と、前記上部多層反射膜6と前記下部反射膜2の間に設けられ、Alを含まない半導体層からなる活性層と、前記活性層よりも下の半導体層を裾部とするメサポスト9と、前記メサポストが形成された箇所の前記上部多層反射膜6又は前記下部多層反射膜2を構成する半導体層内に設けられ、Alを含む半導体層の一部を選択的に酸化してなる電流狭窄層と、を有する面発光型半導体レーザ素子20。
【選択図】図1
Description
上部多層反射膜106では、量子井戸活性層104に近い側の一層が、Al0.9Ga0.1s層に代えて、AlAs層107で形成され、かつ電流注入領域以外の領域のAlAs層107のAlが、選択的に酸化され、Al酸化層108からなる電流狭窄層を構成している。
図1は、本発明の実施例についての面発光型半導体レーザ素子20の概略断面図を示したものである。
n−GaAs基板1上に、それぞれの層の厚さがλ/4n(λは発振波長、nは屈折率)のn−Al0.9Ga0.1As/n−Al0.2 Ga0.8Asの35ペアからなる下部多層反射膜2、Al0.3Ga0.7Asからなる下部クラッド層3、量子井戸活性層4、Al0.3Ga0.7Asからなる上部クラッド層5、及び、それぞれの層の厚さがλ/4n(λは発振波長、nは屈折率)のp−Al0.9Ga0.1As/p−Al0.2 Ga0.8Asの25ペアからなる上部多層反射膜6の積層構造を備えている。上部多層反射膜6の上には、電極とコンタクトをとるためのp−GaAsからなるキャップ層11が形成されている。
上部多層反射膜6では、量子井戸活性層4に近い側の一層が、Al0.9Ga0.1As層に代えて、AlAs層7で形成され、かつ電流注入領域以外の領域のAlAs層7のAlが、選択的に酸化され、Al酸化層8からなる電流狭窄層を構成している。
本実施形態例の面発光型半導体レーザ素子20の製造方法は、先ず、図2(a)に示したように、有機金属気相成長法(MOCVD法:Metal Organic Chemical Vapor Deposition)により、n−GaAs基板1上に、下部多層反射膜2、下部クラッド層3、量子井戸活性層4、上部クラッド層5、上部多層反射膜6及びp−GaAsキャップ層11を成長させる。
本実施例2における面発光型半導体レーザ素子は、図1に示した実施例1における面発光型半導体レーザ素子20と構造を共通にする。ただし、実施例2における面発光型半導体レーザ素子20では、実施例1における面発光型半導体レーザ素子20の下部クラッド層3及び上部クラッド層5を構成するAl0.9Ga0.1As層に代えて、Ga0.98In0.02As0.9P0.1を使用している。
本実施例3における面発光型半導体レーザ素子は、図1に示した実施例1における面発光型半導体レーザ素子20と構造を共通にする。ただし、実施例3における面発光型半導体レーザ素子20では、実施例2同様に、上下のクラッド層はGa0.98In0.02As0.9P0.1で構成されている。実施例1における面発光型半導体レーザ素子20の下部多層反射膜2及び上部多層反射膜6を構成するn−Al0.9Ga0.1As/n−Al0.2 Ga0.8Asのペアに代えて、GaxIn1-xAsyP1-yの組成比の異なるペアを使用している。高屈折率層はInの組成比を多くし、低屈折率層はInの組成比を少なくすることにより、屈折率差を設けることができる。また、Inの組成比を変えることによって、結晶の格子定数が異なってくるが、As又はPの組成比を変えることによって、格子定数を整合させ、歪の少ない積層構造を作製することができる。
100…面発光型半導体レーザ素子, 101…基板, 102…下部多層反射膜, 103…下部クラッド層, 104…量子井戸活性層, 105…上部クラッド層, 106…上部多層反射膜, 107…AlAs層, 108…Al酸化層, 109…メサポスト, 110…ポリイミド層, 111…p側電極, 112…n側電極, 113…電極パッド, 114…転位, 115…発光領域
Claims (9)
- 半導体基板と、
前記半導体基板上に設けられ、複数の積層した半導体層からなる上部多層反射膜及び下部多層反射膜と、
前記上部多層反射膜と前記下部反射膜の間に設けられ、Alを含まない半導体層からなる活性層と、
前記活性層よりも下の半導体層を裾部とするメサポストと、
前記メサポストが形成された箇所の前記上部多層反射膜又は前記下部多層反射膜を構成する半導体層内に設けられ、Alを含む半導体層の一部を選択的に酸化してなる電流狭窄層と、
を有する面発光型半導体レーザ素子。 - 前記活性層は量子井戸層と障壁層を有する請求項1の面発光型半導体レーザ素子。
- 前記活性層は、Alを含まない半導体層からなる上下のクラッド層により挟まれている請求項1又は請求項2のいずれか一に記載の面発光型半導体レーザ素子。
- 前記活性層の半導体層にはInが含まれる請求項1〜請求項3のいずれか一に記載の面発光型半導体レーザ素子。
- 前記上部多層反射膜、前記下部多層反射膜を構成する半導体層は、Alを含む材料からなる請求項1〜請求項4のいずれか一に記載の面発光型半導体レーザ素子。
- 前記上部多層反射膜、前記下部多層反射膜を構成する半導体層は、AlxGa1-xAs(0.9≦x≦1)が含まれる請求項5記載の面発光型半導体レーザ素子。
- 前記電流狭窄層を構成する半導体層は、AlyGa1-yAs(0.98≦y≦1)である請求項1〜請求項6のいずれか一に記載の面発光型半導体レーザ素子。
- 前記活性層の量子井戸層は、GaInAs系の半導体材料からなる請求項2〜請求項7のいずれか一に記載の面発光型半導体レーザ素子。
- 複数の積層した半導体層からなる上部多層反射膜及び下部多層反射膜と、前記上部多層反射膜と前記下部反射膜の間に設けられ、Alを含まない半導体層からなる活性層とが少なくとも形成された半導体基板について前記活性層よりも下の半導体層を裾部とするメサポストを形成するステップと、
前記メサポストが形成された箇所の前記上部多層反射膜又は前記下部多層反射膜を構成する半導体層内に設けられ、Alを含む半導体層の一部を選択的に酸化して電流狭窄層を形成するステップと、
を有する面発光型半導体レーザ素子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006098694A JP2007273817A (ja) | 2006-03-31 | 2006-03-31 | 面発光型半導体レーザ素子及び面発光型半導体レーザ素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006098694A JP2007273817A (ja) | 2006-03-31 | 2006-03-31 | 面発光型半導体レーザ素子及び面発光型半導体レーザ素子の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007273817A true JP2007273817A (ja) | 2007-10-18 |
Family
ID=38676289
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006098694A Pending JP2007273817A (ja) | 2006-03-31 | 2006-03-31 | 面発光型半導体レーザ素子及び面発光型半導体レーザ素子の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007273817A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016178271A (ja) * | 2015-03-20 | 2016-10-06 | 新科實業有限公司SAE Magnetics(H.K.)Ltd. | 垂直キャビティ表面発光レーザ |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07202320A (ja) * | 1993-12-28 | 1995-08-04 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 半導体レーザ素子 |
JP2001320134A (ja) * | 2000-05-01 | 2001-11-16 | Ricoh Co Ltd | 半導体発光素子およびその製造方法並びに光送信モジュールおよび光送受信モジュールおよび光通信システムおよびコンピュータシステムおよびネットワークシステム |
JP2004015027A (ja) * | 2002-06-11 | 2004-01-15 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 面発光レーザ素子、面発光レーザ素子を使用した光送受信器、光通信器および光通信システム |
JP2004214311A (ja) * | 2002-12-27 | 2004-07-29 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 画発光レーザ素子、面発光レーザ素子を使用した光送信器、光送受信器および光通信システム |
JP2005353623A (ja) * | 2004-06-08 | 2005-12-22 | Ricoh Co Ltd | 面発光レーザ及び光伝送システム |
-
2006
- 2006-03-31 JP JP2006098694A patent/JP2007273817A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07202320A (ja) * | 1993-12-28 | 1995-08-04 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 半導体レーザ素子 |
JP2001320134A (ja) * | 2000-05-01 | 2001-11-16 | Ricoh Co Ltd | 半導体発光素子およびその製造方法並びに光送信モジュールおよび光送受信モジュールおよび光通信システムおよびコンピュータシステムおよびネットワークシステム |
JP2004015027A (ja) * | 2002-06-11 | 2004-01-15 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 面発光レーザ素子、面発光レーザ素子を使用した光送受信器、光通信器および光通信システム |
JP2004214311A (ja) * | 2002-12-27 | 2004-07-29 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 画発光レーザ素子、面発光レーザ素子を使用した光送信器、光送受信器および光通信システム |
JP2005353623A (ja) * | 2004-06-08 | 2005-12-22 | Ricoh Co Ltd | 面発光レーザ及び光伝送システム |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016178271A (ja) * | 2015-03-20 | 2016-10-06 | 新科實業有限公司SAE Magnetics(H.K.)Ltd. | 垂直キャビティ表面発光レーザ |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4184769B2 (ja) | 面発光型半導体レーザ及びその製造方法 | |
US6898226B2 (en) | Surface emitting semiconductor laser and process for producing the same | |
JP4594814B2 (ja) | フォトニック結晶レーザ、フォトニック結晶レーザの製造方法、面発光レーザアレイ、光伝送システム、及び書き込みシステム | |
JP4141172B2 (ja) | 面発光半導体レーザ素子の製造方法および面発光半導体レーザ素子および光伝送システム | |
JP2007165798A (ja) | 半導体レーザ素子 | |
JP5005937B2 (ja) | 面発光レーザ素子 | |
JP2003347670A (ja) | 面発光半導体レーザ素子及びレーザアレイ | |
JP4876428B2 (ja) | 半導体発光素子 | |
JP5006242B2 (ja) | 面発光半導体レーザ素子 | |
JPWO2007135772A1 (ja) | 発光素子 | |
US7888145B2 (en) | Method of manufacturing vertical-cavity surface-emitting laser device and vertical-cavity surface-emitting laser device | |
JP4205208B2 (ja) | 面発光型半導体レーザ及びその作製方法 | |
JP2007235030A (ja) | 面発光レーザ素子及びその製造方法 | |
JP2007273817A (ja) | 面発光型半導体レーザ素子及び面発光型半導体レーザ素子の製造方法 | |
JP5322800B2 (ja) | 垂直共振器型面発光レーザ | |
JP2009088333A (ja) | 面発光型半導体レーザーアレイおよびその製造方法 | |
JP2008153341A (ja) | 面発光レーザ | |
JP2005108983A (ja) | 面発光レーザ素子 | |
JP2005191260A (ja) | 半導体レーザおよびその製造方法および光送信用モジュールおよび光通信システム | |
JP2006216752A (ja) | 回折格子の製造方法および半導体レーザ | |
JP2002185081A (ja) | 半導体レーザ素子 | |
JP2005085836A (ja) | 面発光半導体レーザ素子及びその製造方法 | |
JP2009238832A (ja) | 面発光半導体レーザの製造方法 | |
JP2005085876A (ja) | 面発光半導体レーザおよびその製造方法および光送信モジュール | |
JP2005123416A (ja) | 面発光レーザ素子およびその作製方法および面発光レーザアレイおよび光伝送システム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20090106 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
|
A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20110208 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110222 |
|
A521 | Written amendment |
Effective date: 20110422 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20120228 |