JP2005108983A - 面発光レーザ素子 - Google Patents
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Abstract
【課題】 長共振器構造においても単一横モード発振可能でしかも制御性良く製作できる面発光レーザ素子を提供する。
【解決手段】 活性層4及び活性層4の両側に形成されたスペーサ層3a、3bからなる共振領域15と、共振領域15を挟んで対向する一対のDBR2、5とが基板1上に形成されており、共振領域15に一対のDBR2、5を介して電流を印加することにより、共振領域15より基板1の基板面に垂直方向にレーザ光が放射される面発光レーザ素子において、活性層4は、スペーサ層3a,3b中に埋め込まれて配置されており、基板面に平行な活性層4の横幅を単一横モード発振する長さに設定し、活性層4の横方向の両端に接するスペーサ層3a,3bの各幅を活性層4に通電する電流が活性層4に集中するように設定した。
【選択図】図1
【解決手段】 活性層4及び活性層4の両側に形成されたスペーサ層3a、3bからなる共振領域15と、共振領域15を挟んで対向する一対のDBR2、5とが基板1上に形成されており、共振領域15に一対のDBR2、5を介して電流を印加することにより、共振領域15より基板1の基板面に垂直方向にレーザ光が放射される面発光レーザ素子において、活性層4は、スペーサ層3a,3b中に埋め込まれて配置されており、基板面に平行な活性層4の横幅を単一横モード発振する長さに設定し、活性層4の横方向の両端に接するスペーサ層3a,3bの各幅を活性層4に通電する電流が活性層4に集中するように設定した。
【選択図】図1
Description
本発明は、光通信機器等に使用される光源用光素子である面発光レーザ素子に関するものである。
基板に対して垂直方向に発光、発振するいわゆる面発光レーザ素子(VCSEL:Vertical Cavity Surface Emitting Laser:垂直空洞面発光型半導体レーザ素子)は、効率が高く、ビーム特性に優れている。さらに、2次元アレイ化に適していることから、光インターコネクションなどへの応用が研究されている(例えば、特許文献1参照。)。
図5に、従来例の面発光レーザ素子(以下、単に、VCSELともいう。)40の断面構造を示す。
n−GaAsからなる基板21上に、n−AlAs/n−Al0.2Ga0.8AsからなるDBR(Distributed Bragg Reflector:分布ブラッグ反射器)多層膜22(第一導電型DBR層に相当)、AlxGa1-xAs(x:0.5〜0.7)からなる下側スペーサ層23a、GaAs/Al0.3Ga0.7Asからなる多重量子井戸(MQW:Multi Quantum Well)活性層24、AlxGa1-xAs(x:0.5〜0.7)からなる上側スペーサ層23b、p−AlAsからなる酸化狭窄層31(この外側は酸化絶縁部31’となっている)、p−Al0.9Ga0.1As/p−Al0.2Ga0.8AsからなるDBR多層膜25(第二導電型DBR層に相当)、p−GaAsからなるコンタクト層26、ポリイミド又は高抵抗な半導体結晶からなる埋め込み層27、絶縁膜28、コンタクト電極29がそれぞれ所定形状で形成されている。さらに、コンタクト電極29に配線電極32が接続されており、基板21の下側(各層の形成されていない側)には基板側電極30が形成されている。
n−GaAsからなる基板21上に、n−AlAs/n−Al0.2Ga0.8AsからなるDBR(Distributed Bragg Reflector:分布ブラッグ反射器)多層膜22(第一導電型DBR層に相当)、AlxGa1-xAs(x:0.5〜0.7)からなる下側スペーサ層23a、GaAs/Al0.3Ga0.7Asからなる多重量子井戸(MQW:Multi Quantum Well)活性層24、AlxGa1-xAs(x:0.5〜0.7)からなる上側スペーサ層23b、p−AlAsからなる酸化狭窄層31(この外側は酸化絶縁部31’となっている)、p−Al0.9Ga0.1As/p−Al0.2Ga0.8AsからなるDBR多層膜25(第二導電型DBR層に相当)、p−GaAsからなるコンタクト層26、ポリイミド又は高抵抗な半導体結晶からなる埋め込み層27、絶縁膜28、コンタクト電極29がそれぞれ所定形状で形成されている。さらに、コンタクト電極29に配線電極32が接続されており、基板21の下側(各層の形成されていない側)には基板側電極30が形成されている。
この面発光レーザ素子40においては、レーザ光は、基板上部から出射するようにしている。また、n−AlAs/n−Al0.2Ga0.8AsからなるDBR多層膜22及びp−Al0.9Ga0.1As/p−Al0.2Ga0.8AsからなるDBR多層膜25は、GaAs/Al0.3Ga0.7Asからなる多重量子井戸活性層24の発振波長に対して99%以上の高反射率になるようにしている。
同図に示すように、活性層24を分離せず、活性層24上に、屈折率が違い、かつ高抵抗の薄いAlAs酸化膜(酸化狭窄層31)を配置することにより、電流狭窄と光閉じ込めをしている。このAlAs酸化膜は、高温水蒸気酸化にて、メサ側壁より酸化を進行させることで作製している。
特開2002−359434号公報
ところで、従来の面発光レーザ素子40においては、活性層24上の薄いAlAs酸化膜(酸化狭窄層31)だけで光閉じ込めを行っているので、光の導波が完全でなく、高電流注入時に単一横モードを得るのが困難である。また、AlAs層を酸化するとき、所望の位置に均一性良く酸化を進行させる制御が難しい。さらに、長共振器構造(nλ共振器:n≧2)にした場合、酸化狭窄層と活性層の位置が離れてしまい、光閉じ込めと電流狭窄が困難になるという問題がある。
そこで、本発明は、上記問題を解決して、長共振器構造においても単一横モード発振可能でしかも制御性良く製作できる面発光レーザ素子を提供することを目的とするものである。
上記目的を達成するための手段として、本発明は、活性層4及び前記活性層の両側に形成されたスペーサ層3a、3bからなる共振領域15と、前記共振領域を挟んで対向する一対の分布ブラッグ反射器2、5とが基板1上に形成されており、前記共振領域に前記一対の分布ブラッグ反射器を介して電流を印加することにより、前記共振領域より前記基板の基板面に垂直方向にレーザ光が放射される面発光レーザ素子において、
前記活性層は、前記スペーサ層中に埋め込まれて配置されており、前記基板面に平行な前記活性層の横幅を単一横モード発振する長さに設定し、前記活性層の横方向の両端に接するスペーサ層の各幅を前記活性層に通電する前記電流が前記活性層に集中するように設定したことを特徴とする面発光レーザ素子を提供しようとするものである。
前記活性層は、前記スペーサ層中に埋め込まれて配置されており、前記基板面に平行な前記活性層の横幅を単一横モード発振する長さに設定し、前記活性層の横方向の両端に接するスペーサ層の各幅を前記活性層に通電する前記電流が前記活性層に集中するように設定したことを特徴とする面発光レーザ素子を提供しようとするものである。
本発明の面発光レーザ素子は、活性層は、スペーサ層中に埋め込まれて配置されており、基板面に平行な前記活性層の横幅を単一横モード発振する長さに設定し、前記活性層の横方向の両端に接するスペーサ層の各幅を前記活性層に通電する電流が前記活性層に集中するように設定したことにより、長共振器構造においても単一横モード発振可能でしかも制御性良く製作できる面発光レーザ素子を提供できるという効果がある。
以下、本発明の実施の形態につき、好ましい実施例により、図面を参照して説明する。
図1は、本発明の面発光レーザ素子の実施例を示す断面構成図である。
図2は、本発明の面発光レーザ素子の実施例における活性層近傍の拡大図である。
図3は、本発明の面発光レーザ素子の実施例を製造するための第1の製造工程図である。
図4は、本発明の面発光レーザ素子の実施例を製造するための第2の製造工程図である。
図2は、本発明の面発光レーザ素子の実施例における活性層近傍の拡大図である。
図3は、本発明の面発光レーザ素子の実施例を製造するための第1の製造工程図である。
図4は、本発明の面発光レーザ素子の実施例を製造するための第2の製造工程図である。
図1に示すように、本実施例の面発光レーザ素子20は、以下のように構成されている。
n−GaAsからなる基板1上に、n−AlAs/n−Al0.2Ga0.8AsからなるDBR多層膜2(第一導電型DBR層に相当)が形成されている。このDBR多層膜2上には、所定形状のAlxGa1-xAs(x:0.5〜0.7)からなる下側スペーサ層3a、GaAs/Al0.3Ga0.7Asからなる多重量子井戸活性層4、AlxGa1-xAs(x:0.5〜0.7)からなる上側スペーサ層3b、p−Al0.9Ga0.1As/p−Al0.2Ga0.8AsからなるDBR多層膜5(2第二導電型DBR層に相当)、p−GaAsコンタクト層6が順次積層されている。
ここで、下側スペーサ層3a、活性層4及び上側スペーサ層3bは共振領域を構成する。
n−GaAsからなる基板1上に、n−AlAs/n−Al0.2Ga0.8AsからなるDBR多層膜2(第一導電型DBR層に相当)が形成されている。このDBR多層膜2上には、所定形状のAlxGa1-xAs(x:0.5〜0.7)からなる下側スペーサ層3a、GaAs/Al0.3Ga0.7Asからなる多重量子井戸活性層4、AlxGa1-xAs(x:0.5〜0.7)からなる上側スペーサ層3b、p−Al0.9Ga0.1As/p−Al0.2Ga0.8AsからなるDBR多層膜5(2第二導電型DBR層に相当)、p−GaAsコンタクト層6が順次積層されている。
ここで、下側スペーサ層3a、活性層4及び上側スペーサ層3bは共振領域を構成する。
これら下側スペーサ層3a、活性層4、上側スペーサ層3b、DBR多層膜5及びコンタクト層6の周囲には、ポリイミド又は高抵抗な半導体結晶からなる埋め込み層7とSiO2からなる絶縁膜8が形成されている。コンタクト層6の一部を蔽って、コンタクト電極9が形成されている。絶縁膜8上には配線電極12が形成されており、配線電極12は、コンタクト電極9と電気的に接続している。一方、基板1の上述した各膜の形成されていない面上には基板側電極10が形成されている。
ここで、本実施例の面発光レーザ素子20においては、レーザ光は、基板1の上部から出射するようにしている。また、n−AlAs/n−Al0.2Ga0.8AsからなるDBR多層膜2及びp−Al0.9Ga0.1As/p−Al0.2Ga0.8AsからなるDBR多層膜5は、GaAs/Al0.3Ga0.7Asからなる多重量子井戸活性層4の発振波長に対して99%以上の高反射率になるようにする。
また、DBR多層膜2とDBR多層膜5の導電型は互いに逆極性となっている。
また、DBR多層膜2とDBR多層膜5の導電型は互いに逆極性となっている。
次に、図3及び図4により、面発光レーザ素子20の製造方法を説明する。
まず、図3の(a)に示すように、n−GaAsの基板1を用意する。
次に、図3の(b)に示すように、基板1上に、n−AlAs/n−Al0.2Ga0.8AsからなるDBR多層膜2、AlxGa1-xAs(x:0.5〜0.7)からなる下側スペーサ層3a’及びGaAs/Al0.3Ga0.7Asからなる多重量子井戸活性層4’を順次、有機金属気相成長法をもちいてエピタキシャル成長させて形成する。
まず、図3の(a)に示すように、n−GaAsの基板1を用意する。
次に、図3の(b)に示すように、基板1上に、n−AlAs/n−Al0.2Ga0.8AsからなるDBR多層膜2、AlxGa1-xAs(x:0.5〜0.7)からなる下側スペーサ層3a’及びGaAs/Al0.3Ga0.7Asからなる多重量子井戸活性層4’を順次、有機金属気相成長法をもちいてエピタキシャル成長させて形成する。
次に、図3の(c)に示すように、活性層4’を10μm×10μm以下、又は直径10μm以下になるように、すなわち、単一横モード発振になる大きさになるように、図示しないフォトレジストパターンを活性層4’上に形成し、これをマスクとして、不要の活性層4’を選択的にエッチング除去する。エッチングは、ドライエッチング又はウエットエッチングにて行う。エッチング後、フォトレジストパターンを剥離する。これにより、下側スペーサ3a’上に所定形状(図2において、D(直径または角型長さ)で示す。)の活性層4を形成する。
次に、図3の(d)に示すように、下側スペーサ3a’及び活性層4を蔽って、AlxGa1-xAs(x:0.5〜0.7)からなる上側スペーサ層3b’、p−Al0.9Ga0.1As/p−Al0.2Ga0.8AsからなるDBR多層膜5’及びp−GaAsからなるコンタクト層6’を、順次、有機金属気相成長法にてエピタキシャル成長させて形成する。
このとき、下側スペーサ層3a’、活性層4及び上側スペーサ層3b’の合計の厚さ(図2において、tで示す。)が、光学長で活性層4の発振波長のn波長分(n:整数、n≧1)になるようにする。
このとき、下側スペーサ層3a’、活性層4及び上側スペーサ層3b’の合計の厚さ(図2において、tで示す。)が、光学長で活性層4の発振波長のn波長分(n:整数、n≧1)になるようにする。
次に、図4の(e)に示すように、図示しないフォトレジストパターンをコンタクト層6’上に形成し、これをマスクとして、コンタクト層6’、DBR多層膜5’、上側スペーサ層3b’及び下側スペーサ層3a’からなる積層膜をDBR多層膜2までエッチングすることにより、不要部分を除去する。このとき、図2に示すように、活性層4の端部から下側スペーサ層3a’及び上側スペーサ層3b’がd(D/10程度:1μm程度)だけ大きくなるように、エッチングを行う。これにより、活性層4より外周部が1μm程度大きい下側スペーサ層3a及び上側スペーサ層3bが得られる。また、同様のサイズを有するDBR多層膜5及びコンタクト層6が得られる。
活性層4より、上側スペーサ層3bおよび下側スペーサ層3aをわずかに大きくする理由は、第1には、活性層4の横端部が後の工程(ポリイミドの埋め込み時)において、空気にさらされないようにするためである。活性層4は空気に一時的に曝されると、界面の結晶が劣化し、経時的に面発光レーザ素子20の特性が劣化する。
第2の理由は、上側スペーサ層3b及び下側スペーサ層3aを介して活性層4に通電する場合、漏れ電流を少なくし、できるだけ有効に活性層4に電流が流れるようにするためである。dを大きくすると、上側及び下側スペーサ層3b、3aと活性層4との界面にはバリアがあるので、電流が活性層4の外側に流れやすくなるので、効率が低下するためである。
第2の理由は、上側スペーサ層3b及び下側スペーサ層3aを介して活性層4に通電する場合、漏れ電流を少なくし、できるだけ有効に活性層4に電流が流れるようにするためである。dを大きくすると、上側及び下側スペーサ層3b、3aと活性層4との界面にはバリアがあるので、電流が活性層4の外側に流れやすくなるので、効率が低下するためである。
次に、図4の(f)に示すように、図4の(e)でエッチング除去した部分に、ポリイミドを埋め込んで埋め込み層7を形成する。このとき、ポリイミドに代えて、高抵抗の半導体結晶を埋め込んでも良い。
次に、図4の(g)に示すように、埋め込み層7上に、例えばSiO2からなる絶縁層8を形成し、コンタクト層6には、放出されるレーザ光が影響しない部分にコンタクト電極が形成され、さらに絶縁層8上の所定部分にコンタクト電極9と電気的に接続する配線電極12が形成され、最後に、基板1のレーザ発光部とは反対側の面上に基板側電極を形成して、本実施例の面発光レーザ素子20が得られる。
次に、図4の(g)に示すように、埋め込み層7上に、例えばSiO2からなる絶縁層8を形成し、コンタクト層6には、放出されるレーザ光が影響しない部分にコンタクト電極が形成され、さらに絶縁層8上の所定部分にコンタクト電極9と電気的に接続する配線電極12が形成され、最後に、基板1のレーザ発光部とは反対側の面上に基板側電極を形成して、本実施例の面発光レーザ素子20が得られる。
面発光レーザ素子20は、図2にその活性層4近傍(共振領域15近傍)を拡大して示したように、上側及び下側スペーサ層3b、3aと活性層4の合計の厚さtをレーザ発振波長λの整数nのn倍としてあり、活性層4の大きさD(円筒の場合は直径、角柱の場合は四角辺長)を単一横モード発振を行うことが実験的にわかっている10μm以下としてあるので、有効な単一横モード発振が可能である。また、活性層4の両側に配置される上側及び下側スペーサ層3b、3aの大きさを活性層4の大きさDよりD/10程大きくしてある(dが略D/10である)ので、活性層4が後の工程においても酸化劣化することなく、しかも、レーザ発振するために印加する電流が有効に活性層4に流れるので、経時的に安定で、効率の良いレーザ発振が可能である。
このように、活性層を単一横モードになる分だけの大きさにするので、高電流注入しても単一横モード発振が可能となり、活性層の加工には、ウエハプロセスでのフォトリソグラフィーを用いるので、活性層の大きさを所望の大きさに作製できるため、均一な特性を制御性よく得ることができ、長共振器構造(nλ共振器:n≧2)にしても、電流狭窄と光閉じ込めが可能となる。
なお、上記説明では、各膜のエピタキシャル成長に、有機金属気相成長法を用いた場合について説明したが、分子線エピタキシャル成長法、ガスソース分子線エピタキシャル成長法、ケミカルビームエピタキシャル成長法も使用できる。
また、第一導電型DBR多層膜2、第二導電型DBR多層膜5、活性層4としては、上記材料以外に、GaAs基板にエピタキシャル成長可能な材料、例えば、InGaP、AlGaInP、InGaAs、GaInNAs等で構成することが可能であり、さらに、基板をGaAs以外の材料、例えば、InPとした場合は、その基板にエピタキシャル成長可能な材料、例えば、InGaAsP、InGaAs等で構成することも可能である。
また、第一導電型DBR多層膜2、第二導電型DBR多層膜5、活性層4としては、上記材料以外に、GaAs基板にエピタキシャル成長可能な材料、例えば、InGaP、AlGaInP、InGaAs、GaInNAs等で構成することが可能であり、さらに、基板をGaAs以外の材料、例えば、InPとした場合は、その基板にエピタキシャル成長可能な材料、例えば、InGaAsP、InGaAs等で構成することも可能である。
1…基板、2…DBR多層膜、3a,3a’…下側スペーサ層、3b,3b’…上側スペーサ層、4,4’…活性層、5,5’…DBR多層膜、6,6’…コンタクト層、7…埋め込み層、8…絶縁膜、9…コンタクト電極、10…基板側電極、12…配線電極、15…共振領域、20…面発光レーザ素子、21…基板、22…DBR多層膜、23a…下側スペーサ層、23b…上側スペーサ層、24…活性層、25…DBR多層膜、26…コンタクト層、27…埋め込み層、28…絶縁膜、29…コンタクト電極、30…基板側電極、31…酸化狭窄層、31’…酸化絶縁部、32…配線電極、40…面発光レーザ素子。
Claims (1)
- 活性層及び前記活性層の両側に形成されたスペーサ層からなる共振領域と、前記共振領域を挟んで対向する一対の分布ブラッグ反射器とが基板上に形成されており、前記共振領域に前記一対の分布ブラッグ反射器を介して電流を印加することにより、前記共振領域より前記基板の基板面に垂直方向にレーザ光が放射される面発光レーザ素子において、
前記活性層は、前記スペーサ層中に埋め込まれて配置されており、前記基板面に平行な前記活性層の横幅を単一横モード発振する長さに設定し、前記活性層の横方向の両端に接するスペーサ層の各幅を前記活性層に通電する前記電流が前記活性層に集中するように設定したことを特徴とする面発光レーザ素子。
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-
2003
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