JP2008147620A - 面発光レーザ装置およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 反射鏡を有する面発光レーザ装置において、一方の反射鏡は、高屈折率層と、低屈折率層とが交互に積層されている多層膜反射鏡150である。また、低屈折率層のうち少なくとも一層は、酸化アルミニウムを含む第1の領域175と、第1の領域を取り囲む第2の領域170を有する。また、第1の領域175と第2の領域170との境界は、レーザ光が出射する範囲190に存在する。そして、多層膜反射鏡150において、第1の領域を含む部分の反射率は、第2の領域を含む部分の反射率よりも高い。
【選択図】 図1
Description
図1(a)は、実施形態1にかかる面発光レーザ装置100の断面構造を模式的に示したものであり、図1(b)は、この面発光レーザ装置100の上面を模式的に示したものである。
図2(a)は、実施形態2に係る面発光レーザ装置200の断面構造を模式的に示したものであり、図2(b)は、この面発光レーザ装置200の上面を模式的に示したものである。
図3(a)は、実施形態3に係る面発光レーザ装置300の断面構造を模式的に示したものであり、図3(b)は、この面発光レーザ装置300の上面を模式的に示したものである。
105 基板
107 共振器
110 下部多層膜反射鏡
120 下部クラッド
125 活性層
130 上部クラッド
140 電流狭窄構造を形成するための層
145 酸化層
146 非酸化層
150、250、350 上部多層膜反射鏡
160 絶縁膜
170、271、272、273 第2の領域
175、274、275、276 第1の領域
180 上部電極
185 下部電極
190 レーザ光が出射する範囲
210 酸化領域
290 細孔
390 リング状の孔
Claims (14)
- 基板と、該基板上に設けられている一対の反射鏡と、該一対の反射鏡間に配置される活性層と、を有する面発光レーザ装置において、
前記一対の反射鏡の少なくとも一方は、第1の屈折率を有する層と、該第1の屈折率よりも屈折率の低い第2の屈折率を有する層とが交互に積層されている多層膜反射鏡であり、
前記第2の屈折率を有する層のうち少なくとも一層は、第1の領域と、該第1の領域を前記基板水平方向に取り囲む第2の領域とを有し、
前記第1の領域は酸化アルミニウムを含み、かつ、前記第2の領域よりも屈折率が低く、
前記第1の領域と前記第2の領域との境界は、レーザ光が出射する範囲に存在し、
前記レーザ光に対する前記多層膜反射鏡の前記基板垂直方向の反射率について、前記第1の領域を含む部分の反射率は、前記第2の領域を含む部分の反射率よりも高いことを特徴とする面発光レーザ装置。 - 前記第1の領域には、細孔が設けられていることを特徴とする請求項1に記載の面発光レーザ装置。
- 前記細孔が複数個設けられていることを特徴とする請求項2に記載の面発光レーザ装置。
- 前記細孔がリング状であることを特徴とする請求項2に記載された面発光レーザ装置。
- 前記細孔に樹脂が充填されていることを特徴とする請求項2に記載された面発光レーザ装置。
- 前記第1の領域と前記第2の領域とを有する前記第2の屈折率を有する層を複数層備えた面発光レーザ装置であって、該第1の領域の占める割合が、前記活性層に近づくにつれて徐々に増加するように積層されていることを特徴とする請求項1に記載された面発光レーザ装置。
- 前記活性層と、前記第1の領域と前記第2の領域とからなる前記第2の屈折率を有する層との間に設けられている、他の前記第2の屈折率を有する層のうち、少なくとも一層は、前記第1の領域よりも比抵抗が低いことを特徴とする請求項1に記載の面発光レーザ。
- 基板上に活性層と多層膜反射鏡とを備えている面発光レーザ装置の製造方法であって、
第1の屈折率を有する層と、該第1の屈折率よりも低い第2の屈折率を有する層とを交互に積層する多層膜反射鏡形成工程と、
前記第2の屈折率を有する層のうち少なくとも一層を酸化することによって、酸化アルミニウムを含む第1の領域と、該第1の領域を前記基板水平方向に取り囲む第2の領域を形成する酸化処理工程とを含み、
前記酸化処理工程により、前記第1の領域と前記第2の領域との境界をレーザ光が出射する範囲に形成し、該レーザ光に対する前記多層膜反射鏡の前記基板垂直方向の反射率について、前記第1の領域を含む部分の反射率は、前記第2の領域を含む部分の反射率よりも高くすることを特徴とする面発光レーザ装置の製造方法。 - 前記酸化処理工程は、マスクを用いて行うことを特徴とする請求項8に記載された面発光レーザ装置の製造方法。
- 前記酸化処理工程の前に、多層膜反射鏡に細孔を形成する工程を有し、
前記酸化処理工程は、該細孔を通じて行うことを特徴とする請求項8に記載された面発光レーザ装置の製造方法。 - 前記細孔を形成する工程において、リング状の細孔を形成することを特徴とする請求項10に記載された面発光レーザ装置の製造方法。
- 前記細孔を形成する工程において、複数個の細孔を形成することを特徴とする請求項10に記載された面発光レーザ装置の製造方法。
- 前記細孔に樹脂を充填する工程を更に有することを特徴とする請求項10に記載された面発光レーザ装置の製造方法。
- 前記多層膜反射鏡形成工程において、前記第2の屈折率を有する層におけるアルミニウム含有率を、前記活性層に近づくにつれて徐々に増加するように積層することを特徴とする請求項10に記載された面発光レーザ装置の製造方法。
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