JP2007266182A - 半導体装置及び半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】半導体装置は、貫通孔を有するシリコン基板の第1の主面の、前記貫通孔以外の箇所に薄膜キャパシタを形成したキャパシタ内蔵基板と、電極端子を第1の主面に形成し、接続層を介し前記電極端子を前記薄膜キャパシタの内部接続端子と電気的に接合した回路基板と、前記シリコン基板の前記貫通孔を通して前記回路基板の前記電極端子と電気的に接合した半導体素子とを備える。前記キャパシタ内蔵基板の第1の主面と前記回路基板の第1の主面とは互いに対向するように配置される。
【選択図】図2
Description
ここで、Vは電源電圧、nはLSI当りの素子数、iは素子のスイッチング電流、fは駆動周波数をそれぞれ示す。
ここで、Rは抵抗、Lはインダクタンス、Cは容量をそれぞれ示す。デカップリングキャパシタの低インピーダンス化のためには、容量Cを大きくし、インダクタンスLを小さくすることが望まれる。
貫通孔を有するシリコン基板の第1の主面の、前記貫通孔以外の箇所に薄膜キャパシタを形成したキャパシタ内蔵基板と、
電極端子を第1の主面に形成し、接続層を介し前記電極端子を前記薄膜キャパシタの内部接続端子と電気的に接合した回路基板と、
前記シリコン基板の前記貫通孔を通して前記回路基板の前記電極端子と電気的に接合した半導体素子とを備え、
前記キャパシタ内蔵基板の第1の主面と前記回路基板の第1の主面とは互いに対向するように配置されることを特徴とする半導体装置。
前記シリコン基板の厚さは10μm乃至200μmであることを特徴とする付記1記載の半導体装置。
前記半導体素子の第1の主面と前記回路基板の第1の主面とは互いに対向するように配置され、かつ、前記貫通孔に形成したバンプを介して、前記半導体素子の第1の主面に形成した電極端子を前記回路基板の前記電極端子と電気的に接合したことを特徴とする付記1又は2記載の半導体装置。
前記薄膜キャパシタは、前記シリコン基板の第1の主面に、下部電極、1層又は複数の層からなる誘電体膜、及び上部電極が順次積層されて形成されることを特徴とする付記1乃至3のいずれか一項記載の半導体装置。
前記回路基板のパッド電極と前記薄膜キャパシタの内部接続端子とを接合する前記接続層の厚さは50μm以下であることを特徴とする付記1記載の半導体装置。
前記接続層は、導電性接着剤、マイクロバンプ、又は拡散接合から形成されることを特徴とする付記1記載の半導体装置。
前記回路基板は、樹脂基板、セラミック基板、シリコンを含む金属性配線基板、又はシリコン半導体素子であることを特徴とする付記1記載の半導体装置。
前記シリコン基板の厚さは前記貫通孔の直径の2倍より小さいことを特徴とする付記1記載の半導体装置。
前記誘電体膜は、ペロブスカイト結晶構造を有する酸化物誘電体材料から形成されることを特徴とする付記4記載の半導体装置。
シリコン基板の第1の主面に薄膜キャパシタを形成する工程と、
前記薄膜キャパシタの内部接続端子を形成する工程と、
前記シリコン基板の第1の主面の所定の箇所に孔を形成する工程と、
前記シリコン基板の第1の主面と反対側の、第2の主面側を薄板化して前記孔と対応する貫通孔を形成し、前記貫通孔を有する前記シリコン基板の第1の主面に前記薄膜キャパシタを内蔵するキャパシタ内蔵基板を形成する工程と、
回路基板の第1の主面の、前記貫通孔と対応する箇所に電極端子を形成し、前記電極端子上の所定の箇所に接続層を形成する工程と、
前記キャパシタ内蔵基板の第1の主面と前記回路基板の第1の主面とが互いに対向するように配置し、前記キャパシタ内蔵基板の前記内部接続端子と前記回路基板の電極端子とを前記接続層により電気的に接合する工程と、
半導体素子を、前記貫通孔を通して前記回路基板の前記電極端子と電気的に接合する工程とを含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
前記薄膜キャパシタを形成する工程において、前記シリコン基板の第1の主面に、下部電極、1層又は複数の層からなる誘電体膜、及び上部電極を順次積層することにより、前記薄膜キャパシタが形成されることを特徴とする付記10記載の半導体装置の製造方法。
前記キャパシタ内蔵基板を形成する工程において、前記シリコン基板の厚さを前記貫通孔の直径より小さくすることを特徴とする付記10記載の半導体装置の製造方法。
2 パッド電極
3 シリコン基板
4 下部電極
5 誘電体層
6 上部電極
7 絶縁膜
8 内部接続端子
9 接続層
10 半田バンプ
11 電極パッド
12 LSI
13 絶縁膜
14 貫通孔
15 インターポーザ
100 半導体装置
Claims (5)
- 貫通孔を有するシリコン基板の第1の主面の、前記貫通孔以外の箇所に薄膜キャパシタを形成したキャパシタ内蔵基板と、
電極端子を第1の主面に形成し、接続層を介し前記電極端子を前記薄膜キャパシタの内部接続端子と電気的に接合した回路基板と、
前記シリコン基板の前記貫通孔を通して前記回路基板の前記電極端子と電気的に接合した半導体素子とを備え、
前記キャパシタ内蔵基板の第1の主面と前記回路基板の第1の主面とは互いに対向するように配置されることを特徴とする半導体装置。 - 前記シリコン基板の厚さは10μm乃至200μmであることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
- 前記半導体素子の第1の主面と前記回路基板の第1の主面とは互いに対向するように配置され、かつ、前記貫通孔に形成したバンプを介して、前記半導体素子の第1の主面に形成した電極端子を前記回路基板の前記電極端子と電気的に接合したことを特徴とする請求項1又は2記載の半導体装置。
- 前記薄膜キャパシタは、前記シリコン基板の第1の主面に、下部電極、1層又は複数の層からなる誘電体膜、及び上部電極が順次積層されて形成されることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項記載の半導体装置。
- シリコン基板の第1の主面に薄膜キャパシタを形成する工程と、
前記薄膜キャパシタの内部接続端子を形成する工程と、
前記シリコン基板の第1の主面の所定の箇所に孔を形成する工程と、
前記シリコン基板の第1の主面と反対側の、第2の主面側を薄板化して前記孔と対応する貫通孔を形成し、前記貫通孔を有する前記シリコン基板の第1の主面に前記薄膜キャパシタを内蔵するキャパシタ内蔵基板を形成する工程と、
回路基板の第1の主面の、前記貫通孔と対応する箇所に電極端子を形成し、前記電極端子上の所定の箇所に接続層を形成する工程と、
前記キャパシタ内蔵基板の第1の主面と前記回路基板の第1の主面とが互いに対向するように配置し、前記キャパシタ内蔵基板の前記内部接続端子と前記回路基板の電極端子とを前記接続層により電気的に接合する工程と、
半導体素子を、前記貫通孔を通して前記回路基板の前記電極端子と電気的に接合する工程と
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
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JP4864313B2 (ja) | 薄膜キャパシタ基板、その製造方法、及び、半導体装置 |
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