JP2007242034A - 位置決め装置及び位置決め方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】1以上の整流リニアモータであって、リニアモータは、ガイドレスステージを、1つの長い直線方向に動かし、ある平面において、微動のヨー回転を行わせる。単一のボイスコイルモータ(VCM)を保持するキャリア/従動子は、長い直線運動の方向に動くステージを概ね追従するように制御される。VCMは、ある平面において、電磁力を与えて、長い直線運動の方向に直交する直線方向に、ステージを微動させる。これにより、適正なアライメントが得られる。整流型リニアモータの一方の要素(つまり、コイル又は磁石)が、平面上を自在に動くことのできる駆動フレームの上に設けられる。駆動フレームは、反作用力によって駆動され、装置の重心位置を維持する働きを持つ。1つのリニアモータを使用する場合には、2つのVCMを用いて、ヨー回転を補正することができる。
【選択図】図1
Description
更に、本発明の目的は、非接触型の可動体が、ある直線方向に動いても、装置全体の重心の位置が変化しないように構成された装置を提供することである。
本発明の他の目的及び特徴は、全体を通じて、同様の参照符号により同様の要素を示している、図面を参照しながら、以下の記載を読むことにより、より明らかとなろう。
上記目的を達成するために、本発明では、所定方向に移動可能な第1の可動体を備える位置決め装置において、流体軸受けを介して基準部材上で移動可能な第2の可動体と、前記所定方向に向かう駆動力を発生するように、前記第1の可動体に設けられた第1の磁化部材と前記第2の可動体に設けられた第2の磁化部材とを有し、前記第1の可動体を電磁的に駆動する第1の駆動手段とを備え、前記第1の可動体の側面と前記第2の可動体の側面とが対向するように、前記第1の可動体と前記第2の可動体とを並置し、前記第1の駆動手段の励起により、前記第1の可動体と前記第2の可動体とが前記所定方向においてそれぞれ逆方向に移動することとした。
また本発明では、所定方向に移動可能な第1の可動体を位置決めする位置決め方法において、前記第1の可動体に設けられた第1の磁化部材と流体軸受けを介して基準部材上で移動可能な第2の可動体に設けられた第2の磁化部材とを有する第1の駆動手段により、前記第1の可動体を前記所定方向に移動する作用力を与えること、前記第1の可動体と前記第2の可動体を並置すること、前記作用力に応じて前記第1の可動体が移動する方向と反対方向に第2の可動体が移動すること、とを含むこととした。
[産業上の利用可能性]
本発明は、一般に、電磁式アライメント装置に応用することができるが、好ましい実施例は、図1乃至図8に示すレティクルステージ用の走査装置を含む。
本発明は以下の如き特徴を有するように構成される。高精度の位置及び運動の制御を行うことのできる装置を以下に開示する。本装置は、整流型のリニアモータを用いて、ガイドレスステージを、ある平面において1つの長い直線方向に動かし、また、小さなヨー回転を行わせる。単一のボイスコイルモータ(VCM)を保持するキャリア/従動子が、上記長い直線運動の方向において、上記ステージを概ね追従するように制御される。上記VCMは、上記長い直線運動の方向に対して直交する直線方向において、上記ステージを上記平面において微小距離だけ動かすための、電磁力をもたらす。上記従動子の設計は、ステージに対するケーブルの抗力の問題を解消するが、その理由は、ステージに接続された上記ケーブルは、キャリア/従動子を介して、ステージを追従するからである。キャリア/従動子を外部装置に接続するケーブルは、ある量の抗力を有することになるが、ステージはそのような外部影響(外因)を受けることがなく、その理由は、キャリア/従動子上のVCMが、ステージに対する機械的な外乱の伝達を阻止することにより、バッファとして作用するからである。
上で説明したように、駆動フレーム22及びステージ14は、独立して浮揚し、ベースの表面12Aの上で支持され、同時に、磁気作用及び反力が、リニアモータ52によってのみ、X方向に互いに作用される。これにより、運動量保存の法則が、駆動フレーム22とステージ14との間に働く。
図1に示すように、キャリア/従動子60は、ガイド部材17を跨いでいるフック形状のサポートブラケット62によって、Y方向に運動可能に取り付けられている。また、図2から明らかなように、キャリア/従動子60は、アーム24の上方に設けられ、ステージ14(本体42)とアーム24との間に、あるスペースを維持している。キャリア/従動子60の一端部60Eは、アーム24の上方で、実質的に内方へ(ステージ本体42に向かって)突出している。この端部部品の中では、磁気軌道56Aのスロットのスペースに入る駆動コイル68(コイル54と同じ形状)が固定されている。
好ましい実施例について本発明を説明したが、本発明は、種々の別の形態を取ることができ、請求の範囲によってのみ限定されるものである。
12 ベース構造
14 レティクルステージ
16 位置制御装置
16’ CPU
17A,17B ガイド面
17 位置決めガイド
18 サポートブラケット
20 空気軸受
22 駆動アセンブリ(駆動フレーム)
24,26 磁気軌道アーム
32 空気軸受
42 主本体
52 電磁駆動アセンブリ
54A,54B 駆動コイル
56A,56B 磁気軌道
60 キャリア/従動子
Claims (18)
- 所定方向に移動可能な第1の可動体を備える位置決め装置において、
流体軸受けを介して基準部材上で移動可能な第2の可動体と、
前記所定方向に向かう駆動力を発生するように、前記第1の可動体に設けられた第1の磁化部材と前記第2の可動体に設けられた第2の磁化部材とを有し、前記第1の可動体を電磁的に駆動する第1の駆動手段とを備え、
前記第1の可動体の側面と前記第2の可動体の側面とが対向するように、前記第1の可動体と前記第2の可動体とを並置し、
前記第1の駆動手段の励起により、前記第1の可動体と前記第2の可動体とが前記所定方向においてそれぞれ逆方向に移動することを特徴とする位置決め装置。 - 請求項1に記載の位置決め装置において、
前記第2の可動体の重量が前記第1の可動体の重量より大きいことを特徴とする位置決め装置。 - 請求項1または請求項2のいずれか一項に記載の位置決め装置において、
前記第1の磁化部材と前記第2の磁化部材との一方はコイルであり、前記第1の磁化部材と前記第2の磁化部材との他方は磁石であることを特徴とする位置決め装置。 - 請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の位置決め装置において、
前記第1の可動体は、流体軸受けを介して前記基準部材に対して移動可能であることを特徴とする位置決め装置。 - 請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の位置決め装置において、
前記第2の可動体は矩形形状であることを特徴とする位置決め装置。 - 請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の位置決め装置において、
前記第1の駆動手段は、前記第1の可動体を回転可能であることを特徴とする位置決め装置。 - 請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の位置決め装置において、
前記第1の可動体を前記所定方向と交差する方向に移動する第2の駆動手段を有することを特徴とする位置決め装置。 - 請求項1から請求項7のいずれか一項に記載の位置決め装置において、
前記第2の駆動手段はコイルと磁石を有し、前記第1の可動体の重心に向かって前記第2駆動手段が励起されることを特徴とする位置決め装置。 - 請求項1から請求項8のいずれか一項に記載の位置決め装置において、
前記第2の可動体の位置を調整するリニアモータを有することを特徴とする位置決め装置。 - 請求項1から請求項9のいずれか一項に記載の位置決め装置において、
前記第2の可動体は、流体軸受けを介してガイドに沿って前記所定方向に移動可能であることを特徴とする位置決め装置。 - 所定方向に移動可能な第1の可動体を位置決めする位置決め方法において、
前記第1の可動体に設けられた第1の磁化部材と流体軸受けを介して基準部材上で移動可能な第2の可動体に設けられた第2の磁化部材とを有する第1の駆動手段により、前記第1の可動体を前記所定方向に移動する作用力を与えること、
前記第1の可動体と前記第2の可動体を並置すること、
前記作用力に応じて前記第1の可動体が移動する方向と反対方向に第2の可動体が移動すること、とを含むことを特徴とする位置決め方法。 - 請求項12に記載の位置決め方法において、
前記第1の磁化部材と前記第2の磁化部材との一方はコイルであり、前記第1の磁化部材と前記第2の磁化部材との他方は磁石であることを特徴とする位置決め方法。 - 請求項11または請求項12のいずれか一項に記載の位置決め方法において、
前記第1の可動体は、流体軸受けを介して前記基準部材に対して移動可能であることを特徴とする位置決め方法。 - 請求項11から請求項13のいずれか一項に記載の位置決め方法において、
前記第2の可動体は矩形形状であることを特徴とする位置決め方法。 - 請求項11から請求項14のいずれか一項に記載の位置決め装置において、
前記第1の駆動手段は、前記第1の可動体を回転可能であることを特徴とする位置決め方法。 - 請求項11から請求項15のいずれか一項に記載の位置決め方法において、
第2の駆動手段により、前記第1の可動体を前記所定方向と交差する方向に移動することを特徴とする位置決め方法。 - 請求項16に記載の位置決め装置において、
前記第2の駆動手段は、複数のモータを有し、前記第1の可動体の重心に関する各々のモータの力モーメントが、互いに実質的に相殺し合うことを特徴とする位置決め方法。 - 請求項11から請求項17のいずれか一項に記載の位置決め方法において、
リニアモータにより、前記第2の可動体の位置を調整することを特徴とする位置決め方法。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015204317A (ja) * | 2014-04-11 | 2015-11-16 | 株式会社ニコン | 移動体装置及び露光装置、並びにデバイス製造方法 |
Families Citing this family (63)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1341044A3 (en) * | 1995-05-30 | 2003-10-29 | ASML Netherlands B.V. | Positioning device with a reference frame for a measuring system |
JP3659529B2 (ja) * | 1996-06-06 | 2005-06-15 | キヤノン株式会社 | 露光装置およびデバイス製造方法 |
JPH10521A (ja) * | 1996-06-07 | 1998-01-06 | Nikon Corp | 支持装置 |
US5821981A (en) * | 1996-07-02 | 1998-10-13 | Gerber Systems Corporation | Magnetically preloaded air bearing motion system for an imaging device |
US6222614B1 (en) * | 1996-12-06 | 2001-04-24 | Nikon Corporation | Exposure elements with a cable-relaying support |
DE69717975T2 (de) * | 1996-12-24 | 2003-05-28 | Asml Netherlands Bv | In zwei richtungen ausgewogenes positioniergerät, sowie lithographisches gerät mit einem solchen positioniergerät |
EP1450208A1 (en) * | 1997-03-10 | 2004-08-25 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus having two object holders |
US6262796B1 (en) | 1997-03-10 | 2001-07-17 | Asm Lithography B.V. | Positioning device having two object holders |
US20010003028A1 (en) | 1997-09-19 | 2001-06-07 | Nikon Corporation | Scanning Exposure Method |
AU9095798A (en) | 1997-09-19 | 1999-04-12 | Nikon Corporation | Stage device, a scanning aligner and a scanning exposure method, and a device manufactured thereby |
JP4164905B2 (ja) * | 1997-09-25 | 2008-10-15 | 株式会社ニコン | 電磁力モータ、ステージ装置および露光装置 |
US6408045B1 (en) * | 1997-11-11 | 2002-06-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Stage system and exposure apparatus with the same |
EP1041607A4 (en) * | 1997-11-12 | 2003-11-05 | Nikon Corp | PROJECTION EXPOSURE APPARATUS |
AU4061099A (en) * | 1998-06-17 | 2000-01-05 | Nikon Corporation | Exposure method and exposure apparatus |
US6252234B1 (en) * | 1998-08-14 | 2001-06-26 | Nikon Corporation | Reaction force isolation system for a planar motor |
US6307284B1 (en) * | 1998-09-16 | 2001-10-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Positioning apparatus, information recording/reproducing apparatus, and inspection apparatus |
WO2001045145A1 (fr) * | 1999-12-16 | 2001-06-21 | Nikon Corporation | Procede et dispositif d'exposition |
TWI264617B (en) | 1999-12-21 | 2006-10-21 | Asml Netherlands Bv | Balanced positioning system for use in lithographic apparatus |
TW546551B (en) * | 1999-12-21 | 2003-08-11 | Asml Netherlands Bv | Balanced positioning system for use in lithographic apparatus |
EP1111469B1 (en) * | 1999-12-21 | 2007-10-17 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus with a balanced positioning system |
US6836093B1 (en) * | 1999-12-21 | 2004-12-28 | Nikon Corporation | Exposure method and apparatus |
US6538348B2 (en) | 2000-02-21 | 2003-03-25 | Sharp Kabushiki Kaisha | Stage device capable of moving an object to be positioned precisely to a target position |
US7301605B2 (en) | 2000-03-03 | 2007-11-27 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus and method, catadioptric optical system and manufacturing method of devices |
KR100387243B1 (ko) * | 2000-06-26 | 2003-06-12 | 삼성전자주식회사 | 초소형 정보저장기기용 x-y 스테이지 전자 구동 장치 및그 코일 제작 방법 |
JP2002170765A (ja) * | 2000-12-04 | 2002-06-14 | Nikon Corp | ステージ装置及び露光装置 |
JP4021158B2 (ja) * | 2001-04-27 | 2007-12-12 | 株式会社新川 | 半導体製造装置におけるxyテーブル |
JP2002343706A (ja) * | 2001-05-18 | 2002-11-29 | Nikon Corp | ステージ装置及びステージの駆動方法、露光装置及び露光方法、並びにデバイス及びその製造方法 |
US6788385B2 (en) | 2001-06-21 | 2004-09-07 | Nikon Corporation | Stage device, exposure apparatus and method |
KR100391000B1 (ko) * | 2001-06-30 | 2003-07-12 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 노광 장치 |
EP3252806B1 (en) * | 2002-03-12 | 2019-10-09 | Hamamatsu Photonics K.K. | Substrate dividing method |
KR100937318B1 (ko) * | 2002-12-02 | 2010-01-18 | 두산인프라코어 주식회사 | 머시닝센터 이송축의 직각도 조정장치 |
CN100514581C (zh) * | 2002-12-09 | 2009-07-15 | Acm研究公司 | 晶片卡盘和抛光/电镀托座之间的测量对准 |
KR101124179B1 (ko) | 2003-04-09 | 2012-03-27 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광 방법 및 장치, 그리고 디바이스 제조 방법 |
TWI457712B (zh) | 2003-10-28 | 2014-10-21 | 尼康股份有限公司 | 照明光學裝置、投影曝光裝置、曝光方法以及元件製造方法 |
TWI512335B (zh) | 2003-11-20 | 2015-12-11 | 尼康股份有限公司 | 光束變換元件、光學照明裝置、曝光裝置、以及曝光方法 |
US7982857B2 (en) | 2003-12-15 | 2011-07-19 | Nikon Corporation | Stage apparatus, exposure apparatus, and exposure method with recovery device having lyophilic portion |
JP4586367B2 (ja) * | 2004-01-14 | 2010-11-24 | 株式会社ニコン | ステージ装置及び露光装置 |
TWI360837B (en) | 2004-02-06 | 2012-03-21 | Nikon Corp | Polarization changing device, optical illumination |
WO2005098911A1 (ja) | 2004-04-09 | 2005-10-20 | Nikon Corporation | 移動体の駆動方法、ステージ装置及び露光装置 |
WO2005122242A1 (ja) | 2004-06-07 | 2005-12-22 | Nikon Corporation | ステージ装置、露光装置及び露光方法 |
JP4779973B2 (ja) | 2004-09-01 | 2011-09-28 | 株式会社ニコン | 基板ホルダ及びステージ装置並びに露光装置 |
JP4541849B2 (ja) * | 2004-11-22 | 2010-09-08 | キヤノン株式会社 | 位置決め装置 |
US7557529B2 (en) | 2005-01-11 | 2009-07-07 | Nikon Corporation | Stage unit and exposure apparatus |
US7456935B2 (en) * | 2005-04-05 | 2008-11-25 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a positioning device for positioning an object table |
EP1881521B1 (en) | 2005-05-12 | 2014-07-23 | Nikon Corporation | Projection optical system, exposure apparatus and exposure method |
US7292317B2 (en) * | 2005-06-08 | 2007-11-06 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing substrate stage compensating |
US7675201B2 (en) * | 2006-07-25 | 2010-03-09 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus with planar motor driven support |
EP2068349A4 (en) * | 2006-09-29 | 2011-03-30 | Nikon Corp | STAGE EQUIPMENT AND EXPOSURE DEVICE |
JP5267029B2 (ja) | 2007-10-12 | 2013-08-21 | 株式会社ニコン | 照明光学装置、露光装置及びデバイスの製造方法 |
US8379187B2 (en) | 2007-10-24 | 2013-02-19 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
US9116346B2 (en) | 2007-11-06 | 2015-08-25 | Nikon Corporation | Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
JP4554715B2 (ja) * | 2009-02-24 | 2010-09-29 | ファナック株式会社 | ケーブルクランプまたは中継する構造を備えた直線駆動装置 |
KR101693168B1 (ko) * | 2009-05-15 | 2017-01-17 | 가부시키가이샤 니콘 | 이동체 장치, 용력 전달 장치, 및 노광 장치, 그리고 디바이스 제조 방법 |
JP5651035B2 (ja) * | 2011-02-09 | 2015-01-07 | 株式会社ソディック | 移動装置 |
CN102887341A (zh) * | 2011-07-22 | 2013-01-23 | 大银微系统股份有限公司 | 悬臂式平台的横梁预拉模组 |
CN103522079B (zh) * | 2013-09-29 | 2016-01-06 | 天津大学 | 双弹簧预紧柔性解耦直线电机定位平台 |
US9878386B2 (en) | 2013-10-31 | 2018-01-30 | Foundation Of Soongsil University-Industry Cooperation | Eccentric electrode for electric discharge machining, method of manufacturing the same, and micro electric discharge machining apparatus including the same |
CN103824792A (zh) * | 2014-02-28 | 2014-05-28 | 上海和辉光电有限公司 | 一种储藏柜及控制方法 |
JP5912143B2 (ja) | 2014-03-04 | 2016-04-27 | 株式会社新川 | ボンディング装置 |
CN107664920B (zh) * | 2016-07-29 | 2019-04-12 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 电磁导轨装置 |
JP2019529970A (ja) * | 2016-09-09 | 2019-10-17 | エーエスエムエル ホールディング エヌ.ブイ. | リソグラフィ装置及びサポート構造背景 |
CN110328405B (zh) * | 2019-08-09 | 2020-09-22 | 佛山市镭科智能设备有限公司 | 一种型材的夹持控制方法 |
CN114043260B (zh) * | 2022-01-13 | 2022-04-26 | 上海隐冠半导体技术有限公司 | 位移装置 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0529442A (ja) * | 1991-07-18 | 1993-02-05 | Toshiba Corp | テ−ブル装置 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5208497A (en) * | 1989-04-17 | 1993-05-04 | Sharp Kabushiki Kaisha | Linear driving apparatus |
NL9100407A (nl) * | 1991-03-07 | 1992-10-01 | Philips Nv | Optisch lithografische inrichting met een krachtgecompenseerd machinegestel. |
US5285142A (en) * | 1993-02-09 | 1994-02-08 | Svg Lithography Systems, Inc. | Wafer stage with reference surface |
JPH07260472A (ja) * | 1994-03-22 | 1995-10-13 | Nikon Corp | ステージ装置の直交度測定方法 |
US5528118A (en) * | 1994-04-01 | 1996-06-18 | Nikon Precision, Inc. | Guideless stage with isolated reaction stage |
JPH08229759A (ja) * | 1995-02-24 | 1996-09-10 | Canon Inc | 位置決め装置並びにデバイス製造装置及び方法 |
-
1995
- 1995-06-09 JP JP14319095A patent/JP3800616B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1995-06-21 GB GB9512659A patent/GB2290658B/en not_active Expired - Lifetime
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1998
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1999
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- 1999-02-05 KR KR1019990003987A patent/KR100281858B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2002
- 2002-10-21 JP JP2002305402A patent/JP3804786B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2002-10-21 JP JP2002305401A patent/JP3804785B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2002-10-21 JP JP2002305403A patent/JP3804787B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2006
- 2006-03-17 JP JP2006075215A patent/JP4135188B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2007
- 2007-03-30 JP JP2007094076A patent/JP4687911B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0529442A (ja) * | 1991-07-18 | 1993-02-05 | Toshiba Corp | テ−ブル装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015204317A (ja) * | 2014-04-11 | 2015-11-16 | 株式会社ニコン | 移動体装置及び露光装置、並びにデバイス製造方法 |
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WO2001081171A1 (en) | Wafer stage with magnetic bearings |
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