JP2007241205A - 感活性エネルギー線塩基発生剤、感活性エネルギー線塩基発生剤組成物、塩基反応性組成物及びパターン形成方法 - Google Patents
感活性エネルギー線塩基発生剤、感活性エネルギー線塩基発生剤組成物、塩基反応性組成物及びパターン形成方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007241205A JP2007241205A JP2006105666A JP2006105666A JP2007241205A JP 2007241205 A JP2007241205 A JP 2007241205A JP 2006105666 A JP2006105666 A JP 2006105666A JP 2006105666 A JP2006105666 A JP 2006105666A JP 2007241205 A JP2007241205 A JP 2007241205A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- base
- group
- active energy
- energy ray
- composition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Abstract
【解決手段】置換ο−ニトロフェニル基、アルコキシベンゾイル基、3,5−ジアルコキシフェニル基から選ばれる置換基を含むウレタン系化合物からなり、該ウレタン化合物は、活性エネルギー線の照射によって塩基(アンモニア又はアミン)を発生し、さらに該塩基(アンモニア又はアミン)の作用により分解して該ウレタン結合由来の塩基を発生することを特徴とする感活性エネルギー線塩基発生剤。前記感活性エネルギー線塩基発生剤と塩基増殖剤とからなる感活性エネルギー線塩基発生剤組成物。感活性エネルギー線塩基発生剤及び重合性エポキシ化合物からなる感光性組成物及びこの感光性組成物をパターン形成材料として用いるパターン形成方法。
【選択図】なし
Description
(1)一般式(1)
(2)上記(1)に記載の感活性エネルギー線塩基発生剤と塩基増殖剤からなることを特徴とする感活性エネルギー線塩基発生剤組成物。
(3)上記(1)に記載の感活性エネルギー線塩基発生剤、塩基増殖剤及び塩基反応性物質からなることを特徴とする塩基反応性組成物。
(4)塩基反応性物質が重合性エポキシ化合物からなることを特徴とする上記(3)に記載の感活性エネルギー線組成物。
(自己触媒的な塩基発生反応の判定法)ウレタン系化合物の70mmol/dm3のテトラヒドロフラン−d8溶液に、そのウレタン系化合物のウレタン結合(−OCONR1R2)を形成するアミノ基NR1R2に由来の塩基と同一の塩基HNR1R2を11mmol/dm3添加した溶液をNMRスペクトル測定用の試料管に入れ、これを封管してから100℃に加熱してNMRスペクトルを測定する。ウレタン基が結合する炭素原子に隣接する炭素原子の水素のシグナルの減少を追跡し、非線形な転化率曲線になればウレタン系化合物は自己触媒的に分解して塩基を発生していると判断される。
(光照射による塩基発生とその後の自己触媒的な塩基発生反応の判定法)ウレタン系化合物の70mmol/dm3のテトラヒドロフラン−d8溶液に紫外線照射しウレタン系化合物の一部を分解させ、NMRスペクトル測定用の試料管に入れこれを封管する。この試料管を100℃に加熱してNMRスペクトルを測定する。ウレタン基が結合する炭素原子に隣接する炭素原子の水素のシグナルの減少を追跡し、このときの転化率曲線があらかじめ塩基を添加して加熱したものと同様な曲線を描いていれば、ウレタン系化合物は光化学的に分解して塩基を発生し、さらにこの塩基の作用でウレタン化合物自身が自己触媒的に分解して塩基を発生していると判断される。
重合反応性を示す含ケイ素化合物の具体例を以下に示す。
300mlナスフラスコにフルオレン5gと2−ニトロベンジルアルデヒド4.53gを入れ、テトラヒドロフラン30mlを加えて溶解させた。これにエタノール3mlに溶解させた0.21gのKOHを氷浴中で撹拌しながら滴下し、滴下終了後、常温で1日間撹拌を行った。反応溶液を5重量%の塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順で洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。得られた溶液をろ過して溶媒留去し、黄色固体を得た。その後、カラムクロマトグラフィー(展開溶媒;クロロホルム:ヘキサン=1:1)により精製し、橙色飴状の(9H−フルオレン−9−イル)(2−ニトロフェニル)メタノールを得た。
1H−NMR(500MHz,CDCl3)δ(ppm):1.88(d,J=4.0,1H,OH),4.40(d,J=4.0,1H,Ar−CH−Ar),6.08(d,J=4.0,1H,Ar−CH(OH)−CH),6.74〜8.12(m,12H,Ar−H)
IR(溶液法)(cm−1):3600,1520,1340
C20H15NO3としての計算値:C,75.7;H,4.76;N,4.41。
分析値:C,75.8;H,5.04;N,4.68。
100ml滴下ロートを装着し、アルミホイルで遮光した200ml二口フラスコに(9H−フルオレン−9−イル)(2−ニトロフェニル)メタノール4.2gを入れ、そこにベンゼンを加えて溶解させ、触媒量のジブチルチンジラウレートを加えた。滴下ロートに(9H−フルオレン−9−イル)(2−ニトロフェニル)メタノールと等モル量のシクロヘキシルイソシアナート1.9gと溶媒のベンゼンを入れ、二口フラスコ内の溶液を撹拌しながら、70度で滴下混合を行った。滴下終了後、5時間撹拌を行った。反応終了後、溶媒を留去してアセトンで再結晶し白色針状結晶のシクロヘキシルイソシアナートを除去した後、ろ液を溶媒留去して酢酸エチルで再結晶を行ったところ、白色結晶の(9H−フルオレン−9−イル)(2−ニトロフェニル)メチル シクロヘキシルカルバメート(No.1−6)を得た。
融点165.0〜166.0℃(分解)
1H−NMR(500MHz,CDCl3)δ(ppm):0.89〜1,71(m,10H,CH2 of Cyclohexyl),3.24(s,1H,NH−CH),4.39(d,J=6.0,1H,Ar−CH−Ar),4.53(d,J=6.0,1H,Ar−CH(CH)−O),6.62〜8.25(m,12H,Ar−H)
IR(KBr)(cm−1):3250,1700,1520,1340
C27H26N2O4としての計算値:C,73.28;H,5.92;N,6.33。分析値:C,73.47;H,6.14;N,6.61。
ポリ(グリシジルメタクリラート)と、このポリマーに対して20重量%の感活性エネルギー線塩基発生剤(9H−フルオレン−9−イル)(2−ニトロフェニル)メチル シクロヘキシルカルバメート(No.1−6)を含むクロロホルム溶液をシリコンウェハー上にスピンコートし、100℃で1分間加熱して厚さ約1.7μmのフィルムを作製した。この塗膜に紫外線照射した後に120℃で30分及び240分加熱した。さらに、このフィルムをアセトンに30秒間浸漬して現像した後の残膜率を測定して感度曲線を求めた。その結果、加熱時間を30分から240分に延長することで感度が1桁も向上することがわかった。さらに、加熱処理後に該塩基発生剤の残存は認められなかった。また、スピン塗布した膜をフォトマスク越しに紫外線照射してから、加熱処理し、アセトンで洗浄したところ、明瞭なネガ像を得た。
比較として、既知の光塩基発生剤である2−ニトロベンジルシクロヘキシルカルバメートを用いて同様な実験を行ったところ、露光後の加熱時間を延長しても感度が向上することはなく、露光・加熱処理後も未分解の2−ニトロベンジルシクロヘキシルカルバメートがフィルム中に残存していた。
(2)露光後の加熱処理で、残存する感活性エネルギー線塩基発生剤はすべて塩基の作用により分解するので、パターン形成後には活性エネルギー線に活性な物質は消失するので、保存安定性に優れたパターン形成が可能である。
(3)本発明の感活性エネルギー線塩基発生剤のみを含む塩基反応性組成物でも、塩基の発生量が露光後の加熱により大幅に増大するので、環境中に存在する酸性物質による光発生した塩基の中和効果が軽減できる。
(4)本発明の感活性エネルギー線塩基発生剤を含む塩基反応性樹脂はエポキシ樹脂に代表される樹脂の硬化速度及び硬化特性を向上させることができる。
(5)本発明の感活性エネルギー線塩基発生剤を塩基反応性物質に添加することにより、活性エネルギー線の照射によりその塩基反応性物質の反応を開始することができる。さらに、加熱処理を施すことにより、塩基反応性物質の反応効率を飛躍的に向上させることができる。
Claims (4)
- 請求項1に記載の感活性エネルギー線塩基発生剤と塩基増殖剤からなることを特徴とする感活性エネルギー線塩基発生剤組成物。
- 請求項1に記載の感活性エネルギー線塩基発生剤、塩基増殖剤及び塩基反応性物質からなることを特徴とする塩基反応性組成物。
- 塩基反応性物質が重合性エポキシ化合物からなることを特徴とする請求項3に記載の感活性エネルギー線組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006105666A JP5224016B2 (ja) | 2006-03-10 | 2006-03-10 | 感活性エネルギー線塩基発生剤、感活性エネルギー線塩基発生剤組成物、塩基反応性組成物及びパターン形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006105666A JP5224016B2 (ja) | 2006-03-10 | 2006-03-10 | 感活性エネルギー線塩基発生剤、感活性エネルギー線塩基発生剤組成物、塩基反応性組成物及びパターン形成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007241205A true JP2007241205A (ja) | 2007-09-20 |
JP5224016B2 JP5224016B2 (ja) | 2013-07-03 |
Family
ID=38586768
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006105666A Expired - Fee Related JP5224016B2 (ja) | 2006-03-10 | 2006-03-10 | 感活性エネルギー線塩基発生剤、感活性エネルギー線塩基発生剤組成物、塩基反応性組成物及びパターン形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5224016B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010064632A1 (ja) * | 2008-12-02 | 2010-06-10 | 和光純薬工業株式会社 | 光塩基発生剤 |
EP2368875A1 (en) * | 2008-12-02 | 2011-09-28 | Wako Pure Chemical Industries, Ltd. | Photobase generator |
JP2011528654A (ja) * | 2008-06-26 | 2011-11-24 | プロリンクス エルエルシー | 制御された薬剤放出速度を有するプロドラッグ及び薬剤−高分子のコンジュゲート |
US20120058428A1 (en) * | 2010-09-03 | 2012-03-08 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Patterning process and resist composition |
JP2014115643A (ja) * | 2012-11-15 | 2014-06-26 | Tokyo Univ Of Science | 塩基増殖剤及び当該塩基増殖剤を含有する塩基反応性樹脂組成物 |
WO2014185303A1 (ja) * | 2013-05-13 | 2014-11-20 | 和光純薬工業株式会社 | チオキサンテン系化合物、塩基増殖剤及び当該塩基増殖剤を含有する塩基反応性樹脂組成物 |
KR20230051684A (ko) | 2020-09-16 | 2023-04-18 | 후지필름 가부시키가이샤 | 수지 조성물, 경화물, 적층체, 경화물의 제조 방법, 및, 반도체 디바이스 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09134012A (ja) * | 1995-11-09 | 1997-05-20 | Hitachi Ltd | 感光性樹脂組成物並びに該組成物を用いたパターン形成方法 |
JPH107709A (ja) * | 1996-06-24 | 1998-01-13 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 感エネルギー線活性剤組成物、それを用いた感応性組成物ならびに画像形成用組成物 |
JP2000321757A (ja) * | 1999-05-11 | 2000-11-24 | Konica Corp | 画像形成材料 |
JP2000330270A (ja) * | 1999-05-24 | 2000-11-30 | Kunihiro Ichimura | 塩基増殖剤、塩基増殖剤組成物、塩基反応性組成物及びパターン形成方法 |
JP2002072408A (ja) * | 2000-06-13 | 2002-03-12 | Eastman Kodak Co | カラーフォトサーモグラフ要素 |
JP2002265531A (ja) * | 2001-03-13 | 2002-09-18 | Kunihiro Ichimura | 塩基増殖性不飽和化合物、塩基増殖性樹脂及び該樹脂を含む組成物 |
JP2003344992A (ja) * | 2002-05-24 | 2003-12-03 | San Nopco Ltd | 感光性樹脂組成物 |
-
2006
- 2006-03-10 JP JP2006105666A patent/JP5224016B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09134012A (ja) * | 1995-11-09 | 1997-05-20 | Hitachi Ltd | 感光性樹脂組成物並びに該組成物を用いたパターン形成方法 |
JPH107709A (ja) * | 1996-06-24 | 1998-01-13 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 感エネルギー線活性剤組成物、それを用いた感応性組成物ならびに画像形成用組成物 |
JP2000321757A (ja) * | 1999-05-11 | 2000-11-24 | Konica Corp | 画像形成材料 |
JP2000330270A (ja) * | 1999-05-24 | 2000-11-30 | Kunihiro Ichimura | 塩基増殖剤、塩基増殖剤組成物、塩基反応性組成物及びパターン形成方法 |
JP2002072408A (ja) * | 2000-06-13 | 2002-03-12 | Eastman Kodak Co | カラーフォトサーモグラフ要素 |
JP2002265531A (ja) * | 2001-03-13 | 2002-09-18 | Kunihiro Ichimura | 塩基増殖性不飽和化合物、塩基増殖性樹脂及び該樹脂を含む組成物 |
JP2003344992A (ja) * | 2002-05-24 | 2003-12-03 | San Nopco Ltd | 感光性樹脂組成物 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
JPN6011011973; 化学大辞典 第1版, 19891020, 第1225頁スルホキシド,第1226頁スルホニル, 東京化学同人 * |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011528654A (ja) * | 2008-06-26 | 2011-11-24 | プロリンクス エルエルシー | 制御された薬剤放出速度を有するプロドラッグ及び薬剤−高分子のコンジュゲート |
US9387254B2 (en) | 2008-06-26 | 2016-07-12 | Prolynx Llc | Prodrugs and drug-macromolecule conjugates having controlled drug release rates |
JP2015172078A (ja) * | 2008-06-26 | 2015-10-01 | プロリンクス エルエルシー | 制御された薬剤放出速度を有するプロドラッグ及び薬剤−高分子のコンジュゲート |
US8957212B2 (en) | 2008-12-02 | 2015-02-17 | Wako Pure Chemical Industries, Ltd. | Photobase generator |
EP2368875A1 (en) * | 2008-12-02 | 2011-09-28 | Wako Pure Chemical Industries, Ltd. | Photobase generator |
WO2010064632A1 (ja) * | 2008-12-02 | 2010-06-10 | 和光純薬工業株式会社 | 光塩基発生剤 |
EP2368875A4 (en) * | 2008-12-02 | 2012-08-08 | Wako Pure Chem Ind Ltd | BASIC PHOTOGENERATION |
US20120058428A1 (en) * | 2010-09-03 | 2012-03-08 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Patterning process and resist composition |
US8895231B2 (en) * | 2010-09-03 | 2014-11-25 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Patterning process and resist composition |
JP2014115643A (ja) * | 2012-11-15 | 2014-06-26 | Tokyo Univ Of Science | 塩基増殖剤及び当該塩基増殖剤を含有する塩基反応性樹脂組成物 |
WO2014185303A1 (ja) * | 2013-05-13 | 2014-11-20 | 和光純薬工業株式会社 | チオキサンテン系化合物、塩基増殖剤及び当該塩基増殖剤を含有する塩基反応性樹脂組成物 |
JPWO2014185303A1 (ja) * | 2013-05-13 | 2017-02-23 | 和光純薬工業株式会社 | チオキサンテン系化合物、塩基増殖剤及び当該塩基増殖剤を含有する塩基反応性樹脂組成物 |
KR20230051684A (ko) | 2020-09-16 | 2023-04-18 | 후지필름 가부시키가이샤 | 수지 조성물, 경화물, 적층체, 경화물의 제조 방법, 및, 반도체 디바이스 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5224016B2 (ja) | 2013-07-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5071803B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JP2000330270A (ja) | 塩基増殖剤、塩基増殖剤組成物、塩基反応性組成物及びパターン形成方法 | |
JP5561693B2 (ja) | 新規な化合物、塩基発生剤及び当該塩基発生剤を含有する感光性樹脂組成物 | |
JP5224016B2 (ja) | 感活性エネルギー線塩基発生剤、感活性エネルギー線塩基発生剤組成物、塩基反応性組成物及びパターン形成方法 | |
JP6428646B2 (ja) | ボレート系塩基発生剤および該塩基発生剤を含有する塩基反応性組成物 | |
JP2009080452A5 (ja) | ||
JP5401737B2 (ja) | 塩基発生剤及び当該塩基発生剤を含有する感光性樹脂組成物 | |
JP2010084144A (ja) | 塩基発生剤及び当該塩基発生剤を含有する感光性樹脂組成物 | |
KR20160025587A (ko) | 염기 발생제, 이 염기 발생제를 함유하는 염기 반응성 조성물 및 염기 발생 방법 | |
TW200428147A (en) | Halogenated oxime derivatives and the use thereof as latent acids | |
JP6011956B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
WO2006095670A1 (ja) | 塩基増殖剤及び塩基反応性硬化性組成物 | |
JP2018065809A (ja) | 新規化合物、及び該化合物の製造方法 | |
JP2002265531A (ja) | 塩基増殖性不飽和化合物、塩基増殖性樹脂及び該樹脂を含む組成物 | |
WO2015083331A1 (ja) | 光塩基発生剤 | |
KR20110066110A (ko) | 콜레이트 광산 발생제 및 이를 포함하는 포토레지스트 | |
JP5446793B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、およびこれを用いた物品、及びネガ型パターン形成方法 | |
KR102557854B1 (ko) | 내산성을 갖는 염기 및/또는 라디칼 발생제, 및 그 염기 및/또는 라디칼 발생제를 함유하는 경화성 수지 조성물 | |
JP5561694B2 (ja) | 塩基発生剤及び当該塩基発生剤を含有する感光性樹脂組成物 | |
JP2019156801A (ja) | 塩基増殖剤及び当該塩基増殖剤を含有する塩基反応性樹脂組成物 | |
WO2002034714A1 (fr) | Prepolymeres de proliferation de bases | |
WO2014185303A1 (ja) | チオキサンテン系化合物、塩基増殖剤及び当該塩基増殖剤を含有する塩基反応性樹脂組成物 | |
JP2011116869A (ja) | 光塩基発生剤 | |
JP4080364B2 (ja) | ラジカル発生剤及び感光性樹脂組成物 | |
Chae et al. | One component photo‐curing agent for epoxy resins based on multifunctional photobase generators containing oxime–urethane groups |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090309 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110221 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110308 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20111213 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120307 |
|
A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20120406 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120619 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120810 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130122 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130226 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160322 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |