JP2007238547A - 光学活性4級炭素含有化合物の製法 - Google Patents
光学活性4級炭素含有化合物の製法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007238547A JP2007238547A JP2006065981A JP2006065981A JP2007238547A JP 2007238547 A JP2007238547 A JP 2007238547A JP 2006065981 A JP2006065981 A JP 2006065981A JP 2006065981 A JP2006065981 A JP 2006065981A JP 2007238547 A JP2007238547 A JP 2007238547A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- carbon atoms
- hydrocarbon group
- compound
- process according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
Description
一方、本発明者らは、水溶液中で界面活性剤一体型ルイス酸触媒を用いることにより、β−ケトエステル化合物と活性化された二重結合を有する化合物とのマイケル付加反応が高収率で進行することを報告している(特許文献1)。さらに近年、光学活性なビピリジン化合物を不斉配位子とした種々のルイス酸触媒を開発してきた(非特許文献4〜6)。
R2は水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基若しくはアルコキシ基、好ましくは水素原子を表す。
Xは−OH又は−SHを、好ましくは−OHを表す。
R3は、炭素数が1〜6のパーフルオロアルキル基、好ましくはトリフルオロメチル基を表す。
溶媒は、種々の有機溶媒が使用可能であるが、好ましくは非プロトン性有機溶媒、より好ましくはクロロホルム、塩化メチレン又はジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素、又はトルエン等の炭化水素、又はアセトニトリル等の二トリル類が挙げられる。
この配位子とM(OSO2R3)3又はM(N(SO2R3)2)3で表されるルイス酸とを溶媒中で混合すると、M3+が配位子に配位し、触媒を形成する。溶媒中のルイス酸の濃度は0.001〜0.1mol/l程度が好ましい。
反応に用いる触媒の量は反応基質であるβ−ケトエステルに対して通常0.1〜5モル%程度であるが、多くの場合1モル%で良好な結果を与える。
反応温度は通常は0℃〜60℃又は溶媒の沸点であり、好ましくは室温〜40℃付近である。反応温度を下げ過ぎると反応速度が低下し、上げすぎると立体選択性が低下する。反応時間は一般的には数時間〜数十時間程度である。
この炭化水素基としては、特に限定は無いが、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基及びアラルキル基が挙げられる。
このアルキル基としては、直鎖状又は分岐鎖状のいずれでもよく、例えば、メチル、エチル、プロピル、i−プロピル、n−ブチル、i−ブチル、t−ブチル、n−ペンチル、i−ペンチル、t−ペンチル、へキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デカニル等の基が挙げられる。シクロアルキル基としては、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル基等が挙げられる。アリール基としては、フェニル、ビフェニル、テルフェニル、ナフチル基等が挙げられる。
これらは置換基として、任意の位置に、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルケニル基、炭素数1〜6のアルキニル基、シクロアルキル基、アラルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、ニトロ基、水酸基、低級アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子等を有してもよい。
この置換基及び炭化水素基は、上記R4及びR5で定義した置換基及び炭化水素基の中から選択される。
Yは共有結合、ヘテロ原子又はヘテロ原子を含んでいてもよい2価の炭化水素基を表す。
このヘテロ原子としては−O−、−S−、−NH−等が挙げられる。
このヘテロ原子を含んでいてもよい2価の炭化水素基としては、−(CH2)n−(n=1〜2)、−CH2−O−、−CH2−S−、−CH2−NH−等が挙げられる。
R6は上記と同様に定義される。
また、R7とR8は共同して環を形成していてもよい。当該環は上記R4とR5が共同して形成する環から選択される。
R9はカルボニル基、ニトロ基、シアノ基又はスルホニル基を表し、カルボニル基の一方の置換基は水素原子、又は前記R4で定義した置換基及び炭化水素基の中から選択される。
本発明における不斉マイケル反応とは、上記不斉触媒存在下で電子吸引性基で活性化された二重結合に、活性メチン化合物から生成した炭素陰イオンが高立体選択的に付加する反応である。
本反応を下式に示す。
1H NMR (CDCl3): δ 2.12 (3H, s), 2.19-2.27 (2H, m), 2.45-2.76 (2H, m), 3.04 (1H, d, J=17.8Hz), 3.67 (1H, d, J=17.8Hz), 3.70 (3H, s), 7.39-7.79 (4H, m). 13C NMR (CDCl3): δ 28.6, 29.8, 37.8, 38.7, 52.7, 59.1, 124.8, 126.4, 127.9, 135.0, 135.5, 152.5, 171.5, 202.2, 207.3. 190.
Claims (8)
- 水溶液中又は水と有機溶媒との混合溶媒中で下式(化1)
- R1がtert-ブチル基を表し、R2が水素原子を表し、Xが−OHを表す請求項1に記載の製法。
- R3がトリフルオロメチル基を表す請求項1又は2に記載の製法。
- R4とR5が共同して5〜7員環を形成する請求項1〜4のいずれか一項に記載の製法。
- R7とR8が水素原子を表す請求項1〜5のいずれか一項に記載の製法。
- R6がメチル基又はエチル基を表す請求項1〜6のいずれか一項に記載の製法。
- 反応溶媒として水を用いる請求項1〜7のいずれかに記載の製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006065981A JP4572372B2 (ja) | 2006-03-10 | 2006-03-10 | 光学活性4級炭素含有化合物の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006065981A JP4572372B2 (ja) | 2006-03-10 | 2006-03-10 | 光学活性4級炭素含有化合物の製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007238547A true JP2007238547A (ja) | 2007-09-20 |
JP4572372B2 JP4572372B2 (ja) | 2010-11-04 |
Family
ID=38584426
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006065981A Expired - Fee Related JP4572372B2 (ja) | 2006-03-10 | 2006-03-10 | 光学活性4級炭素含有化合物の製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4572372B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112679348A (zh) * | 2020-12-27 | 2021-04-20 | 河南师范大学 | 一种3-芳甲酰基茚酮-2-甲酸酯类化合物的合成方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07265709A (ja) * | 1994-03-31 | 1995-10-17 | Nagase & Co Ltd | 不斉マイケル反応を触媒する金属錯体 |
JPH11244705A (ja) * | 1998-03-05 | 1999-09-14 | Japan Science & Technology Corp | 界面活性ルイス酸触媒 |
JPH11264443A (ja) * | 1998-03-18 | 1999-09-28 | Nissan Motor Co Ltd | 能動型振動制御装置 |
JP2001252570A (ja) * | 2000-03-10 | 2001-09-18 | Japan Science & Technology Corp | キラル希土類金属触媒と不斉アルドール反応方法 |
JP2001253844A (ja) * | 2000-03-10 | 2001-09-18 | Japan Science & Technology Corp | マイケル反応方法 |
JP2002275127A (ja) * | 2001-03-15 | 2002-09-25 | Japan Science & Technology Corp | 水系不斉ミカエル反応方法 |
WO2005073156A1 (ja) * | 2004-01-30 | 2005-08-11 | Japan Science And Technology Agency | 光学活性ヒドロキシメチル化化合物の製法 |
-
2006
- 2006-03-10 JP JP2006065981A patent/JP4572372B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07265709A (ja) * | 1994-03-31 | 1995-10-17 | Nagase & Co Ltd | 不斉マイケル反応を触媒する金属錯体 |
JPH11244705A (ja) * | 1998-03-05 | 1999-09-14 | Japan Science & Technology Corp | 界面活性ルイス酸触媒 |
JPH11264443A (ja) * | 1998-03-18 | 1999-09-28 | Nissan Motor Co Ltd | 能動型振動制御装置 |
JP2001252570A (ja) * | 2000-03-10 | 2001-09-18 | Japan Science & Technology Corp | キラル希土類金属触媒と不斉アルドール反応方法 |
JP2001253844A (ja) * | 2000-03-10 | 2001-09-18 | Japan Science & Technology Corp | マイケル反応方法 |
JP2002275127A (ja) * | 2001-03-15 | 2002-09-25 | Japan Science & Technology Corp | 水系不斉ミカエル反応方法 |
WO2005073156A1 (ja) * | 2004-01-30 | 2005-08-11 | Japan Science And Technology Agency | 光学活性ヒドロキシメチル化化合物の製法 |
Non-Patent Citations (6)
Title |
---|
JPN6010027660, Tetrahedron, 2003, 59, P7307−7313 * |
JPN6010027662, Journal of the American Chemical Society, 2002, 124, P11240−41 * |
JPN6010027663, Organic Letters, 2005, 7(21), P4593−95 * |
JPN6010027665, Organic Letters, 2005, 7(21), P4729−31 * |
JPN6010027666, Tetrahedron Letters, 2000, 41, P3107−11 * |
JPN6010034175, Journal of the American Chemical Society, 2004, 126, P12236−37 * |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112679348A (zh) * | 2020-12-27 | 2021-04-20 | 河南师范大学 | 一种3-芳甲酰基茚酮-2-甲酸酯类化合物的合成方法 |
CN112679348B (zh) * | 2020-12-27 | 2023-09-05 | 河南师范大学 | 一种3-芳甲酰基茚酮-2-甲酸酯类化合物的合成方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4572372B2 (ja) | 2010-11-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Fruit et al. | Asymmetric transfer of nitrenes catalyzed by chiral dirhodium (II) using aromatic sulfamate esters | |
Yu et al. | Visible Light‐Induced Methoxycarbonyldifluoromethylation of Trimethylsilyl Enol Ethers and Allyltrimethylsilanes with FSO2CF2CO2Me | |
JP4582794B2 (ja) | 光学活性ヒドロキシメチル化化合物の製法 | |
JP4649645B2 (ja) | 光学活性アルコール化合物の製法 | |
Iuliano et al. | Deoxycholic acid-based phosphites as chiral ligands in the enantioselective conjugate addition of dialkylzincs to cyclic enones: preparation of (−)-(R)-muscone | |
JP4572372B2 (ja) | 光学活性4級炭素含有化合物の製法 | |
CN112047839A (zh) | 一种1-碘-3-全氟烷基烯烃化合物及其制备方法 | |
KR101379383B1 (ko) | 고순도 ⒮―메토프롤롤의 제조방법 | |
JP5544596B2 (ja) | 光学活性な環状エーテル化合物の製法及びそれに用いる触媒 | |
JP4879030B2 (ja) | ナフトピラン化合物の製造方法 | |
JP2007031344A (ja) | 光学活性β−アミノアルコール化合物の製法及び触媒 | |
Xu et al. | Highly enantioselective allylic alkylation of 5H-oxazol-4-ones with Morita-Baylis-Hillman carbonates | |
JP5408662B2 (ja) | ジスルホン酸化合物の製法、不斉マンニッヒ触媒、β−アミノカルボニル誘導体の製法及び新規なジスルホン酸塩 | |
JP6235783B2 (ja) | 不斉アザディールス−アルダー反応用触媒、それを用いた光学活性テトラヒドロピリジン化合物の製造方法 | |
JP4481589B2 (ja) | ビスホスフィンの製造方法 | |
JP5263732B2 (ja) | 光学活性1,2−ジアミン化合物の製造方法及び光学活性触媒 | |
JP4696274B2 (ja) | 固体キラルジルコニウム触媒及びそれを用いたアルドール反応物又は環化体化合物の合成方法 | |
JP2002069026A (ja) | (e)−3−メチル−2−シクロペンタデセノンの製造法 | |
JP3817478B2 (ja) | 3,3−ジフェニル−2,3−エポキシプロピオン酸エステルのエナンチオ選択的製造方法 | |
JP2007106734A (ja) | 新規な光学活性遷移金属錯体,及びその製造方法 | |
US8822696B2 (en) | Ligand for asymmetric synthesis catalyst, and process for production of alpha-alkenyl cyclic compound using the same | |
JP5552510B2 (ja) | 酸化触媒及び酸化反応生成物の製造方法 | |
JP5053895B2 (ja) | 窒素含有複素環化合物の製造方法 | |
JP4623745B2 (ja) | 光学活性β−ヒドロキシスルフィド化合物の製法 | |
WO2014148591A1 (ja) | 1,2-ジオール化合物の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070614 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100616 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100629 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100726 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100727 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4572372 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130827 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |