JP2007224249A - ガスハイドレートペレット冷却装置 - Google Patents

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【課題】ガスハイドレートペレットを効率よく冷却するガスハイドレートペレット冷却装置を実現する
【解決手段】ガスハイドレートペレット冷却装置6を、横型容器50と、横型容器50の一端に設けられ、原料ガスと水とを水和反応させて生成されたガスハイドレートをペレット化したガスハイドレートペレットが供給される供給口51と、横型容器内に設けられ、供給口51から供給されたガスハイドレートペレットを搬送する搬送手段52と、横型容器の他端に設けられ、搬送手段52により搬送されたガスハイドレートペレットを排出する排出口53と、横型容器の胴部に設けられ、搬送手段52により搬送されるガスハイドレートペレットに、沸点が目標冷却温度未満の液冷媒を噴霧するノズル55と、ノズルに液冷媒を供給するポンプ57とで構成する。
【選択図】図1

Description

本発明は、原料ガスと水とを水和反応させて生成されたガスハイドレートをペレット化したガスハイドレートペレットを冷却するガスハイドレートペレット冷却装置に関する。
ガスハイドレートは、水分子の作る籠の中にガスを取り込んだ構造の固形の水和物であり、−20数℃〜−10数℃の大気圧下で安定することから、例えば、液化天然ガス(LNG)に代わる天然ガスの輸送及び貯蔵の手段として利用する研究が進められている。
このようなガスハイドレートの生成方法としては、特許文献1に記載されているように、まず、第1生成器で原料ガスと水とを反応させて比較的水分を多く含むガスハイドレートスラリーを生成し、脱水器でガスハイドレートスラリーから水分を分離した後、第2生成器で脱水後のガスハイドレートに再度原料ガスを供給して、原料ガスと未反応の水分とを反応させて粉状のガスハイドレートとすることが知られている。
このようなガスハイドレートの生成過程では、全ての工程で高圧(例えば、3MPa〜10MPa)、かつ低温(例えば、0℃〜10℃)の環境下で処理が行われる。しかし、上述したように、ガスハイドレートは大気圧下では−20数℃〜−10数℃で安定することから、大気圧下で輸送及び貯蔵を行うためには、生成したガスハイドレートを−20数℃〜−10数℃まで冷却する必要がある。
特開2005−263675号公報
特許文献1には、生成された粉状ガスハイドレートを、例えば−20℃〜−15℃に冷却することが記載されているが、その具体的な冷却方法については記載されていない。
そこで、例えば、外周をジャケットで包囲された容器に粉状ガスハイドレートを供給し、供給された粉状ガスハイドレートを容器内で搬送しながらジャケットに冷媒を循環させることで冷却することなどが考えられる。しかしながら、輸送時の利便性などを考慮して粉状ガスハイドレートを圧縮成型してペレット化したガスハイドレートペレットにこのような方法を適用した場合は、冷却効率が悪いため所望の温度のガスハイドレートペレットを得るためには長時間の冷却を必要とし、そのために冷却装置が大型化する。
本発明は、ガスハイドレートペレットを効率よく冷却するガスハイドレートペレット冷却装置を実現することを課題とする。
上記課題を解決するため、本発明のハイドレートペレット冷却装置は、横型容器と、横型容器の一端に設けられ、原料ガスと水とを水和反応させて生成されたガスハイドレートをペレット化したガスハイドレートペレットが供給される供給口と、横型容器内に設けられ、供給口から供給されたガスハイドレートペレットを搬送する搬送手段と、横型容器の他端に設けられ、搬送手段により搬送されたガスハイドレートペレットを排出する排出口と、横型容器の胴部に設けられ、搬送手段により搬送されるガスハイドレートペレットに、沸点が目標冷却温度未満の液冷媒を噴霧するノズルと、ノズルに液冷媒を供給するポンプとを備えてなることを特徴とする。
すなわち、搬送手段によって横型容器の供給口から排出口まで搬送されている間に、ガスハイドレートペレットの表面には沸点が目標冷却温度よりも低い液冷媒が付着する。ガスハイドレートペレットの表面に付着した液冷媒は、ガスハイドレートペレットによって温度が上昇し、沸点を超えて気化する。つまり、ガスハイドレートペレットは、液冷媒の気化熱により急速に冷却される。したがって、ガスハイドレートペレットを効率よく冷却することができる。
この場合において、搬送手段は、ガスハイドレートペレットを攪拌しながら搬送することが望ましく、特に、スクリューコンベア又は回転軸に複数の攪拌羽根が設けられた攪拌搬送機であることが好ましい。
これによれば、搬送されているガスハイドレートペレットは、攪拌されて回転するので、表面全体にわたって液冷媒が付着する。すると、液冷媒の気化熱による冷却もガスハイドレートペレットの表面全体で行われることになり、より効率よくガスハイドレートペレットを冷却することができる。
さらに、液冷媒をノズルに供給する供給路に液冷媒の流量を制御する流量制御弁を設け、流量制御弁は、横型容器内に設けられた温度センサにより検出された温度が設定温度になるように液冷媒の流量を制御することが望ましい。
これによれば、横型容器内温度が設定温度よりも高いときは、液冷媒の流量を増やすことで、ガスハイドレートペレットが十分冷却されてない状態で排出されることを防止することができる。また、横型容器内温度が設定温度よりも低いときは、液冷媒の流量を減らすことで、気化することなく液状のままの液冷媒が横型容器の底面に貯留することを防止できる。すなわち、目標冷却温度のガスハイドレートペレットを得るために必要な液冷媒を流量を制御しながら供給することができるので、ガスハイドレートペレットを効率よく冷却することができる。
本発明によれば、ガスハイドレートペレットを効率よく冷却するガスハイドレートペレット冷却装置を実現することができる。
以下、本発明を適用してなるガスハイドレートペレット冷却装置の実施形態を、図1を用いて説明する。図1は、本発明のガスハイドレートペレット冷却装置を適用してなるガスハイドレートペレット製造プラントの全体構成を示す図である。なお、本実施形態は、天然ガスのハイドレート(以下、NGHという。)ペレットを製造するプラントを示しているが、本発明は天然ガスに限らず、他の原料ガスのハイドレートペレット製造にも適用できる。
図1に示すように、本実施形態のハイドレートペレット製造プラント1は、NGHスラリーを生成する生成器2と、生成器2で生成されたNGHスラリーから水分を分離する脱水塔3と、脱水塔3で脱水されたNGHに再度天然ガスを供給して、NGH中に含まれる未反応水と天然ガスとを反応させて粉状のNGHを生成する流動層反応塔4と、流動層反応塔4で生成された粉状NGHを圧縮成型してNGHペレットを生成する高圧ペレタイザー5と、NGHペレットを冷却するNGHペレット冷却装置6と、冷却されたNGHペレットを大気圧まで脱圧するNGHペレット脱圧器7とを備えて構成されている。生成器2、脱水塔3、流動層反応塔4、高圧ペレタイザー5は、いずれも所定の高圧(例えば、3〜10MPa)で、かつ所定の低温(例えば、0℃〜10℃)に保持されている。
生成器2は、円筒状の容器10と、容器内を攪拌する攪拌機11と、容器の下部に設けられたノズル12などで構成されている。また、容器10の上部とノズル12は、循環ガスブロワー13を介して接続されており、容器10底部と容器10上部は、循環スラリーポンプ15及び冷却器16を介して接続されている。
図示していない供給装置から、高圧の原料ガス(天然ガス)と高圧の水が生成器2内に導入されると、天然ガスと水は生成器2内の低温高圧条件下で反応してスラリー状のNGHが生成される。このとき、未反応の天然ガスは、容器10の上部から循環ガスブロワー13を介して抜き出された後ノズル12から吐出され、攪拌機11によって水とともに攪拌されて反応が促進される。また、NGHの生成は発熱を伴うことから、NGHスラリーは、容器底部から循環スラリーポンプ15を介して抜き出され、冷却器16で冷媒と熱交換して冷却された後に容器10上部に戻される。このようにして生成器2で生成されたNGHスラリーは、生成器2の底部からスラリー移送ポンプ18によって連続的に抜き出され、脱水塔3の底部に供給される。
脱水塔3は、円筒状の縦型容器20と、縦型容器20の略中央に設けられた水抜き部21と、水抜き部21に対応する縦型容器内壁である多孔壁22などで構成されている。多孔壁22は、例えば金網や多孔板等により形成されるのが好ましい。また、水抜き部21は、流量制御弁23及び脱水循環ポンプ24を介して容器10の上部と接続されており、さらに、水抜き部21には水位計25が備えられている。なお、図示していないが、縦型容器20の外周は、ジャケットで包囲されており、ジャケットに冷媒を循環することにより縦型容器20内は所定の低温に保たれている。
生成器2から供給されたNGHスラリーは、スラリー中に含まれる水分が多孔壁22を通って水抜き部21に分離除去され、濃度の高いNGHスラリーとなって縦型容器20の頂部に達する。水抜き部21に貯留する水は、流量制御弁23を介して脱水循環ポンプ24により抜き出され容器10に戻される。ここで、脱水塔3で脱水されたNGHスラリーの濃度を制御するために、容器10に戻される水量は、水抜き部21における水位を設定水位に保つように水位計25の計測値に基づいて流量制御弁23で制御している。脱水塔3で水分が分離除去されたNGHスラリーは、縦型容器20の頂部から流動層反応塔4の略中央部に供給される。
流動層反応塔4は、円筒状の縦型容器30と、多孔板31と、NGHを排出する排出機32と、排出機32を回転駆動するモータ33などで構成されている。また、縦型容器30の頂部と底部は、冷却装置35と循環ブロワー36を介して接続されている。ここで、排出機32は、例えばスクリューコンベア又は回転軸に複数の攪拌羽根が設けられた攪拌排出機などとするのが好ましい。
脱水塔3から供給されたNGHスラリーは、流動層反応塔4内で多孔板31の上部に蓄積される。そして、冷却装置35により冷却された天然ガスが循環ブロワー36を介して縦型容器30の底部から噴出されると、多孔板31の上部にNGHの流動層が形成される。この流動層においてNGHの付着水と天然ガスとが反応して粉状NGHが生成される。このようにして生成された粉状NGHは、排出機32で搬送されて高圧ペレタイザー5に供給される。
高圧ペレタイザー5は、容器40と、複数のディンプル41を有する2つのロール42と、ロール42を回転駆動するモータ43などで構成されている。なお、図示していないが、容器40の外周は、ジャケットで包囲されており、ジャケットに冷媒を循環することにより容器40内は所定の低温に保たれている。
流動層反応塔4から供給された粉状NGHは、図示矢印方向45に回転する2つのロール42に圧縮されながら下方に押し出され、2つのロール42が略接触する部分の2つのディンプル41によって形づけられたNGHペレットとなる。生成されたNGHペレットは、NGHペレット冷却装置6に供給される。
なお、生成器2、脱水塔3、流動層反応塔4、高圧ペレタイザー5と処理されるにつれて、NGH中に含まれる水分量は序々に低下しているが、NGHペレットとなってNGHペレット冷却装置6に供給される時点では、若干の水分が付着している。
次に、本実施形態の特徴部であるNGHペレット冷却装置6について詳細に説明する。NGHペレット冷却装置6は、横型容器50と、横型容器50の一端に設けられた供給口51と、横型容器50内に設けられた搬送機52と、横型容器50の他端に設けられた排出口53と、搬送機52を回転駆動するモータ54と、横型容器50の胴部の略中央上部に設けられた噴霧ノズル55などで構成されている。また、噴霧ノズル55は、流量調整弁56を介して液冷媒ポンプ57に接続されており、さらに、流量調整弁56は、横型容器50内のNGHペレットの出口部に設けられた温度センサ58と接続されている。ここで、搬送機52は、スクリューコンベア又は回転軸に複数の攪拌羽根が設けられた攪拌搬送機であるのが望ましいが、これに限らず、NGHペレットを攪拌・回転させながら搬送できるものであればよい。
高圧ペレタイザー5で生成されたNGHペレットは、供給口51から横型容器50内に供給され、搬送機52の回転にともなって、図示矢印59方向へ搬送される。一方、液化天然ガス(LNG)は、液冷媒ポンプ57に吸引されて、流量調整弁を介して噴霧ノズル55から横型容器50内に噴霧される。噴霧されたLNGは、横型容器50内の雰囲気温度によって温度上昇して気化するとともに、搬送機52によって搬送されているNGHペレットの表面に付着し、温度上昇して気化する。すなわち、横型容器50内の雰囲気及びNGHペレットは、LNGの気化熱によって急速に冷却される。このとき、LNGの流量は、温度センサ58の温度に基づき流量制御弁56で制御されている。
このようにしてLNGの気化熱により目標冷却温度まで冷却されたNGHペレットは、排出口53から排出され、NGHペレット脱圧器7に供給され、NGHペレット脱圧器7で大気圧まで脱圧されて製品としてのNGHペレットが生成される。なお、図示していないが、NGHペレット脱圧器7の外周は、ジャケットで包囲されており、ジャケットに冷媒を循環することによりNGHペレット脱圧器7内は所定の低温に保たれている。
以上、説明してきたように、本実施形態のNGHペレット冷却装置によれば、沸点がNGHペレットの目標冷却温度よりも低い液冷媒を直接NGHペレットに噴霧するので、NGHペレット表面での気化熱を利用して急速冷却が可能となる。したがって、NGHペレットを効率よく冷却するガスハイドレートペレット冷却装置を実現することができる。
しかも、NGHペレットは、攪拌されて回転しながら搬送されているので、表面全体にまんべんなく液冷媒が付着し、表面全体で液冷媒の気化熱による冷却が行われる。したがって、さらに効率よくNGHペレットを冷却することができる。
また、温度センサ58によって横型容器50内のNGHペレットの出口部の温度を検出し、その温度に応じてLNGの流量を制御弁56で制御するので、NGHペレットを目標冷却温度まで冷却するために必要な量のLNGを供給することができ、効率のよい冷却が実現できる。
なお、本実施形態では、LNGを用いてNGHペレットの冷却を行ったが、LNGに限らず、沸点がNGHペレットの目標冷却温度より低い液冷媒であれば本発明の効果を奏することができる。
本発明のガスハイドレートペレット冷却装置を適用してなるガスハイドレートペレット製造プラントの全体構成を示す図である。
符号の説明
1 ガスハイドレートペレット製造プラント
6 NGHペレット冷却装置
50 横型容器
51 供給口
52 搬送機
53 排出口
55 噴霧ノズル
56 流量調整弁
57 液冷媒ポンプ
58 温度センサ

Claims (4)

  1. 横型容器と、該横型容器の一端に設けられ、原料ガスと水とを水和反応させて生成されたガスハイドレートをペレット化したガスハイドレートペレットが供給される供給口と、該横型容器内に設けられ、前記供給口から供給された前記ガスハイドレートペレットを搬送する搬送手段と、前記横型容器の他端に設けられ、前記搬送手段により搬送された前記ガスハイドレートペレットを排出する排出口と、前記横型容器の胴部に設けられ、前記搬送手段により搬送される前記ガスハイドレートペレットに、沸点が目標冷却温度未満の液冷媒を噴霧するノズルと、該ノズルに前記液冷媒を供給するポンプとを備えてなるガスハイドレートペレット冷却装置。
  2. 前記搬送手段は、前記ガスハイドレートペレットを攪拌しながら搬送することを特徴とする請求項1に記載のガスハイドレートペレット冷却装置。
  3. 前記搬送手段は、スクリューコンベア又は回転軸に複数の攪拌羽根が設けられた攪拌搬送機であることを特徴とする請求項2に記載のガスハイドレートペレット冷却装置。
  4. 前記液冷媒を前記ノズルに供給する供給路に前記液冷媒の流量を制御する流量制御弁を設け、前記流量制御弁は、前記横型容器内に設けられた温度センサにより検出された温度が設定温度になるように前記液冷媒の流量を制御することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1つに記載のガスハイドレートペレット冷却装置。
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