JP2007220980A - 太陽電池セルの製造方法および製造装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】Si基板自体の厚みばらつきを、製造工程で増加させず、均一なエッチング量を制御することによって、安定した生産性が実現できる太陽電池セル製造方法を得る。
【解決手段】機械加工によってSi基板をスライスする第1工程と、水酸化アルカリを含む水溶液によってSi基板の表面のエッチングを行う第2工程と有し、第2工程のエッチングは、水溶液に新液が投入されてからの処理回数に応じて、処理時間を長くする。また、第2工程の後に、水酸化アルカリを含む水溶液によってSi基板の表面を凹凸にするためのエッチングを行う第3工程と有し、第3工程のエッチングは、水溶液に新液が投入されてからの処理回数に応じて、処理時間を長くする。
【選択図】図1
【解決手段】機械加工によってSi基板をスライスする第1工程と、水酸化アルカリを含む水溶液によってSi基板の表面のエッチングを行う第2工程と有し、第2工程のエッチングは、水溶液に新液が投入されてからの処理回数に応じて、処理時間を長くする。また、第2工程の後に、水酸化アルカリを含む水溶液によってSi基板の表面を凹凸にするためのエッチングを行う第3工程と有し、第3工程のエッチングは、水溶液に新液が投入されてからの処理回数に応じて、処理時間を長くする。
【選択図】図1
Description
この発明は、安定した生産性が得られる太陽電池セルの製造方法に関する。
従来の太陽電池セルの製造方法では、IDソー、ワイヤソーなどの機械加工によってSiインゴットからSi基板をスライスする工程、スライス工程時にSi基板の表面に付いた傷による基板表面ダメージおよびスライス工程での汚染物を取り除くために第1の表層部を除去する1次エッチング工程、および太陽電池セルとして入射する光を効率良く吸収するために太陽電池セルの表面(受光面)に凹凸構造を形成するための第2の表層部を除去する2次エッチング工程を有している(例えば、特許文献1参照)。
1次エッチングとして、温度80〜90℃、濃度1〜3mol/リットルの水酸化アルカリ(水酸化ナトリウム水溶液または水酸化カリウム水溶液)を用い、バブリングまたは揺動の下で処理する方法がある。また、2次エッチングとして、水12リットルに対して3リットルのイソプロピルアルコール(IPA)および300gの水酸化ナトリウムを添加した混合溶液を用いて、温度85℃の加熱沸騰下で処理する方法がある(例えば、特許文献2参照)。
従来の太陽電池セルの製造方法では、1次エッチング工程と2次エッチング工程とにおいて、それぞれ特定の処理回数を、それぞれ一定の処理時間でエッチング処理していた。この方法では、エッチングの処理回数が増加すると共に、水酸化アルカリを含む水溶液の濃度が低下するので、エッチング量が片面で8〜20μmとばらつき、エッチング後のSi基板自体の厚みのばらつきが生じる。このため、所定のエッチング量以上にエッチングされたSi基板は薄くなるので、エッチング工程以降の工程においてSi基板が割れやすくなるという問題点があった。また、エッチング工程でのSi基板の割れ率およびSi基板の反り量は、Si基板の板厚の2乗に反比例する。このため、スライスするSi基板の板厚の薄板化に伴い、Si基板が割れにくくするためには、必要以上のエッチングを避ける必要がある。さらに、エッチングの処理回数の増加に伴う水溶液の濃度変化を小さくするために、水溶液を新液に交換した後のエッチングの処理回数を数回にすると、水溶液の交換のためのコストが高くなるという問題点があった。
この発明は、上述のような課題を解決するためになされたもので、水溶液を新液に交換した後のエッチングの処理回数を減らすことなく、Si基板の厚みばらつきを低減し、安定した生産性が得られる太陽電池セルの製造方法を得ることができる。
この発明に係る太陽電池セルの製造方法は、機械加工によってSi基板をスライスする第1工程と、水酸化アルカリを含む水溶液によってSi基板の表面のエッチングを行う第2工程とを有し、第2工程のエッチングは、水溶液に新液が投入されてからの処理回数の増加に応じて、処理時間を長くしたことを特徴とするものである。
この発明に係る太陽電池セルの製造装置は、機械加工によってスライスしたSi基板の表面に対して水酸化アルカリを含む水溶液によってエッチングを行うエッチング処理部と、水溶液に新液が投入されてからのエッチングの処理回数の増加に応じて、エッチングの処理時間を長くした制御を行う制御部とを備えたことを特徴とするものである。
この発明に係る太陽電池セルの製造方法は、機械加工によってSi基板をスライスする第1工程と、水酸化アルカリを含む水溶液によってSi基板の表面のエッチングを行う第2工程とを有し、第2工程のエッチングは、水溶液に新液が投入されてからの処理回数の増加に応じて、処理時間を長くしたので、単結晶Siまたは多結晶Siのどちらの基板でも、生産工程にて基板の厚みばらつきを低減することによって、安定した生産性が得られる。また、太陽電池セルの性能ばらつきを抑制することができる。
この発明に係る太陽電池セルの製造装置は、機械加工によってスライスしたSi基板の表面に対して水酸化アルカリを含む水溶液によってエッチングを行うエッチング処理部と、水溶液に新液が投入されてからのエッチングの処理回数の増加に応じて、エッチングの処理時間を長くした制御を行う制御部とを備えたので、単結晶Siまたは多結晶Siのどちらの基板でも、生産工程にて基板の厚みばらつきを低減することによって、安定した生産性が得られる。また、太陽電池セルの性能ばらつきを抑制することができる。
実施の形態1.
図1は、この発明を実施するための実施の形態1における太陽電池セルの製造装置であるエッチング装置の構成図である。図1において、エッチング装置1は、水酸化アルカリを含む水溶液であるエッチング液2が投入されたエッチング槽3、エッチング槽3へエッチング液2の投入および廃棄を行うエッチング液調節器4、非処理部材であるp型Si基板5を保持するエッチング冶具6、エッチング冶具6を昇降するための上下スライダー7、エッチング冶具6を搬送し、上下スライダー7を駆動する搬送ロボット8、エッチング液調節器4および搬送ロボット8を制御する時間制御シーケンサ9によって構成されている。
図1は、この発明を実施するための実施の形態1における太陽電池セルの製造装置であるエッチング装置の構成図である。図1において、エッチング装置1は、水酸化アルカリを含む水溶液であるエッチング液2が投入されたエッチング槽3、エッチング槽3へエッチング液2の投入および廃棄を行うエッチング液調節器4、非処理部材であるp型Si基板5を保持するエッチング冶具6、エッチング冶具6を昇降するための上下スライダー7、エッチング冶具6を搬送し、上下スライダー7を駆動する搬送ロボット8、エッチング液調節器4および搬送ロボット8を制御する時間制御シーケンサ9によって構成されている。
本実施の形態では、1回のエッチング処理におけるp型Si基板5の処理枚数を多くするために、エッチング冶具6を多段にしている。時間制御シーケンサ9によって、搬送ロボット8を制御して、p型Si基板5の投入および排出を行い、エッチングの処理時間を制御する。なお、本実施の形態ではSi基板をp型Si基板5としているが、n型Si基板でもよい。太陽電池セルの製造装置は、機械加工によってスライスしたp型Si基板5の表面に対して水酸化アルカリを含む水溶液であるエッチング液2によってエッチングを行うエッチング処理部であるエッチング装置1とエッチング液2に新液が投入されてからのエッチング装置1での処理回数の増加に応じて、エッチングの処理時間を長くした制御を行う制御部である時間制御シーケンサ9とによって構成されている。
p型Si基板5は、多結晶Siインゴットからワイヤソー等の機械加工によって切り出された後は未処理の状態である「アズ・スライスの多結晶Si基板」と呼ばれる多結晶Si基板を使用した。機械加工によってp型Si基板5をスライスする工程の一例は次のとおりである。なお、機械加工によってp型Si基板5をスライスする工程を第1工程とする。p型Si基板5は、多結晶Siインゴットをマルチワイヤーソーにて、ワイヤー径0.18mmφのワイヤーと#800のSiCの砥粒とを用いて、ワイヤー速度(一方向送り)500〜700m/minの条件で、350μm程度の厚さに切り出した基板である。この条件でスライスした場合における、p型Si基板5の表面の平均表面あらさRaは5μm程度である。
次に、p型Si基板5をスライスする第1工程以降の太陽電池セルの製造工程について説明する。図2は、太陽電池セルの製造工程の工程フロー図である。図2(a)は、多結晶Siインゴットからスライスされたままのp型Si基板5を示している。太陽電池セルの場合には、多結晶Siインゴットからスライスされたままの基板を用いることが多い。このため、p型Si基板5の表面である第1の表層部17には、スライス工程時にSi基板の表面に付いた傷による基板表面ダメージおよびスライス工程での汚染物が存在する。
図2(b)は、p型Si基板5上の第1の表層部17を取り除くための1次エッチング工程である。第1の表層部17には、基板表面ダメージおよびスライス工程の汚染物を多く含んでおり、汚染物が残存した状態では、p型Si基板5は半導体結晶として十分に機能しない。半導体デバイスである太陽電池セルを有効に機能させるためには、これら損傷を受けた部分を除去する必要がある。このため、適切な一定時間、エッチング処理を行い、片面5〜15μm程度の深さの表層部、すなわち第1の表層部17をエッチングで除去する。このエッチングを1次エッチングとする。1次エッチングは水酸化アルカリを含む水溶液によってp型Si基板5の表面のエッチングを行う第2工程である。1次エッチングの処理はエッチング装置1を用いて行う。1次エッチングの方法としては、温度80〜90℃、濃度1〜3mol/リットルの水酸化アルカリ(水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウム水溶液)を含む水溶液を用い、バブリングまたは揺動によって処理する。1次エッチング工程において、水酸化アルカリを含む水溶液は10〜40回の処理回数で新液に交換される。
表面ダメージおよびスライス工程の汚染除去の状態を把握するためには、太陽電池セル開放電圧(Voc)を測定する方法がある。開放電圧は、太陽電池セルの正極と負極との間に何も接続しない状態での電圧である。そして、表面ダメージおよびスライス工程の汚染の除去が不十分であると、この開放電圧が低下する。
図2(c)の工程は、太陽電池セルの表面(受光面)であるp型Si基板5の表面に凹凸構造19を形成するために第2の表層部18を除去する2次エッチング工程である。2次エッチングは水酸化アルカリを含む水溶液によってp型Si基板5の表面を凹凸にするためのエッチングを行う第3工程である。p型Si基板5を太陽電池セルとして有効に機能させるためには、入射する太陽光を効率良く吸収する、いわゆる光閉じ込めを行う必要がある。このための一要素としてp型Si基板5の表面に凹凸構造19を設けて光路の曲げおよび多重反射を利用する。1次エッチングには、p型Si基板5の表面に比較的平坦性を持たせる目的があり、この工程だけでは光閉じ込めに効果的なp型Si基板5の表面の凹凸構造19は得られない。したがって、光閉じ込めに効果的なp型Si基板5の表面の凹凸構造19を得るため、1次エッチングの後の2次エッチングによって第2の表層部18を改めて除去する。
2次エッチングの方法としては、12リットルの水に対して3リットルのイソプロピルアルコール(IPA)および300gの水酸化ナトリウムを添加した混合溶液を用いて、温度85℃の加熱沸騰下で処理する。この2次エッチング工程でも10〜40回の処理回数で水溶液は新液に交換される。2次エッチングによって、機械加工によるスライス工程で損傷を受けた表層部が更に除去される。2次エッチングも、水溶液を交換することでエッチング装置1を用いて行うことができる。
凹凸構造19によって、通常の平坦な受光面であれば一回の反射で外部へ逃げてしまう光であっても、傾斜面を何回か反射させて、基板内部へ導入することが可能となるので、より多くの太陽光を太陽電池セル内部に吸収させることができ、太陽電池セルの変換効率が向上する。この向上の指針となる太陽電池セルの特性として短絡光電流密度(Jsc)がある。短絡光電流密度は、太陽光を入射した状態で太陽電池セルの正負両極を導線で接続し、短絡した状態での電流を、その太陽電池セルの面積で割った値である。この短絡光電流密度の値が大きいほど、より多くの太陽光が太陽電池セル内部に吸収されてエネルギー変換効率が向上していることを示しており、上述の凹凸構造19が効率よく形成されていることになる。2次エッチングを行うことによって、短絡光電流密度は1mA/cm2程度上昇する。
図2(d)において、例えばリン(P)を熱的に拡散することによって、導電型を反転させたn型拡散層12を形成する。通常リンの拡散源としては、オキシ塩化リン(POCl3)が用いられることが多い。n型拡散層12の抵抗値は数十Ω/□程度、拡散層の深さは0.3〜0.5μm程度である。p型Si基板5の片面をレジスト材などで保護し、図2(e)に示すように一主面のみにn型拡散層12を残すようにエッチング除去し、有機溶剤等を用いてレジスト材を除去する。
図2(f)において、n型拡散層12の反対面に、スクリーン印刷法またはロールコータ方式などによってアルミペースト電極13を形成する。そして、図2(g)に示すように、700〜900℃で数分から数十分、炉の中で焼成することによってアルミペーストから不純物としてアルミがp型Si基板5中に拡散し、高濃度不純物を含んだp+層14が形成される。この層はBSF(Back Surface Field)層と呼ばれ、太陽電池セルのエネルギー変換効率の向上に寄与するものである。また、この工程の後で、n型拡散層12の表面に反射防止膜を設けてもよい。
そして、図2(h)に示すように、表面(受光面)と裏面とに銀ペースト電極15,16を印刷し、再度焼成を行うことで太陽電池セルが完成する。なお、工程簡略化のために図2(g)の焼成工程を省略し、図2(h)の後に一括焼成で太陽電池セルを完成させることも可能である。
このような、太陽電池セルの製造方法において、p型Si基板5の表層部のうちのスライス加工によって機械的損傷を受けた部分および汚染部分の除去を主な目的とする1次エッチングの処理を行う際に、1次エッチングに使用する水溶液の液疲労に対応するために、水溶液が新液に交換されてからの1次エッチングの処理回数の増加に応じて、1次エッチングの処理時間を長くする制御を行う。図3は、実施の形態1におけるエッチング時間制御パターンを変化させた場合の1次エッチングの処理回数とエッチングの処理時間およびエッチング量との関係を示したグラフである。図3において、左欄にエッチング時間制御パターンを、右欄に処理回数毎のエッチング量を示している。エッチング時間制御パターンは、処理回数に応じた処理時間の制御パターンである。
条件1〜4はそれぞれ異なるエッチング時間制御パターンである。処理回数の増加と共に処理時間を長くしている。条件4は、従来から行われている、処理回数が増加しても処理時間を一定とした場合である。水溶液が新液に交換されてからの処理回数に関わらず、処理時間を一定時間とした。水溶液は、新液の際の濃度が2.0mol/リットルの水酸化ナトリウム溶液である。この水溶液を用いて、このアズ・スライス多結晶Si基板であるp型Si基板5の表面をエッチングした。水溶液の温度は85℃である。
図3において、処理時間T2(sec)は、エッチングの処理回数30回目の処理時間で、エッチング処理によって太陽電池セル特性の開放電圧(Voc)のレベルが低下しない処理時間に設定されている。また、処理時間T1(sec)は、処理回数1回目の処理時間である。ここでは、処理時間T1をT1=0.7×T2<T2となるように設定した。条件1〜3では、処理時間T1から処理時間T2までの間で、処理回数が増加する毎に処理時間を任意に長くするような制御パターンを設定した。つまり、第2工程のエッチングである1次エッチングは、水溶液に新液が投入されてからの処理回数の増加に応じて、処理時間を長くした。ここで、新液の投入とは、水溶液を新液に交換することである。しかしながら、水溶液全体を完全に交換する必要はなく、水溶液の一部を新液に置換することでもよい。
条件1〜4のそれぞれの1次エッチングを行った後、p型Si基板5の表面(受光面)に凹凸構造19を形成するために第2の表層部18を除去する2次エッチングを行った。ここでは、2次エッチングの処理時間は、処理回数に関係なく一定の処理時間T3(sec)とした。
図3の右欄に示した条件1〜4に対応した処理回数毎のエッチング処理の実験結果から、1次エッチングの処理回数30回の場合での、エッチング量のばらつきがわかる。エッチング量は、条件1で5〜15μm、条件2で6〜15μm、条件3で6〜14μmとなっており、エッチング量のばらつきは10μm以下に抑えられている。しかしながら、処理時間が一定である条件4では、エッチング量のばらつきは5〜20μmとなり、条件1〜3に比べてエッチング量のばらつきが大きいことがわかる。
ここで、エッチング量のばらつきと太陽電池セルの特性との関係について述べる。図4は、実験結果に基づいてSi基板表面のダメージ層除去厚みと太陽電池セルのエネルギーの変換効率との関係を示したグラフである。図4からわかるように、ダメージ層除去厚みが小さい場合には変換効率が低下する。ダメージ層除去厚みを5μm以上にすることで、良好な変換効率を確保できる。一方、ダメージ層除去厚みを大きくすると、配線不良、基板割れなどの問題が生じ、結果的に変換効率が低下するので、ダメージ層除去厚みを15μm以下にすることが必要である。このため、最適なダメージ層除去厚みは5〜15μmであり、この条件を満たすようにエッチング量のばらつきを抑える必要がある。
そこで、エッチング量のばらつきを5〜15μmの範囲に収めるための、処理時間T1(sec)と処理時間T2(sec)との関係を実験によって調べた。図5は、実施の形態1における処理時間T1を変化させた場合の1次エッチングの処理回数と処理時間およびエッチング量との関係を示したグラフである。2次エッチングの処理時間は、処理回数に関係なく一定の処理時間T3(sec)とした。条件5は、処理時間T1をT1=0.7×T2となるように設定した場合で、エッチング量のばらつきは5〜15μmの範囲に収まる。図3の条件4において、処理時間を一定にした場合には、エッチング量のばらつきは5〜20μmとなることを考慮すると、処理時間T1は処理時間T2×0.7が上限であり、処理時間T2×0.7以下に設定する必要がある。
条件6は、処理時間T1をT1=0.5×T2となるように設定した場合で、エッチング量のばらつきは5〜10μmの範囲に収まる。また、条件7は、処理時間T1をT1=0.3×T2となるように設定した場合で、エッチング量は安定して5μmとなる。処理時間T1を条件7よりも短くすると、エッチング量は5μmを下回り、太陽電池セルの変換効率が低下するので、処理時間T1は処理時間T2×0.3以上に設定する必要がある。水溶液に新液が投入されてから次の新液が投入されるまでの1次エッチングの処理回数が30回の場合には、水溶液に新液が投入された後の1回目のエッチングの処理時間を30回目のエッチングの処理時間の0.3倍以上、0.7倍以下の範囲に設定することによって、エッチング量のばらつきを5〜15μmの範囲に収めることができる。処理回数が増加することによって、処理時間が徐々に長くなる理由は次のとおりである。新液状態では水溶液の濃度が濃いために、処理時間が短くても所望のエッチング量が得られ、処理回数が増加する毎に、水溶液の濃度が薄くなり、ある一定量のエッチング量を得るには、処理時間が長くなるためである。
図5に示した実験結果から、水溶液に新液が投入されてから次の新液が投入されるまでの1次エッチングの処理回数をN回(10≦N≦40)とした場合でも、エッチング量のばらつきを5〜15μmの範囲に収めるために、N回目のエッチングの処理時間T2に対して、水溶液に新液が投入された後の1回目のエッチングの処理時間T1をどのような範囲に設定すればよいかがわかる。
図5に示した条件7では、エッチングの処理回数30回までの間、エッチング量が不変である。このため、処理回数10回の場合では、処理回数1回目の処理時間を0.3×T2、処理回数10回目の処理時間を0.53×T2としてもエッチング量は不変である。つまり、処理回数1回目の処理時間は、処理回数10回目の処理時間の0.56倍となる。処理回数20回の場合では、処理回数1回目の処理時間を0.3×T2、処理回数20回目の処理時間を0.77×T2としてもエッチング量は不変である。つまり、処理回数1回目の処理時間は、処理回数20回目の処理時間の0.39倍となる。このことから、処理回数N回の場合には、処理回数1回目の処理時間は、処理回数N回目の処理時間の1/(0.078×N+1)倍に設定すれば、エッチング量が不変となる。
また、図5に示した条件5から、エッチングの処理回数N回の場合では、処理回数1回目の処理時間は、処理回数N回目の処理時間の1.27/(0.027×N+1)倍以下に設定すれば、エッチング量のばらつきを5〜15μmの範囲に収めることができる。なお、処理回数10回以下の場合であれば、エッチングの処理時間が一定でも、エッチング量のばらつきを5〜15μmに収めることができる。一方、水溶液の交換前後の生産タクトバランスから、エッチングの処理回数40回以上の場合では、エッチング時間が極端に長くなるため、エッチングの処理回数の上限は40回以下となる。これらの結果をまとめると、エッチングの処理回数を10〜40回とし、1次エッチングの処理回数をN回(10≦N≦40)とし、N回目のエッチングの処理時間T2に対して、式(1)を満たすように、水溶液に新液が投入された後の1回目のエッチングの処理時間T1を設定することによって、エッチング量のばらつきを5〜15μmの範囲に収めることができる。
以上のことから、p型Si基板5の表層部のうちの機械的損傷を受けた部分および汚染部分の除去を主な目的とする1次エッチング工程において、水溶液に新液が投入されてからの処理回数の増加に応じて、処理時間を長くしたことによって、エッチング量のばらつきを抑えることができる。
実施の形態2.
本実施の形態においては、Si基板の表面を凹凸にするための2次エッチングを行う際に、2次エッチングに使用する水溶液の液疲労に対応するために、水溶液が新液に交換されてからの2次エッチングの処理回数の増加に応じて、処理時間を長くする制御を行う。図6は、実施の形態2におけるエッチング時間制御パターンを変化させた場合の2次エッチングの処理回数と処理時間およびエッチング量との関係を示したグラフである。図6において、左欄にエッチング時間制御パターンを、右欄に処理回数毎のエッチング量を示している。条件8〜11はそれぞれ異なるエッチング時間制御パターンである。処理回数の増加と共に処理時間を長くしている。条件11は、従来から行われている、処理回数が増加しても処理時間を一定とした場合である。水溶液が新液に交換されてからの処理回数に関わらず、処理時間を一定時間とした。水溶液は、水12リットルに対しイソプロピルアルコール(IPA)を3リットル、水酸化ナトリウムを300g添加した混合溶液である。
本実施の形態においては、Si基板の表面を凹凸にするための2次エッチングを行う際に、2次エッチングに使用する水溶液の液疲労に対応するために、水溶液が新液に交換されてからの2次エッチングの処理回数の増加に応じて、処理時間を長くする制御を行う。図6は、実施の形態2におけるエッチング時間制御パターンを変化させた場合の2次エッチングの処理回数と処理時間およびエッチング量との関係を示したグラフである。図6において、左欄にエッチング時間制御パターンを、右欄に処理回数毎のエッチング量を示している。条件8〜11はそれぞれ異なるエッチング時間制御パターンである。処理回数の増加と共に処理時間を長くしている。条件11は、従来から行われている、処理回数が増加しても処理時間を一定とした場合である。水溶液が新液に交換されてからの処理回数に関わらず、処理時間を一定時間とした。水溶液は、水12リットルに対しイソプロピルアルコール(IPA)を3リットル、水酸化ナトリウムを300g添加した混合溶液である。
図6において、処理時間T5(sec)は、エッチングの処理回数30回目の処理時間である。処理時間は、太陽電池セル特性の開放電圧(Voc)のレベルが低下しないエッチング量となるように設定されている。また、処理時間T4(sec)は、処理回数1回目の処理時間である。ここでは、処理時間T4をT4=0.5×T5<T5となるように設定した。条件8〜10では、処理時間T4から処理時間T5までの間で、処理回数が増加する毎に処理時間を任意に長くするように制御パターンを設定した。つまり、第3工程のエッチングである2次エッチングは、水溶液に新液が投入されてからの処理回数の増加に応じて、処理時間を長くした。ここで、新液の投入とは、水溶液を新液に交換することである。しかしながら、水溶液全体を完全に交換する必要はなく、水溶液の一部を新液に置換することでもよい。条件8〜10のそれぞれの2次エッチングを行う前には、実施の形態1の条件3に従って1次エッチングを行った。
図6の右欄に示した条件8〜11に対応した処理回数毎のエッチング処理の実験結果から、2次エッチングの処理回数30回の場合での、エッチング量のばらつきがわかる。エッチング量は、条件5〜7でほぼ10μm均一の値となった。しかしながら、処理時間が一定の条件11では、エッチング量のばらつきは8〜14μmとなり、条件8〜11に比べてエッチング量のばらつきが大きいことがわかる。
そこで、実施の形態1と同様に、エッチング量のばらつきを5〜15μmの範囲に収めるための、処理時間T4(sec)と処理時間T5(sec)との関係を実験によって調べた。図7は、実施の形態2における処理時間T4を変化させた場合の2次エッチングの処理回数と処理時間およびエッチング量との関係を示したグラフである。1次エッチングの条件は、実施の形態1の条件3である。
条件12は、処理時間T4をT4=0.7×T5となるように設定した場合で、エッチング量はほぼ15μm均一の値となった。条件13は、処理時間T4をT4=0.5×T5となるように設定した場合で、エッチング量はほぼ10μm均一の値となった。また、条件14は、処理時間T4をT4=0.3×T5となるように設定した場合で、ほぼ5μm均一の値となった。処理時間T4を条件14よりも短くすると、エッチング量は5μmを下回り、太陽電池セルの変換効率が低下するので、処理時間T4は処理時間T5×0.3以上に設定する必要がある。つまり、水溶液に新液が投入されてから次の新液が投入されるまでの2次エッチングの処理回数が30回の場合には、水溶液に新液が投入された後の1回目のエッチングの処理時間を30回目のエッチングの処理時間の0.3倍以上、1.0倍以下の範囲に設定することによって、エッチング量のばらつきを5〜15μmの範囲に収めることができる。
図6および図7に示した実験結果から、水溶液に新液が投入されてから次の新液が投入されるまでの2次エッチングの処理回数をM回(10≦M≦40)とした場合でも、エッチング量のばらつきを5〜15μmの範囲に収めるために、M回目のエッチングの処理時間T5に対して、水溶液に新液が投入された後の1回目のエッチングの処理時間T4をどのような範囲に設定すればよいかがわかる。
図7に示した条件14では、処理回数30回までの間、エッチング量が5μmで不変である。このため、処理回数10回の場合では、処理回数1回目の処理時間を0.3×T2、処理回数10回目の処理時間を0.53×T2としてもエッチング量は不変である。つまり、処理回数1回目の処理時間は、処理回数10回目の処理時間の0.56倍となる。処理回数20回の場合では、処理回数1回目の処理時間を0.3×T2、処理回数20回目の処理時間を0.77×T2としてもエッチング量は不変である。つまり、処理回数1回目の処理時間は、処理回数20回目の処理時間の0.39倍となる。このことから、処理回数M回の場合には、処理回数1回目の処理時間は、処理回数M回目の処理時間の1/(0.078×M+1)倍以上に設定すれば、エッチング量5μm以上となり、不変となる。
また、図6に示した条件11から、処理時間一定でもエッチング量のばらつきが8〜14μmに収まっている。このため、2次エッチングにおいては、処理時間T4=処理時間T5に設定しても、エッチング量のばらつきを5〜15μmの範囲に収めることができる。しかしながら、1次エッチングの条件3と2次エッチングとを組合せたことによって、エッチング量のばらつきを所定の範囲に収めることができたので、1次エッチングの条件によっては、処理時間T4を処理時間T5より短くしなければならない。ところで、水溶液の交換前後の生産タクトバランスから、エッチングの処理回数40回以上の場合では、エッチング時間が極端に長くなるため、エッチングの処理回数の上限は40回以下となる。また、エッチングの処理回数10回未満の場合では、本実施の形態のような処理を行うまでもなく、エッチング量のばらつきを所定の範囲に収めることができる。これらの結果をまとめると、2次エッチングの処理回数をM回(10≦M≦40)とし、M回目のエッチングの処理時間T5に対して、式(2)を満たすように、水溶液に新液が投入された後の1回目のエッチングの処理時間T4を設定することによって、エッチング量のばらつきを5〜15μmの範囲に収めることができる。
なお、1次エッチング工程におけるエッチング時間を一定として、2次エッチング工程のみに対して時間制御を行ってもよい。
以上のことから、太陽光の光閉じ込めをより有効にする凹凸構造形成し、機械加工によるスライス工程で損傷を受けた表層部を更に除去するエッチングを行う2次エッチング工程においても、水溶液に新液が投入されてからの処理回数の増加に応じて、処理時間を長くしたことによって、エッチング量のばらつきを抑えることができる。
1 エッチング装置、2 エッチング液、3 エッチング槽、4 エッチング液調節器、5 p型Si基板、6 エッチング冶具、7 上下スライダー、8 搬送ロボット、9 時間制御シーケンサ、12 n型拡散層、13 アルミペースト電極、14 p+層、15,16 銀ペースト電極、17 第1の表層部、18 第2の表層部、19 凹凸構造。
Claims (5)
- 機械加工によってSi基板をスライスする第1工程と、
水酸化アルカリを含む水溶液によって前記Si基板の表面のエッチングを行う第2工程とを有し、
前記第2工程のエッチングは、前記水溶液に新液が投入されてからの処理回数の増加に応じて、処理時間を長くしたことを特徴とする太陽電池セルの製造方法。 - 第2工程の後に、水酸化アルカリを含む水溶液によってSi基板の表面を凹凸にするためのエッチングを行う第3工程を有し、
前記第3工程のエッチングは、前記水溶液に新液が投入されてからの処理回数の増加に応じて、処理時間を長くしたことを特徴とする請求項1に記載の太陽電池セルの製造方法。 - 機械加工によってスライスしたSi基板の表面に対して水酸化アルカリを含む水溶液によってエッチングを行うエッチング処理部と、
前記水溶液に新液が投入されてからの前記エッチング処理部での処理回数の増加に応じて、前記エッチングの処理時間を長くした制御を行う制御部とを備えたことを特徴とする太陽電池セルの製造装置。
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