JP2007220344A - 集束イオンビーム装置及び試料の加工・観察方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】集束イオンビーム装置1は、試料Sを載置する試料台2と、試料台2を水平面上の二軸及び鉛直軸の三方向に移動させることが可能な三軸ステージ3と、試料Sに対して集束イオンビームI1、I2を照射する第一の集束イオンビーム鏡筒11及び第二の集束イオンビーム鏡筒12とを備え、第一の集束イオンビーム鏡筒11及び第二の集束イオンビーム鏡筒12は、互いの集束イオンビームI1、I2の照射方向が、平面視略対向するとともに、側方視鉛直軸に対して略線対称に傾斜するように配置されている
【選択図】図2
Description
本発明の集束イオンビーム装置は、試料を載置する試料台と、該試料台を水平面上の二軸及び鉛直軸の三方向に移動させることが可能な三軸ステージと、前記試料に対して集束イオンビームを照射する第一の集束イオンビーム鏡筒及び第二の集束イオンビーム鏡筒とを備え、前記第一の集束イオンビーム鏡筒及び前記第二の集束イオンビーム鏡筒は、互いの集束イオンビームの照射方向が、平面視略対向するとともに、側方視前記鉛直軸に対して略線対称に傾斜するように配置されていることを特徴としている。
この発明に係る集束イオンビーム装置によれば、第一の集束イオンビーム鏡筒及び第二の集束イオンビーム鏡筒のそれぞれの集束イオンビームの照射方向を、鉛直軸に対して20度以上70度以下とすることで、互いに、また、試料とも干渉すること無く、試料に集束イオンビームを照射することができる。
この発明に係る集束イオンビーム装置によれば、光学顕微鏡を有することで、作製される観察用断面を光学的に観察しながら試料の加工を行うことができる。このため、試料をさらに正確に加工することできる。
図1から図3は、この発明に係る第1の実施形態を示している。図1に示すように、集束イオンビーム装置1は、試料Sを載置する試料台2と、試料台2に載置された試料Sに対してそれぞれ集束イオンビームI1、I2を照射可能な第一の集束イオンビーム鏡筒11及び第二の集束イオンビーム鏡筒12とを備える。第一の集束イオンビーム鏡筒11及び第二の集束イオンビーム鏡筒12は、共に内部に図示しない例えばガリウムイオンなどのイオン源を有し、電圧を印加することによってイオンビームを引き出して加速させるとともに、図示しない静電レンズなどで集束させて、集束イオンビームI1、I2を照射可能なものである。また、第一の集束イオンビーム鏡筒11及び第二の集束イオンビーム鏡筒12は、内部に図示しない偏向電極を有しており、偏向電極で偏向させることで所定の範囲を照射することが可能である。その他、可変絞り、ブランキング電極など公知の構成を有しているものである。
図4及び図5は、この発明に係る第2の実施形態を示している。この実施形態において、前述した実施形態で用いた部材と共通の部材には同一の符号を付して、その説明を省略する。
図6から図8は、この発明に係る第3の実施形態を示している。この実施形態において、前述した実施形態で用いた部材と共通の部材には同一の符号を付して、その説明を省略する。
図9及び図10は、この発明に係る第4の実施形態を示している。この実施形態において、前述した実施形態で用いた部材と共通の部材には同一の符号を付して、その説明を省略する。この実施形態の集束イオンビーム装置80においては、Z軸方向から試料Sを光学的に観察可能な光学顕微鏡81を備えている。このような集束イオンビーム装置80においては、試料Sを効率的に加工することができるとともに、光学的に試料Sを観察することができることで、試料Sをより正確に加工することができる。
2 試料台
3 三軸ステージ
4 傾斜ステージ
5 回転ステージ
11 第一の集束イオンビーム鏡筒
12 第二の集束イオンビーム鏡筒
21 電子ビーム鏡筒(第一の電子ビーム鏡筒)
31 二次電子検出器(第一の二次電子検出器)
51 第一のガス銃
52 第二のガス銃
61 第一の電子ビーム鏡筒
62 第二の電子ビーム鏡筒
63 アルゴンイオンビーム鏡筒
71 第一の二次電子検出器
72 第二の二次電子検出器
81 光学顕微鏡
B、B1、B2 筋引き
E1、E2 電子ビーム
F1、F2 二次電子
G1、G2 デポジションガス
I1、I2 集束イオンビーム
I3 アルゴンイオンビーム
L1、L2 境界線
S 試料
S1 観察用断面
S2 観察用試料
S3 一観察面
S4 他の観察面
X、Y 水平面上の軸
Z 鉛直軸
θ 傾斜角
Claims (13)
- 試料を載置する試料台と、
該試料台を水平面上の二軸及び鉛直軸の三方向に移動させることが可能な三軸ステージと、
前記試料に対して集束イオンビームを照射する第一の集束イオンビーム鏡筒及び第二の集束イオンビーム鏡筒とを備え、
前記第一の集束イオンビーム鏡筒及び前記第二の集束イオンビーム鏡筒は、互いの集束イオンビームの照射方向が、平面視略対向するとともに、側方視前記鉛直軸に対して略線対称に傾斜するように配置されていることを特徴とする集束イオンビーム装置。 - 請求項1に記載の集束イオンビーム装置において、
前記試料台を前記鉛直軸回りに回転させることが可能な回転ステージと、
前記試料台を前記第一の集束イオンビーム鏡筒及び前記第二の集束イオンビーム鏡筒の照射方向と略平行な軸回りに回転させることが可能な傾斜ステージとを備えることを特徴とする集束イオンビーム装置。 - 請求項1または請求項2に記載の集束イオンビーム装置において、
前記第一の集束イオンビーム鏡筒及び前記第二の集束イオンビーム鏡筒のそれぞれの集束イオンビームの照射方向は、共に前記鉛直軸に対して20度以上70度以下の傾斜角を有していることを特徴とする集束イオンビーム装置。 - 請求項1から請求項3のいずれかに記載の集束イオンビーム装置において、
前記試料に対して電子ビームを照射する第一の電子ビーム鏡筒と、
該第一の電子ビーム鏡筒から前記試料に電子ビームが照射されることで、前記試料から発生する二次電子を検出する第一の二次電子検出器とを備え、
前記第一の電子ビーム鏡筒は、電子ビームの照射方向が前記第一の集束イオンビーム鏡筒及び前記第二の集束イオンビーム鏡筒のそれぞれの集束イオンビームの照射方向と平面視略直交するように配置されていることを特徴とする集束イオンビーム装置。 - 請求項4に記載の集束イオンビーム装置において、
前記第一の電子ビーム鏡筒の電子ビームの照射方向と平面視略対向するように、前記試料に対して電子ビームを照射する第二の電子ビーム鏡筒と、
該第二の電子ビーム鏡筒から前記試料に電子ビームが照射されることで、前記試料から発生する二次電子を検出する第二の二次電子検出器とを備えることを特徴とする集束イオンビーム装置。 - 請求項1から請求項5のいずれかに記載の集束イオンビーム装置において、
前記第一の集束イオンビーム鏡筒及び前記第二の集束イオンビーム鏡筒のそれぞれと対応して、集束イオンビームが照射されるのと同時にデポジションガスを噴出させる第一のガス銃及び第二のガス銃を備えることを特徴とする集束イオンビーム装置。 - 請求項1から請求項6のいずれかに記載の集束イオンビーム装置において、
前記試料に対して前記鉛直軸方向からアルゴンイオンビームを照射するアルゴンイオンビーム鏡筒を備えることを特徴とする集束イオンビーム装置。 - 請求項1から請求項6のいずれかに記載の集束イオンビーム装置において、
前記鉛直軸方向から前記試料を光学的に観察可能な光学顕微鏡を備えることを特徴とする集束イオンビーム装置。 - 試料に集束イオンビームを照射してエッチングを行うことで、前記試料の所定位置に観察用断面を作製し、該観察用断面の観察を行う試料の断面加工・観察方法であって、
試料台に載置された前記試料に対して、平面視略対向し、側方視鉛直軸に対して略線対称に傾斜した異なる二つの照射方向から集束イオンビームを照射して前記観察用断面を作製し、
作製された該観察用断面に対向する照射方向から電子ビームを照射して、前記試料の前記観察用断面から二次電子を発生させるとともに、該二次電子を検出することで前記観察用断面を観察することを特徴とする試料の断面加工・観察方法。 - 請求項9に記載の試料の断面加工・観察方法において、
異なる二つの照射方向から照射される前記集束イオンビームと対応して、前記電子ビームも平面視略対向する二つの照射方向から照射され、
該電子ビームのそれぞれと対応して発生する二次電子をそれぞれ検出することを特徴とする試料の断面加工・観察方法。 - 請求項9または請求項10に記載の断面加工・観察方法において、
前記集束イオンビームによって前記試料をエッチングする前工程として、異なる二つの照射方向から前記集束イオンビームを照射するのと同時に、それぞれの該集束イオンビームと対応してデポジションガスを噴出させて、前記試料の表面にデポジションを行うことを特徴とする試料の断面加工・観察方法。 - 請求項9から請求項11のいずれかに記載の試料の断面加工・観察方法において、
前記集束イオンビームを照射して前記観察用断面を作製した後に、さらに、前記観察用断面にアルゴンイオンビームを照射して前記観察用断面の仕上げ加工を行ってから、前記観察用断面を観察することを特徴とする試料の断面加工・観察方法。 - 請求項9から請求項12のいずれかに記載の試料の断面加工・観察方法において、
前記電子ビームを前記試料に照射して、前記試料から発生する前記二次電子を検出することで前記観察用断面の観察像を取得し、該観察像の色調差によって所定の二つの境界線を識別して該境界線間の距離を測定することで、前記観察用断面の断面測長を行うことを特徴とする試料の断面加工・観察方法。
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