JP4413746B2 - 荷電粒子ビーム装置 - Google Patents
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Claims (13)
- 試料を保持してXY平面内及び前記XY平面に垂直なZ軸方向に移動可能なステージと、
前記Z軸に平行な光軸を有する第1のカラムと、
前記Z軸に対して傾斜した光軸を有する第2のカラムと、
前記第1のカラムによる視野像及び第2のカラムによる視野像を処理するとともに前記ステージの移動を制御する制御部とを備え、
前記ステージ上に前記第1のカラムと第2のカラムの、視野合せ調整用のマークが形成された部位を有し、
前記制御部は、基準高さにある前記マークを前記第1のカラムの視野中心に位置させた際の前記マークのステージ座標と、前記マークを前記第2のカラムの視野中心に位置させた際の前記マークのステージ座標を求め、前記第1のカラムによる前記マークのステージ座標と前記第2のカラムによる前記マークのステージ座標の差分を、前記第1のカラムの視野と第2のカラムの視野のオフセットとして求める
ことを特徴とする荷電粒子ビーム装置。 - 請求項1記載の荷電粒子ビーム装置において、前記視野合せ調整用のマークは90°回転対称な図形であることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
- 請求項1又は2記載の荷電粒子ビーム装置において、前記視野合せ調整用のマークが形成された部位は、ウェーハを保持するウェーハホールダ上に設けられていることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
- 請求項1〜3のいずれか1項記載の荷電粒子ビーム装置において、前記視野合せ調整用のマークのZ方向高さを基準高さに設定した状態で前記第1のカラムによって観察した前記マークのステージ座標と前記第2のカラムによって観察した前記マークのステージ座標の差分を、前記第1のカラムの視野と第2のカラムの視野のオフセットとして記憶していることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
- 請求項1〜4のいずれか1項記載の荷電粒子ビーム装置において、前記第2のカラムは集束イオンビーム及び/又は走査電子顕微鏡であることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
- 請求項5記載の荷電粒子ビーム装置において、前記集束イオンビームの光軸及び前記走査電子顕微鏡の光軸はそれぞれ前記Z軸に対して45゜傾斜し、かつ相互の光軸の交差角が90゜であることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
- 請求項1〜6のいずれか1項記載の荷電粒子ビーム装置において、前記第1のカラムは光学顕微鏡であることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
- 試料を保持してXY平面内及び前記XY平面に垂直なZ軸方向に移動可能なステージと、前記Z軸に平行な光軸を有する第1のカラムと、前記Z軸に対して傾斜した光軸を有する第2のカラムとを備える荷電粒子ビーム装置のアライメント方法において、
基準高さにあるマークを前記第1のカラムの視野中心に位置させ、前記マークのステージ座標を求めるステップと、
前記マークを前記第2のカラムの視野中心に位置させ、前記マークのステージ座標を求めるステップと、
前記第1のカラムによる前記マークのステージ座標と前記第2のカラムによる前記マークのステージ座標の差分を、前記第1のカラムの視野と第2のカラムの視野のオフセットとして求めるステップとを有することを特徴とするアライメント方法。 - 請求項8記載のアライメント方法において、
前記ステージをXY平面内で移動し、前記第1のカラムの視野中心に試料上の既知マークを位置させるステップと、
前記オフセット分だけ前記ステージを移動するステップと、
前記第2のカラムで前記既知マークを観察し、視野中心からのずれ量を求めるステップと、
前記ずれ量をもとに前記基準高さからの試料の高さずれを求めるステップと、
求めた高さずれ分だけ前記ステージをZ軸方向に移動し、前記既知マークが設けられた試料表面を前記基準高さに調整するステップとを有することを特徴とするアライメント方法。 - 試料を保持してXY平面内及び前記XY平面に垂直なZ軸方向に移動可能なステージと、前記Z軸に平行な光軸を有する光学顕微鏡と、YZ平面内で前記Z軸に対して45゜傾斜した光軸を有する第1のカラムと、XZ平面内で前記Z軸に対して45゜傾斜した光軸を有する第2のカラムとを備える装置のアライメント方法において、
基準高さにあるマークを前記光学顕微鏡の視野中心に位置させ、前記マークのステージ座標を求めるステップと、
前記マークを前記第1のカラムの視野中心に位置させ、前記マークのステージ座標を求めるステップと、
前記マークを前記第2のカラムの視野中心に位置させ、前記マークのステージ座標を求めるステップと、
前記光学顕微鏡による前記マークのステージ座標と前記第1のカラムによる前記マークのステージ座標の差分を第1のオフセットとして求め、前記光学顕微鏡による前記マークのステージ座標と前記第2のカラムによる前記マークのステージ座標の差分を第2のオフセットとして求めるステップとを有することを特徴とするアライメント方法。 - 請求項10記載のアライメント方法において、
前記ステージをXY平面内で移動し、前記光学顕微鏡の視野中心に試料上の既知マークを位置させるステップと、
前記第1のオフセット分だけ前記ステージを移動するステップと、
前記第1のカラムで前記既知マークを観察し、視野中心からのY方向のずれ量ΔYを求めるステップと、
−√2・ΔYだけ前記ステージをZ軸方向に移動し、前記既知マークが設けられた試料表面を前記基準高さに調整するステップとを有することを特徴とするアライメント方法。 - 請求項11記載のアライメント方法において、
前記第1のカラムによる観察の後、前記第2のオフセット分だけ前記ステージを移動させるステップと、
前記第2のカラムによって試料を観察するステップとを有することを特徴とするアライメント方法。 - 請求項10〜12のいずれか1項記載のアライメント方法において、前記第1のカラムは走査電子顕微鏡であり、前記第2のカラムは集束イオンビーム装置であることを特徴とするアライメント方法。
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