JP2007220208A - 磁気ヘッド、磁気記録再生装置及び磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】磁界強度を減少させずに実効トラック幅の広がりを抑制でき、トラック幅のばらつきを抑制できる磁気ヘッドを提供する。
【解決手段】主磁極を、記録トラック幅を規定する部分を有するポールチップ１Ｂと、浮上面より素子高さ方向に後退したヨーク部分から構成し、ポールチップを、トラック幅方向の幅が大きなトレーリング側のポールチップ1B_Tとトラック幅方向の幅が小さなリーディング側のポールチップ1B_Lから構成する。更に、トレーリング側のポールチップ1B_TのスロートハイトTh_Tをリーディング側のポールチップ1B_LのスロートハイトTh_Lより大きくする。
【選択図】図４

Description

本発明は、垂直磁気記録用の磁気ヘッド及びそれを搭載した磁気記録再生装置、並びに磁気ヘッドの製造方法に関するものである。

磁気記録再生装置は、磁気記録媒体と磁気ヘッドを備え、磁気記録媒体上のデータは磁気ヘッドによって読み書きされる。磁気記録媒体の単位面積当たりの記録容量を大きくするためには、面記録密度を高める必要がある。しかしながら、現状の面内磁気記録方式では、記録されるビット長が小さくなると媒体の磁化の熱揺らぎの問題が生じ、面記録密度を上げられない問題がある。この問題を解決できるものとして、媒体に垂直な方向に磁化信号を記録する垂直磁気記録方式がある。垂直磁気記録方式には、記録媒体として軟磁性の裏打層を備えた二層垂直媒体を用いる方式と、軟磁性裏打層を有さない単層垂直媒体を用いる方式の２種類がある。記録媒体として二層垂直媒体を用いる場合には、主磁極と補助磁極とを備えたいわゆる単磁極ヘッドを用いて記録を行うと、より強い記録磁界を媒体に印加することができる。主磁極の浮上面形状は、ヘッドにスキュー角がついた場合を考慮して、リーディング側の幅が狭い台形形状とする。

また、記録ヘッド磁界の強度と共に記録ビットセルの境界を記録するヘッド磁界垂直成分プロファイルにおける磁界勾配、すなわち、ヘッド走行方向のヘッド磁界垂直成分プロファイルの磁界勾配も、高い記録密度を実現するための重要な要素である。今後、更に高い記録密度を達成するためには、更に磁界勾配を増大しなければならない。記録磁界勾配を向上させるために、主磁極のトレーリング側に磁性体を配置する構造が知られている。さらに主磁極のサイド側に磁性体を配置する構造も知られている。

磁気ヘッドは通常、基板上にスパッタ、めっき法などを用いて磁性膜を順次、積層して製造される。したがって、主磁極のリーディング側の面は基板に平行、ヘッド浮上面に対して垂直となっているのが従来の構造である。

特開２００３−２４２６０８号公報 特開２００５−９３０２９号公報

本発明は、主磁極と補助磁極を有する垂直磁気記録用ヘッドと、軟磁性裏打ち層を有する二層垂直磁気記録媒体とを用いる垂直磁気記録系に関するものである。垂直磁気記録においても、高記録密度化のためには保磁力の大きい磁性膜を記録層に使用しなければならない。そのために記録層に印加される記録磁界強度、トレーリング側の記録磁界勾配の増加が必要不可欠である。さらに、トラック幅方向の磁界分布を狭小化することも重要である。トラック幅方向の磁界分布を抑制して、記録媒体上に記録される磁化幅を小さくしなければならない。また、書き込もうとしているトラックに隣接するトラックに印加される磁界強度を小さくして、隣接トラックにすでに記録されている磁化情報の減衰、消去をなくさなければならない。

記録磁界強度の増加方法のひとつは、軟磁性裏打ち層と記録ヘッドの距離を近づけることである。しかし、熱揺らぎによる減磁への耐性を向上させるために、記録層の膜厚はある程度必要である。また、記録層表面の平滑性、潤滑剤、ヘッドの保護膜の存在など、軟磁性裏打ち層とヘッドの距離を小さくすることを妨げる要因がある。もうひとつの方法は、ヘッド主磁極の膜厚を増加することである。同じトラック幅でも、ヘッド主磁極の膜厚を増加して主磁極浮上面の面積を増加することにより磁界強度の増加を図ることができる。しかし、ヘッド主磁極の膜厚を増加した場合において、スキュー角が発生した場合、隣接トラックに大きな磁界が印加されてしまう。

磁気ディスク装置では、ヘッドスライダーを固定しているサスペンションアームが、記録再生を行うために記録媒体の内側から外側まで走査される。したがって、ヘッドは記録トラックに対して記録媒体の位置によって異なる角度をなす。これがスキュー角である。二層垂直媒体系の記録磁界は、ヘッド主磁極の対向面の形状と対応する分布を有する。ヘッド主磁極の膜厚を増加した場合、ヘッド主磁極の浮上面の対向面が隣接トラックに近づき、隣接トラックに大きな磁界が印加されてしまう。結果として、隣接トラックのデータの減衰あるいは消去が生じてしまう。記録ヘッドにスキュー角がついた場合を考慮して、主磁極の浮上面形状をリーディング側の幅が狭い台形形状とする技術があるが、主磁極の浮上面形状を台形形状にした場合、その面積が減少するために磁界強度も減少してしまう。また、台形形状にするための製造工程においてトラック幅がばらつくという問題もある。

また、主磁極のトレーリング側とサイド側に磁性体を配置した場合、トレーリング側の磁界勾配を増加させ、トラック幅方向の分布を抑えることができるが、磁界強度が減少してしまうという欠点がある。

以上の事から、媒体上の記録トラック幅を小さくし、隣接トラックのデータを減衰、消去することなく、高い磁界強度を印加することが高記録密度化にとって必須である。この問題は、垂直磁気記録を用いた磁気ディスク装置のさらなる高記録密度化を実現するために解決しなくてはならない問題である。

そこで、本発明は、高磁界強度を保ちつつ、狭トラック化を実現でき、隣接トラックのデータを減衰、消去することなく高磁界強度を発生できる垂直磁気記録用磁気ヘッド及びその製造方法を提供し、更にその垂直磁気記録用磁気ヘッドを搭載した磁気ディスク装置を提供することを目的とする。

本発明による磁気ヘッドは、主磁極と補助磁極とを備え、主磁極は、記録トラック幅を規定するポールチップと、ポールチップより素子高さ方向に後退したヨーク部分とを有し、ポールチップは、トラック幅方向の幅が異なる少なくとも２つの磁性膜から構成され、トレーリング側の磁性膜の浮上面におけるトラック幅方向の幅はリーディング側の磁性膜の浮上面におけるトラック幅方向の幅より大きく、トレーリング側の磁性膜のスロートハイトがリーディング側の磁性膜のスロートハイトより大きい。また、浮上面において、ポールチップのトレーリング側の磁性膜のトラック幅方向の幅は走行方向の膜厚より大きい。この時、浮上面において、ポールチップのトレーリング側の磁性膜のトラック幅方向の幅が走行方向の膜厚より大きいことが好ましい。また、浮上面において、ポールチップのトレーリング側の磁性膜とリーディング側の磁性膜の接する部分の幅の差が、トレーリング側の磁性膜の走行方向の膜厚よりも大きいことが好ましい。

ポールチップの絞り部分の開き角度がトレーリング側の磁性膜とリーディング側の磁性膜で異なっていてもよい。また、ポールチップのトレーリング側もしくはリーディング側、もしくは両方の磁性膜の浮上面の形状を逆台形としてもよい。さらにポールチップのリーディング側の磁性膜が浮上面から後退していてもよい。

本発明の主磁極構造によると、ヘッド走行方向の磁界分布の幅が小さくても高い記録磁界を発生でき、ヘッドにスキュー角がついた場合でも、隣接トラックのデータの減衰、消去を生じさせず、記録密度を増加できる。ここで、ヘッド浮上面とは、カーボンなどの非磁性材料からなる保護膜を除いたヘッドを構成する磁性膜の媒体に対向する面のことを指す。

本発明によると、最大記録磁界を減少させずにトラック幅方向の磁界分布の広がりを抑制することができ、記録実効幅を小さくできる。また、トラック幅のばらつきを抑え、トラック間隔を狭めることができる記録ヘッド及びそれを搭載した磁気ディスク装置を提供できる。

以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。以下の図においては、同じ機能部分には同一の符号を付して説明する。

図１は、磁気記録再生装置の概念図である。磁気記録再生装置は、モータ２８によって回転する磁気ディスク（磁気記録媒体）１１上の所定位置に、サスペンションアーム１２の先端に固定されたスライダー１３に搭載された磁気ヘッドによって磁化信号の記録再生を行う。ロータリアクチュエータ１５を駆動することにより、磁気ヘッドの磁気ディスク半径方向の位置（トラック）を選択することができる。磁気ヘッドへの記録信号及び磁気ヘッドからの読み出し信号は信号処理回路３５ａ，３５ｂにて処理される。

図２は、本発明の磁気ヘッドの一例のトラック中心での断面模式図である。図３はトレーリング方向からみた主磁極の平面摸式図である。図４は、本発明による磁気ヘッドに組み込まれる主磁極の一例を示す図で、ポールチップ１Ｂの概略斜視図である。図２、図３には、磁気記録媒体１１の断面模式図もあわせて示した。

この磁気ヘッドは、主磁極１と補助磁極３とを備えた記録ヘッド（単磁極ヘッド）２５と、再生素子７を備えた再生ヘッド２４を有する記録再生複合ヘッドである。巨大磁気抵抗効果素子（ＧＭＲ）やトンネル磁気抵抗効果型素子（ＴＭＲ）などからなる再生素子７は、リーディング側の下部シールド８とトレーリング側の上部シールド９からなる一対の磁気シールド（再生シールド）間に配置されている。主磁極１と補助磁極３とは浮上面から離れた位置でピラー１７によって磁気的に接続され、主磁極１、補助磁極３、ピラー１７によって構成される磁気回路に薄膜コイル２が鎖交している。主磁極１は、補助磁極３のリーディング側に配置されている。主磁極１は、補助磁極３とピラー１７で接続される主磁極ヨーク部１Ａと、ヘッド浮上面に露出してトラック幅を規定するポールチップ１Ｂとから構成される。

ポールチップ１Ｂは、浮上面においてトラック幅方向の幅が異なる少なくとも２つの部分から構成され、トレーリング側のポールチップ1B_TのスロートハイトTh_Tがリーディング側のポールチップ1B_LのスロートハイトTh_Lより大きくなっている（図４参照）。
ここで、スロートハイトとは、ポールチップ１Ｂにおいて、媒体１１に対向してトラック幅を規定する先端部分に磁束を集中させるために、媒体対向面から素子高さ方向に行くに従ってトラック幅方向の磁極幅の変化の割合が変化する位置（絞り位置）までの媒体対向面からの長さである。また、浮上面で見たトラック幅方向の幅は、トレーリング側のポールチップ1B_Tの方がリーディング側のポールチップ1B_Lより大きい。

主磁極１のトレーリング側に配置した磁性体３２は、ヘッド走行方向のヘッド磁界垂直成分プロファイルの磁界勾配を増大するためのものである。なお、図２に示したヘッド構造では、補助磁極３を主磁極１のリーディング側に配置したが、図５に示すように補助磁極３は主磁極１のリーディング側に配置してもよい。記録ヘッド２５の主磁極１から出た磁界は、磁気記録媒体１１の磁気記録層１９及び軟磁性裏打ち層２０を通り補助磁極３に入る磁気回路を形成し、磁気記録層１９に磁化パターンを記録する。磁気記録層１９と軟磁性裏打ち層２０の間には中間層が形成されている場合もある。

本発明の磁気ヘッドと、従来構造の磁気ヘッドに対して、主磁極より発生する記録磁界を３次元磁界計算により計算した。本発明の磁気ヘッドの主磁極が有するポールチップ１Ｂは、図４に示すように、浮上面においてトラック幅方向の幅が異なる少なくとも２つの磁性膜から構成され、トレーリング側のポールチップ1B_Tのスロートハイトがリーディング側のポールチップ1B_Lのスロートハイトより大きくなっている。計算に用いた従来構造の主磁極が有するポールチップ１Ｂは、図６に示すように、トレーリング側からリーディング側までトラック幅方向の幅が連続的に減少する逆台形構造を有する。

計算の条件は以下の通りである。図４に示した本発明の磁気ヘッドのトレーリング側のポールチップ1B_Tを構成する磁性膜の先端部分は、幅１００ｎｍ、膜厚３０ｎｍの長方形とした。リーディング側のポールチップ1B_Lを構成する磁性膜の先端部分は、幅４０ｎｍ、膜厚１７０ｎｍの長方形とした。(図はトラック中心の半分の部分のみ示してある。)また、トレーリング側のポールチップ1B_TのスロートハイトTh_Tは１００ｎｍ、リーディング側のポールチップ1B_LのスロートハイトTh_Lは５０ｎｍとした。図４において、ポールチップ１Ｂの斜面の辺Lとポールチップ１Ｂの浮上面端部Ｐ２から素子高さ方向に延ばした垂線との交点Ｐ１を絞り位置とよび、絞り位置Ｐ１からポールチップ１Ｂの浮上面端部Ｐ２までの距離がスロートハイトである。また、図３に示した主磁極をトレーリング側からみた概略構造図において、ポールチップ１Ｂの境界部分の絞り位置Ｐ１からのポールチップ1B_Lと1B_Tの幅の広がり（開き角）θ_L及びθ_Tは共に９０度とした。

ポールチップ1B_T、1B_Lの材料としてはＣｏＮｉＦｅを想定し、飽和磁束密度を２．４Ｔ、比透磁率を５００とした。主磁極のヨーク部１Ａは、飽和磁束密度が１．０Ｔの８０ａｔ％Ｎｉ−２０ａｔ％Ｆｅを想定した。補助磁極３は、飽和磁束密度が１．０Ｔの材料を想定し、大きさは、トラック幅方向の幅を３０μｍ、素子高さ方向の長さを１６μｍ、膜厚を２μｍとした。上部シールド９及び下部シールド８は、飽和磁束密度が１．０Ｔの８０ａｔ％Ｎｉ−２０ａｔ％Ｆｅを想定し、大きさは、トラック幅方向の幅を３２μｍ、素子高さ方向の長さは１６μｍ、膜厚を１．５μｍとした。磁性体３２は今回の計算では考慮していない。

磁気記録媒体１１の軟磁性裏打ち層２０の材料としてはＣｏＴａＺｒを想定し、ヘッド浮上面から軟磁性裏打ち層２０の表面までの距離は４０ｎｍ、軟磁性裏打ち層２０の膜厚は１５０ｎｍとした。記録磁界は、ヘッド浮上面から２５ｎｍの磁気記録層中心位置を想定した位置で算出した。媒体記録層１９は膜厚２０ｎｍだけを考慮した。

図６に示したトラック中心に対して対称な構造の主磁極を有する従来構造の磁気ヘッドに対しては、主磁極のポールチップ１Ｂの形状以外は、形状、材料ともに上記実施例の磁気ヘッドと同様の条件で計算を行った。ポールチップ１Ｂの先端部分に関しては、幅１００ｎｍ、膜厚２００ｎｍとした。浮上面の形状はリーディング側の幅が小さい逆台形形状とした。リーディング側の磁極先端部分の幅は４０ｎｍとした。スロートハイトは８０ｎｍとした。

図７に、計算結果を示す。図７は、本発明の磁気ヘッドと従来構造の磁気ヘッドのトラック幅方向の記録磁界分布を比較して示した図である。図７の横軸はトラック幅方向の距離、縦軸は記録磁界の強度である。横軸の原点が主磁極のトラック中心位置である。前記条件の場合、本発明の磁気ヘッドによると記録磁界の強度を劣化させずに、トラック幅方向の磁界の広がりを小さくでき、記録実効幅を小さくできるため、高記録密度化を実現できる。本実施例の磁気ヘッドは、従来構造の磁気ヘッドに比べて、磁極のエッジ付近で１５ｎｍ、その外側で１０ｎｍの磁界幅の減少が図られている。したがって、トラックの両側で２０〜３０ｎｍの磁界幅の減少が図られることになる。

また、本発明の記録ヘッドはトレーリング側のスロートハイトが大きいため、製造面でも利点がある。スロートハイトが小さいと、主磁極のトラック幅方向の大きさがばらつきやすいが、スロートハイトの直線部分が大きいと、そのばらつきを低減できる。スロートハイトが大きくなると磁界強度が減少してしまうが、本発明ではリーディング側のスロートハイトを小さくして磁界強度の増加を図っている。リーディング側のスロートハイトは、大きい磁界強度が得られる５００ｎｍ以下が望ましい。また、トレーリング側のスロートハイトとリーディング側のスロートハイトの差は、製造バラツキを考慮して５０ｎｍ以上あることが望ましい。

図８に、従来構造の磁気ヘッドの磁気記録層中心位置での記録磁界分布を示す。記録磁界分布の等高線は主磁極の浮上面形状に沿っている。縦軸がトラック幅方向位置、横軸が走行方向位置である。縦軸の原点がトラック中心位置である。横軸の右側がトレーリング側となる。図中には主磁極の対向する外形を実線で示した。磁界分布のトラック幅方向の拡がりが大きい位置は主磁極磁性体のトレーリングエッヂ位置から数十ｎｍリーディング側になっている。

図９に、本発明のヘッド構造の場合の磁界分布を示す。本発明のヘッド構造の場合、ポールチップの先端は２つの幅の異なる磁性膜から構成され、リーディング側のポールチップのスロートハイトは小さくなっているが、磁界分布の等高線はヘッドの浮上面を反映した形状となり、トラック幅方向の拡がりが抑制できている。本発明では、トレーリング側のスロートハイトを大きくして記録実効幅の広がりを抑制し、磁界強度はリーディング側のスロートハイトを小さくして補っている。

特開２００３−２４２６０８号公報にはＴ字型の浮上面形状を有する記録ヘッドが開示されているが、スロートハイトに関しては言及されておらず、同じスロートハイトの場合、磁界強度が減少してしまい、本発明のような効果は得られない。また、特開２００５−９３０２９号公報にはスロートハイトの異なるヘッドが開示されているが、トレーリング側とリーディング側の磁性体のトラック幅方向の大きさが等しく、トラック幅方向の磁界分布幅が広がってしまい本発明のような効果は得られない。

本発明の記録ヘッドは、浮上面から見たとき、トレーリング側のポールチップ1B_Tを構成する磁性膜のトラック幅方向の幅が走行方向の膜厚より大きいことが望ましい。図１０に示すようにトラック幅方向の幅（Pw_1B_T）が走行方向の膜厚（Pt_1B_T）より小さい場合、トレーリング側の磁性体の位置で磁界分布がトラック幅方向に非常に大きくなってしまってしまい、走行方向に対して縦長の形状となり効果が小さい。

図１１に、Pt_1B_L /Pw_1B_L＝０．３６と１．０の場合の最大磁界強度と磁界分布幅の関係を示した。磁界分布幅は媒体に記録されることを仮定して12000×10000／（４π） A/m の位置で算出した。この時の計算はPw_1B_L＝７０ｎｍ、Pt_1B_L＝２５ｎｍで行った。また、裏打ち層の厚さは１００ｎｍ、ヘッドと裏打ち層の距離は４０ｎｍとして、ヘッドから２１ｎｍの位置で磁界を算出した。図中の円内に示したように、Pt_1B_L /Pw_1B_L＝０．３６の場合、同じ最大磁界強度でも、従来構造より磁界幅が小さくなっていることがわかる。Pt_1B_L /Pw_1B_L＝１．０の場合には図に示すように効果が得られない条件もある。

また、本発明では、ポールチップのトレーリング側の磁性膜1B_Tとリーディング側の磁性膜1B_Lの磁性膜のトラック幅方向の幅の差が重要である。本発明では、トレーリング側のポールチップ1B_Tを構成する磁性膜とリーディング側のポールチップ1B_Lを構成する磁性膜のトラック幅方向の幅の差は、トレーリング側のポールチップ1B_Tを構成する磁性膜の膜厚より大きいことが望ましい。差が小さいと幅方向の分布が小さくならない。このような構造にすることにより、よりリーディング側の磁界分布幅を抑制することができる。

図１２は、本発明による磁気ヘッドの主磁極の別の構造例をトレーリング側から見た平面模式図である。この磁気ヘッドの主磁極のポールチップ１Ｂは、浮上面においてトラック幅方向の幅が異なる少なくとも２つの磁性膜から構成され、浮上面におけるトラック幅方向の幅はトレーリング側のポールチップ1B_Tの方がリーディング側のポールチップ1B_Lより大きく、スロートハイトはトレーリング側のポールチップ1B_Tの方がリーディング側のポールチップ1B_Lより大きく、更に、トレーリング側のポールチップ1B_Tを構成する磁性膜の開き角度θ_Tがリーディング側のポールチップ1B_Lを構成する磁性膜の絞り部分の開き角度θ_Lより小さい構造を有する。ひこのような主磁極の構造によっても、開き角度が小さい方が磁界強度が小さくトラック幅方向の磁界分布幅がせまくなるため、図７に示したような効果が得られる。トレーリング側の磁性膜1B_Tの開き角度θ_Tは１００度から１１０度で磁界強度が最大値をとる。そこで、リーディング側の磁性膜1B_Lの絞り部分の開き角度θ_Lはそれより大きくすることが望ましい。

また、図１３に示すように、トレーリング側の磁性膜1B_Tは絞り部分がなくてもよい。絞り部がないことにより、ヘッド製造工程においてばらつきが生じても、トラック幅のバラツキを抑えることができる。また、本発明では、トレーリング側の磁性膜の飽和磁束密度がリーディング側の磁性膜の飽和磁束密度より大きいことが望ましい。これにより、トレーリング側に磁束が集中し、トラック幅方向の磁界分布を抑制する効果がより得られる。

また、図１４に示すようにトレーリング側の磁性膜及び／又はリーディング側の磁性膜の浮上面の形状を逆台形にしてもよい。(a)はトレーリング側、(b)はリーディング側の磁性膜の形状を逆台形にしたものである。(c)はトレーリング側とリーディング側の両方の磁性膜を逆台形にしたものである。ヘッド磁界分布はヘッド磁性体の浮上面形状を反映するため、図１４のような形状にすることにより幅方向の分布をより抑制できる。

また、図１５に示すようにリーディング側の磁性膜が浮上面から後退させても、より幅方向の分布をより抑制できる。

本発明のＴ型主磁極の形成に適した製造方法の実施例を、図を用いて説明する。この製造方法の特徴は、下層（リーディング側）と上層（トレーリング側）の2つに分けて磁極を形成し、Ｔ型の主磁極を形成することにある。次に、プロセスフローを用いて製造工程について説明する。

図１６(a)は、アルミナ１０１上に下層の磁極材１０２を形成しその上に、パターン幅aが200nmのフォトレジストマスク１０３を形成した図である。磁極材には、2Tを越えるスパッタで形成したFeCo/Cr多層膜及び単層膜を用いた。主磁極材にはめっき膜を用いてもよい。また磁極材の膜厚は、300nmとした。この方法には、解像度及び重ね合わせ精度が要求されるために、フォトレジストマスク形成には、ArFスキャナーを用いた。ArFスキャナーのほかにも、KrFスキャナーもしくはステッパでもよい。次に、レジストをマスクとして、イオンミリングを用いて図１６(b)に示すように垂直に磁極材を加工した。垂直に加工するために、イオンミリング条件は、-30°×13分、-75°×５分として。前者は垂直成分で後者は、最付着除去の目的のためである。この結果、図１６(c)のように80nmの主磁極幅bが得られた。ミリングによるシフト分は、約120nmであった。次に、80nm幅の磁極材に500nmのアルミナを加工した主磁極材に被覆し（図1６(d)）、CMPを用い200nmまで研磨し、図1６(e)に示すように平坦化した。CMPには、アルミナ系の砥粒を用いた。

平坦化した磁極及びアルミナ上に、図1６(f)に示すような上層の磁極材１０５を形成した（図1６(f)）。この磁極材には、2Tを越えるスパッタで形成したFeCo/Cr多層膜及び単層膜を用いた。磁極材１０５にはめっき膜を用いてもよい。この磁極材１０５上に、図１６(g)に示すようにパターン幅レジストパターン１０６を形成した。このフォトレジストパターン形成には、前述したフォトレジストマスク１０３同様にArFスキャナーを用いた。このフォトレジストを用い、イオンミリングを用いて磁極材を形成することにより図1６(h)に示すようにT型の主磁極を形成することができた。この工程において、図１７のように、上層のマスクパターン１０７が下層のもの１０８より幅が広く、上層のマスクの開き位置ｄを下層のマスクの開き位置ｅよりヘッド素子完成後浮上面となる側より離れた配置することにより、本発明のヘッド構造が得られた。

また、別の製造工程の例を図１８に示す。図１８(a)は、図１６(d)に示したアルミナを被覆する工程で、アルミナの間にCMPストッパ１０９をいれた図である。このことにより、CMPストッパにより研磨後に図１８（b）のように高精度に膜厚を制御することが可能になる。以下は、図１６(f)以下の工程と同じである。

磁気記録再生装置の概念図。 本発明による磁気ヘッドの一例のトラック中心での断面模式図 本発明による磁気ヘッドの一例をトレーリング方向から見た平面模式図。 本発明による磁気ヘッドの一例のポールチップの概略斜視図。 本発明による磁気ヘッドの別の例のトラック中心での断面模式図。 従来の磁気ヘッド構造のポールチップの概略斜視図。 本発明の磁気ヘッドと従来構造の磁気ヘッドのトラック幅方向の記録磁界分布を比較して示した図。 従来の磁気ヘッド構造の記録磁界の等高線を示した図。 本発明による磁気ヘッドの記録磁界の等高線を示した図。 ポールチップを浮上面から見た模式図。 トレーリング側ポールチップの浮上面形状をパラメータとして磁界強度と磁界分布幅の関係を示す図。 本発明による磁気ヘッドの別の一例をトレーリング方向から見た平面模式図。 本発明による磁気ヘッドの別の一例をトレーリング方向から見た平面模式図。 本発明による磁気ヘッドの一例のポールチップの概略斜視図。 本発明による磁気ヘッドの別の一例をトレーリング方向から見た平面模式図。 本発明による磁気ヘッドの製造方法の一例を示した図。 本発明による磁気ヘッドの製造方法の一例を示した図。 本発明による磁気ヘッドの製造方法の一例を示した図。

符号の説明

１…主磁極、１Ａ…主磁極ヨーク部、１Ｂ…ポールチップ、２…薄膜導体コイル、３…補助磁極、７…再生素子、８…下部シールド、９…上部シールド、１１…磁気ディスク、１２…サスペンションアーム、１３…磁気ヘッドスライダー、１４…磁気ヘッド、１５…ロータリアクチュエータ、１６…記録ヘッド、１７…ピラー、１９…磁気記録層、２０…軟磁性裏打ち層、２４…再生ヘッド、２５…記録ヘッド、３２…磁性体（トレーリング、サイドシールド）

Claims (8)

1. 主磁極と補助磁極とを備える垂直磁気記録用の磁気ヘッドにおいて、
   前記主磁極は、記録トラック幅を規定するポールチップと、前記ポールチップより素子高さ方向に後退したヨーク部分とを有し、
   前記ポールチップは、トラック幅方向の幅が異なる２つの磁性膜を有し、トレーリング側の磁性膜の浮上面におけるトラック幅方向の幅がリーディング側の磁性膜の浮上面におけるトラック幅方向の幅より大きく、前記トレーリング側の磁性膜のスロートハイトが前記リーディング側の磁性膜のスロートハイトより大きいことを特徴とする磁気ヘッド。
2. 請求項１記載の磁気ヘッドにおいて、前記トレーリング側の磁性膜の浮上面におけるトラック幅方向の幅が走行方向の膜厚より大きいことを特徴とする磁気ヘッド。
3. 請求項１記載の磁気ヘッドにおいて、前記トレーリング側の磁性膜と前記リーディング側の磁性膜の接する部分の浮上面における幅の差が前記トレーリング側の磁性膜の走行方向の膜厚よりも大きいことを特徴とする磁気ヘッド。
4. 請求項１記載の磁気ヘッドにおいて、前記トレーリング側の磁性膜及び／又は前記リーディング側の磁性膜の浮上面の形状が逆台形であることを特徴とする磁気ヘッド。
5. 請求項１記載の磁気ヘッドにおいて、前記リーディング側の磁性膜が浮上面から後退していることを特徴とする磁気ヘッド。
6. 請求項１記載の磁気ヘッドにおいて、前記トレーリング側の磁性膜の絞込み部分の開き角が前記リーディング側の磁性膜の絞込み部分の開き角より小さいことを特徴とする磁気ヘッド。
7. 磁気記録媒体と、
   前記磁気記録媒体を駆動する媒体駆動部と、
   記録ヘッドと再生ヘッドを有し、前記磁気記録媒体に対して記録、再生動作を行う磁気ヘッドと、
   前記磁気ヘッドを前記磁気記録媒体に対して位置決めするヘッド駆動部とを備える磁気記録再生装置において、
   前記磁気記録媒体は軟磁性下地層と磁気記録層とを有する垂直磁気記録媒体であり、
   前記記録ヘッドは主磁極と補助磁極とを有し、
   前記主磁極は、記録トラック幅を規定するポールチップと、前記ポールチップより素子高さ方向に後退したヨーク部分とを有し、
   前記ポールチップは、トラック幅方向の幅が異なる２つの磁性膜を有し、トレーリング側の磁性膜の浮上面におけるトラック幅方向の幅がリーディング側の磁性膜の浮上面におけるトラック幅方向の幅より大きく、前記トレーリング側の磁性膜のスロートハイトが前記リーディング側の磁性膜のスロートハイトより大きいことを特徴とする磁気記録再生装置。
8. 請求項７記載の磁気ディスク装置において、前記トレーリング側の磁性膜の絞込み部分の開き角が前記リーディング側の磁性膜の絞込み部分の開き角より小さいことを特徴とする磁気記録再生装置。

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