JP2007183534A - 感光性樹脂組成物及びこれを用いたブラックマトリックス - Google Patents

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Abstract

【課題】カルボキシル基含有多官能性単量体を用いることで、光学密度を高めるためにブラック顔料含量が多くなる場合も、現像性、接着性及び現像マージンに優れたアルカリ現像型のブラックマトリックス製造用感光性樹脂組成物を提供する。また、液晶ディスプレイ装置の遮光用ブラックマトリックスの製造方法、液晶ディスプレイ装置の遮光用ブラックマトリックス、および遮光用ブラックマトリックスを装着したディスプレイ装置を提供する。
【解決手段】3価以上の多価アルコールと(メタ)アクリル酸との部分エステル化物である遊離水酸基含有ポリ(メタ)アクリレート類と、ジカルボン酸類とのエステル化物、および
3価以上の多価カルボン酸とモノヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート類とのエステル化物からなる群から選択された1種以上のカルボキシル基含有多官能性単量体を含む感光性樹脂組成物。
【選択図】なし

Description

本発明は、液晶ディスプレイ装置の遮光に用いられるブラックマトリックス製造用感光性樹脂組成物に関するもので、詳しくは、カルド樹脂(cardo resin)を使用し、カルボ
キシル基含有多官能性単量体を含むことを特徴とする、耐熱性、耐化学性、現像マージン、現像性及び密着性に優れたブラックマトリックス製造用感光性樹脂組成物、及びこれを用いて製造されたブラックマトリックスに関するものである。
従来、事務自動化機器、携帯用小型テレビ、ビデオカメラのファインダーなどの電子ディスプレイ装置として、主にブラウン管が用いられていた。しかし、最近は、液晶ディスプレイ装置(LCD)、プラズマディスプレイ(PDP)、蛍光表示板(VFD)などが用いられており、これらに関連した技術の研究開発も活発に行われている。
前記ディスプレイ装置の一つである液晶ディスプレイ装置は、軽量化、薄型化、低価、低消費電力駆動化、及び優れた集積回路との接合性などの長所を有し、ラップトップコンピュータやポケットコンピュータの表示板及び車両積載用カラーTV画像表示用へとその使用範囲が拡大されつつある。このような液晶ディスプレイ装置は、ブラックマトリックス、カラーフィルタ及びITO画素電極が形成された下部基板と、液晶層、薄膜トランジスタ、蓄電キャパシタ層からなる能動回路部と、ITO画素電極が形成された上部基板とを含んで構成される。
従来の液晶ディスプレイ装置で用いられたカラーフィルタ基板には、プラスチックまたはガラスからなる基板の上部に、ブラックマトリックス及び赤緑青の三色の着色層が繰り返して形成され、その上部には、カラーフィルタを保護するとともに、表面平滑性を維持するためにポリイミド、ポリアクリレート、ポリウレタンなどの材料からなる厚さ1乃至3μmのオーバーコート層と、このオーバーコート層の上部に形成され、液晶駆動のための電圧が印加されるITO(Indium Thin Oxide)透明伝導膜層とが形成される。
前記ブラックマトリックスは、基板の透明画素電極以外の領域に透過されて制御されない光を遮断し、コントラストを向上させる役割を担う。また、赤緑青の着色層は、白色光のうち特定波長の光を透過させて色を表現可能にし、透明伝導膜層は、液晶に電界を印加するための共通電極としての役割を担う。
上記のカラーフィルタ基板において、ブラックマトリックスは、クロムまたは樹脂によって製造される。しかしながら、クロムを用いたブラックマトリックスの場合、遮光性能、耐環境性、耐化学性に優れているが、複雑な工程及び高い設備費によって生産原価が上昇し、高い反射率によって全反射のための別途の処理工程が必要となるため、最近は、樹脂を用いたブラックマトリックスが活発に研究されている。
一般に、カラーフィルタ基板は、染色法、印刷方、顔料分散方、電着方などによって製造され、ブラックマトリックスは、主に顔料分散法によって製造される。
顔料分散法は、ブラックマトリックスが提供された透明な基板上に着色剤を含む光重合性組成物をコーティングし、形成しようとする形態のパターンを露光によって形成した後、非露光部位を溶媒で取り除いて熱硬化する一連の段階を繰り返すことで、カラーフィルタを製造する方法である。この顔料分散法は、カラーフィルタの最も重要な性質である耐熱性及び耐久性を向上させ、フィルムの厚さを均一に維持できるという長所があり、ブラ
ックマトリックスの製造に多く用いられる。例えば、特開昭63-309916号公報(
特許文献1)、特開平1-152449号公報(特許文献2)、大韓民国特許出願第95-3135号(特許文献3)などには、顔料分散を用いたブラックマトリックスの製造方法が提案されている。
顔料分散法によって製造されるブラックマトリックスは、支持体としての役割を担い、所定厚さの維持を可能にする高分子化合物、すなわちバインダー樹脂と、露光時に光と反応してフォトレジスト像を形成する光重合性単量体との2種類の成分からなり、前述した成分の他にも、顔料、重合開始剤、エポキシ樹脂、溶媒及びその他の添加剤などを含む感光性樹脂組成物によって製造される。
顔料分散法に用いられるバインダー樹脂としては、例えば、特開昭60-237403
号公報(特許文献4)に開示されたポリイミド樹脂、特開平1-200353号公報(特
許文献5)、特開平4-7373号公報(特許文献6)、特開平4-91173号公報(特許文献7)などに記載されたアクリル系重合体及びアジド化合物からなる感光性樹脂、大韓民国特許出願第93-20127号明細書(特許文献8)、大韓民国特許出願第95-3135号明細書(特許文献3)などに記載されたアクリル系重合体からなる感光性樹脂、特開平1-152449号公報(特許文献2)に記載されたアクリレート単量体、有機重
合体結合剤及び光重合開始剤からなるラジカル重合型の感光性樹脂、特開平4-1635
52号公報(特許文献9)及び大韓民国特許出願第92-5780号明細書(特許文献1
0)に開示されたフェノール樹脂、N-メチロール構造を有する架橋剤及び光酸発生剤か
らなる感光性樹脂などが提案されている。
しかしながら、顔料分散法によるバインダー樹脂として感光性ポリイミドやフェノール系の樹脂を用いると、耐熱性は高いが感度が低く、有機溶媒で現像するなどの欠点がある。また、感光剤としてアジド化合物を用いる従来のシステムには、感度が低く耐熱性が低下し、露出時に酸素の影響を受けるという問題がある。かかる問題点を克服するために、酸素遮断膜を設置するか、不活性ガス中に露出する方法が用いられるが、このような方法を適用する場合、工程が複雑になり、装置が高価になるなどの問題がある。
また、露出によって生成された酸を用いて画像を形成する感光性樹脂には、高感度であり、露出時に酸素の影響を受けないという利点があるが、露出及び現像の過程で加熱工程が必要となり、加熱時間がパターン形成に対して敏感な反応を示すので、工程管理が困難になるという問題点がある。
上記の問題を解決するために、特開平7-64281号公報(特許文献11)、日本特
開平7-64282号公報(特許文献11)、特開平8-278630号公報(特許文献11)、特開平6-1938号公報(特許文献12)、特開平5-339356号公報(特許文献13)、大韓民国特許公開95-7002313号明細書(特許文献14)には、カ
ルド(cardo)バインダー樹脂を用いたカラーフィルタの製造方法が開示されている。一般に、カルド樹脂は、高感度でありながら酸素の影響を受けず、耐熱性、耐収縮性、耐化学性などに優れている。
しかしながら、このような感光性樹脂組成物には、バルキー(bulky)な分子構造及び高い顔料含量によって現像性及びガラス基板との密着性が低下する傾向がある。特に、ブラックマトリックスの場合、要求される高い光学的密度に合わせるために、ブラック顔料が他の着色感光性樹脂組成物に比べて多く含まれるので、現像性及び接着性の低下が一層激しく表れるという問題点がある。
また、基板上に感光性樹脂組成物をラミネーションした後、カラーフィルタに必要なパ
ターンを形成するように活性線を照射すると、該感光性樹脂組成物は光によって反応するが、非露光部位の該感光性樹脂組成物を取り除く溶液を現像液といい、この現像液には、有機溶媒型及びアルカリ現像型の二つのタイプがある。これらのうち、アルカリ現像型は、環境面で有害ではないが、有機溶媒型は、大気汚染を誘発して人体に有害であるという問題点がある。
そのため、ブラックマトリックス製造においては、ブラック顔料の含量が高いにもかかわらず、現像性及び接着性などを向上させつつ、アルカリ現像型として環境問題を起こさない感光性樹脂組成物に対する研究及び開発が要求されてきた。
特開昭63-309916号公報 特開平1-152449号公報 大韓民国特許出願第95-3135号明細書 特開昭60-237403号公報 特開平1-200353号公報 特開平4-7373号公報 特開平4-91173号公報 大韓民国特許出願第93-20127号明細書 特開平4-163552号公報 大韓民国特許出願第92-5780号明細書 特開平7-64281号公報 特開平6-1938号公報 特開平5-339356号公報 大韓民国特許公開95-7002313号明細書
本発明は、上記の従来の問題点を解決するためになされたものであり、カルボキシル基含有多官能性単量体を用いることで、光学密度を高めるためにブラック顔料の含量が多くなる場合も、現像性、接着性及び現像マージンに優れた、アルカリ現像型のブラックマトリックス製造用感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。
また、前記組成物を用いて液晶ディスプレイ装置の遮光用ブラックマトリックスの製造方法を提供することを目的とする。
また、前記組成物によって製造された液晶ディスプレイ装置の遮光用ブラックマトリックスを提供することを目的とする。
また、前記組成物を用いて製造された遮光用ブラックマトリックスを装着したディスプレイ装置を提供することを目的とする。
上記の目的を達成するために、本発明による感光性樹脂組成物は、
3価以上の多価アルコールと(メタ)アクリル酸との部分エステル化物である遊離水酸基含有ポリ(メタ)アクリレート類と、ジカルボン酸類とのエステル化物、および
3価以上の多価カルボン酸と、モノヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート類とのエステル化物
からなる群から選択された1種以上のカルボキシル基含有多官能性単量体を含むことを特徴とする。
具体的には、本発明による感光性樹脂組成物は、感光性樹脂組成物の総量100重量部に対して、下記式(1)〜(3)でそれぞれ表現される成分(A)〜(C)が共重合され
た、バインダー樹脂としてのカルド樹脂、アクリル系光重合性単量体、光重合開始剤、ブラック顔料及び溶媒と、上記のカルボキシル基含有多官能性単量体とを含んで構成されることを特徴とする。
また、本発明は、前記組成物によって液晶ディスプレイ装置の遮光用ブラックマトリックスを製造する方法に関するものである。
また、本発明は、前記組成物によって製造された液晶ディスプレイ装置の遮光用ブラックマトリックスに関するものである。
また、本発明は、前記組成物によって製造された遮光用ブラックマトリックスを装着したディスプレイ装置に関するものである。
また、本発明の前記組成物には、組成物の物性を害しない範囲で界面活性剤、酸化防止剤、安定剤などのその他の添加剤が所定量添加される。
本発明によると、カルボキシル基含有多官能性単量体を用いることで、現像性、ガラス基板との接着性、耐熱性、耐化学性及び現像マージンなどの諸般の物性に優れたブラックマトリックス製造用感光性樹脂組成物及びこれを用いた液晶ディスプレイ装置の遮光用ブラックマトリックスを提供できるという効果がある。
また、本発明の感光性樹脂組成物は、光の照射によって硬化され、アルカリ性水溶液で現像可能なアルカリ現像型であるため、環境汚染を誘発することなく、非露光部に組成物の未溶解物が発生しないという効果がある。
以下、本発明を一層詳しく説明する。
本発明は、バインダー樹脂としてカルド樹脂を用いることで、耐熱性、耐化学性及び現像マージンが向上し、カルボキシル基含有多官能性単量体を用いることで、高い光学密度を有しながらも現像性及び密着性に優れたブラックマトリックス製造用感光性樹脂組成物を提供することを特徴とする。
本発明に用いられるバインダー樹脂は、下記の式(1)で表現される化合物(A)(「成分(A)」ともいう。)、下記式(2)で表現される化合物(B)(「成分(B)」ともいう。)および下記式(3)で表現される化合物(C)(「成分(C)」ともいう。)を、(A):(B):(C)=1モル:2〜4モル:2〜8モルの割合で共重合した、分子量(Mw;重量平均分子量)が1,000〜20,000のカルド樹脂である。分子量が1,000未満であるか20,000を超えると、現像性、感度及びパターン特性が低下する。前記バインダー樹脂の添加量は、本発明の樹脂組成物の総量100重量部に対して1〜40重量部であることが好ましい。
Figure 2007183534
Figure 2007183534
(式(2)において、Rは、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、アリル基、フェニ
ル基、ベンジル基または炭素数1〜8のエポキシ基を示し、Xは、ハロゲン原子を示す)
Figure 2007183534
(式(3)において、Rは、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、アリル基、フェニ
ル基、ベンジル基または炭素数1〜8のエポキシ基を示す)
一方、前記バインダー樹脂は、アルカリ溶解性樹脂にするために、酸無水物で処理される。本発明に用いられる酸無水物は、次のような構造を有する。
Figure 2007183534
(ここで、R1、R2は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、ア
リル基、フェニル基、ベンジル基、または、炭素数1〜8のエポキシ基を示す)
本発明に用いられるアクリル系光重合性単量体は、一般的に感光性樹脂組成物に用いられる単量体であって、例えば、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,4-ブタンジオールジアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ビスフェノールAジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ノボラックエポキシアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、1,4-ブタンジ
オールジメタクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタクリレートなどが用いられる
前記アクリル系光重合性単量体の添加量は、本発明の感光性樹脂組成物の総量100重量部に対して1〜20重量部であることが好ましい。
本発明に用いられる光重合開始剤は、一般に感光性樹脂組成物に用いられる光重合開始剤であって、特別に限定されるものではないが、アセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、チオキサントン系化合物、ベンゾイン系化合物、トリアジン系化合物などが例示される。前記光重合開始剤の使用量は、本発明の感光性樹脂組成物の総量100重量部に対して0.1〜10重量部であることが好ましい。
具体的には、光重合開始剤として用いられるアセトフェノン系化合物には、2,2'-ジエトキシアセトフェノン、2,2'-ジブトキシアセトフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオフェノン、p-t-ブチルトリクロロアセトフェノン、p-t-ブチルジクロロアセトフェノン、ベンゾフェノン、4-クロロアセトフェノン、4,4'-ジメチルアミノベンゾフェノン、4,4'-ジクロロベンゾフェノン、3,3'-ジメチル-2-メトキシベンゾフェノン、2,2'-ジクロロ-4-フェノキシアセトフェノン、2-メチル-1-(4-(メチルチオ
)フェニル)-2-モルホリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(
4-モルホリノフェニル)-ブタン-1-オンなどがある。
ベンゾフェノン系化合物としては、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、4-フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化
ベンゾフェノン、4,4'-ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4'-ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンなどが用いられる。
チオキサントン系化合物としては、チオキサントン、2-クロロチオキサントン、2-メチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、2,4-ジイソプロピルチオキサントンなどが用いられる。
ベンゾイン系化合物としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタールなどが用いられる。
トリアジン系化合物としては、2,4,6-トリクロロ-s-トリアジン、2-フェニル-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(3',4'-ジメトキシスチリル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(4'-メトキシナフチル)-4,6-ビス(
トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(p-メトキシフェニル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(p-スチリル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-ビフェニル-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、ビス(トリクロロメチル)-6-スチリル-s-トリアジン、2-(ナフト-1-イル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(4-メトキシナフト-1-イル)-4,6-ビス(トリク
ロロメチル)-s-トリアジン、2-4-トリクロロメチル(ピペロニル)-6-トリアジン、2-4-トリクロロメチル(4'-メトキシスチリル)-6-トリアジンなどが用いられる。
その他に、カルバゾール系化合物、ジケトン類化合物、スルホニウムボレート系化合物、ジアゾ系、非イミダゾール系化合物なども用いられる。
本発明に用いられるブラック顔料(黒色顔料)としては、特別に限定されることはないが、アニリンブラック、ペリレンブラック、チタンブラック、カーボンブラックなどが例示され、色補正剤としては、アントラキノン系顔料、ペリレン系顔料などの縮合多環顔料と、フタロシアニン顔料、アゾ顔料などの有機顔料とが共に用いられる。前記ブラック顔料の添加量は、感光性樹脂組成物100重量部に対して5〜40重量部であることが好ましい。
本発明で特徴的に添加されるカルボキシル基含有多官能性単量体(D)は、3価以上の多価アルコールと(メタ)アクリル酸との部分エステル化物である遊離水酸基含有ポリ(メタ)アクリレート類と、ジカルボン酸とのエステル化物、および3価以上の多価カルボン酸と、モノヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート類とのエステル化物からなる群から選択された1種以上であり、2個以上の重合可能なエチレン性不飽和結合を有する。
本発明に用いられる前記カルボキシル含有多官能性単量体(D)は、特別に限定される
ものではないが、例えば、
トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレートおよびジペンタエリスリトールトリメタクリレートなどのモノヒドロキシオリゴアクリレートまたはモノヒドロキシオリゴメタクリレート類と、
マロン酸、コハク酸、グルタミン酸及びテレフタル酸などのジカルボン酸類と
の遊離カルボキシル基含有モノエステル化物、および
プロパン-1,2,3-トリカルボン酸(トリカルバリル酸)、ブタン-1,2,4-トリカルボン酸、ベンゼン-1,2,3-トリカルボン酸、ベンゼン-1,3,4-トリカルボン酸、ベンゼン-1,2,5-トリカルボン酸などのトリカルボン酸類と、
2-メタクリレートなどのモノヒドロキシモノアクリレートまたはモノヒドロキシモノ
メタクリレート類と
の遊離カルボキシル基含有オリゴエステル化物
が例示される。
下記の式(4)で表現される化合物は、3価以上の多価アルコールと(メタ)アクリル酸との部分エステル化物である遊離水酸基含有ポリ(メタ)アクリレート類と、ジカルボン酸類とのエステル化物の代表的な例であり、下記の式(5)で表現される化合物は、3価以上の多価カルボン酸とモノヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート類とのエステル化物の代表的な例である。
Figure 2007183534
Figure 2007183534
本発明において、前記カルボキシル基含有多官能性単量体(D)の添加量は、アクリル系光重合性単量体100重量部に対して1〜100重量部であることが好ましく、25〜50重量部であることが一層好ましい。前記カルボキシル基含有多官能性単量体(D)を
用いることで、アルカリ溶液に対する現像性及びガラス基板と感光性樹脂膜との間の密着性を向上できる。
本発明に用いられる溶媒としては、エチレングリコールアセテート、エチルセロソルブ、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、エチルラクテート、ポリエチレングリコール、シクロヘキサノン、プロピレングリコールメチルエーテルなどが例示され、これら溶媒は、1種単独にまたは2種以上を混合して用いられる。
本発明に用いられる溶媒の添加量は、感光性樹脂組成物によって相異なるので具体的に限定できないが、樹脂液が基板に塗布される程度の粘度を有するように溶媒の添加量を選択することが好ましく、通常、感光性樹脂組成物の総量100重量部に対して20乃至80重量部である。
また、本発明の前記組成物には、組成物の物性を害しない範囲で分散剤、界面活性剤、酸化防止剤、安定剤などのその他の添加剤が少なくとも一つ以上さらに添加される。
特に、本発明においては、混合物内に顔料(黒色顔料)を分散させるための分散剤を用いることが好ましい。すなわち、分散剤は、予め顔料を表面処理する形態で、顔料の内部または外部に添加する方式で用いられる。
前記分散剤としては、非イオン性、陰イオン性または陽イオン性の分散剤が用いられるが、特別に限定されることなく、例えば、ポリアルキレングリコール及びそのエステル、ポリオキシアルキレン多価アルコールエステルアルキレンオキサイド付加物、アルコールアルキレンオキサイド付加物、スルホン酸エステル、スルホン酸塩、カルボン酸エステル、カルボン酸塩、アルキルアミドアルキレンオキサイド付加物、アルキルアミンなどが用いられる。これらは、1種単独にまたは2種以上を組み合わせて添加できる。
前記分散剤の添加量は、顔料1重量部に対して0.1乃至10重量部であることが好ましい。
本発明による感光性樹脂組成物は、液晶ディスプレイのカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造に用いられ、その製造方法は次のとおりである。
本発明の感光性樹脂組成物を用いてブラックマトリックスを製造する際には、まず、ガラス基板上にスピン塗布、ローラー塗布、スプレー塗布などの適当な方法を用いて、例えば、0.5乃至10μmの厚さで感光性樹脂組成物を塗布する。
次いで、塗布された感光性樹脂組成物(塗布層)に、カラーフィルタに必要なパターンを形成するように活性線を照射する。照射する活性線には、例えば、波長190乃至450nm、好ましくは200乃至400nm領域のUV(紫外線)が用いられるが、電子線及びX線も用いられる。照射後、塗布層を現像液で処理すると、塗布層の未露光部分が溶解されてカラーフィルタに必要なパターンが形成される。上記の工程を必要な色の数に応じて繰り返すことで、所望のパターンを有するカラーフィルタが得られる。また、前記工程で現像によって得られた画像パターンを再び加熱するか、活性線照射などによって硬化すると、耐クラック性及び耐溶媒性などを向上できる。
また、本発明による感光性樹脂組成物を用いて製造された液晶ディスプレイのカラーフィルタ用ブラックマトリックスは、カラーフィルタに適用されてディスプレイ装置に装着される。
[実施例]
以下、本発明の各実施例を一層具体的に説明するが、これら実施例は、説明のために例
示されたものに過ぎなく、本発明を制限するものではない。
[実施例1]
実施例1では、下記の成分を用いて感光性樹脂組成物を製造した。
*バインダー樹脂(カルド樹脂)
[(A):(B):(C)=1モル:2モル:2モル]10g
(A)9,9'-ビス(4-ヒドロキシフェニル)フルオレン
(B)エピクロロヒドリン
(C)アクリル酸
分子量(Mw)=4,000
*アクリル系光重合性単量体
ジペンタエリスリトールトリアクリレート5g
*光重合性開始剤
Igacure369(チバガイギー社)0.7g
STR-A(レスパー社)1.3g
*顔料
BK9599(黒色顔料、株式会社トクシキ)25g
*溶媒
プロピレングリコールモノメチルエーテル46g
シクロヘキサノン10g
*カルボキシル基含有多官能性単量体
TO-1382(東亜合成株式会社)2g
溶媒に光重合開始剤を溶解し、常温で2時間攪拌した後、バインダー樹脂、アクリル系光重合性単量体を添加して常温で2時間攪拌した。次いで、前記反応物に顔料、カルボキシル基含有多官能性単量体、その他の添加剤などを添加し、常温で1時間攪拌した。本発明の感光性樹脂組成物は、3回のろ過によって不純物を取り除いて製造し、後述する物性評価方法によって光学密度、現像性、耐熱性、耐化学性、接着性及び現像マージンを評価した。その結果は、下記の表1及び表2に示した。
[実施例2]
カルボキシル基含有多官能性単量体(TO1382、東亜合成株式会社)を5g用いたことを除けば、実施例1と同一の方法で感光性樹脂組成物を製造し、諸般の物性を評価した。その結果は、下記の表1及び表2に示した。
[比較例1]
バインダー樹脂としてアクリル系バインダー樹脂(BzMA/MAc=7/3、Mw=15,000)(商品名「NPR1320」、美源商事)を用いたことを除けば、実施例1と同一の方法で感光性樹脂組成物を製造し、諸般の物性を評価した。その結果は、下記の表1及び表2に示した。
[比較例2]
カルボキシル基含有多官能性単量体を添加しないことを除けば、実施例1と同一方法で感光性樹脂組成物を製造し、諸般の物性を評価した。その結果は、下記の表1及び表2に示した。
Figure 2007183534
Figure 2007183534
[物性測定方法]
*光学密度評価
厚さ1mmのガラス基板上に1.2μmの厚さで感光性樹脂組成物を塗布し、熱風循環式乾燥炉内で80℃で1分間乾燥して塗膜を得た。これを常温にまで冷やした後、熱風循環式乾燥炉内で230℃で30分間乾燥した後、310TR光密度計(X−rite社)を用いて塗膜の光学密度を測定した。
−評価基準−
○:光学密度が3.5以上
△:光学密度が2.5〜3.5
×:光学密度が2.5以下
*現像性評価
厚さ1mmのクロムコーティングガラス基板上に1〜2μmの厚さで感光性樹脂組成物を塗布し、ホットプレート上で所定時間(1分)、所定温度(60℃)で乾燥して塗膜を得た。引き続いて、塗膜上に8、10、20、30、50μmのマスク大きさが含まれたフォトマスクを置き、365nmの波長を有する紫外線を高圧水銀ランプを用いて照射した後、1%のKOH系水溶液を用いて30℃で現像を行った。現像時、非露光部位が現像液に溶解される程度を観察した。
−評価基準−
○:非露光部が完全に溶解される。
△:非露光部が取り離れるが、現像液にゆっくり溶解される。
×:非露光部が取り離れて、全く溶解されない。
*耐熱性評価
厚さ1mmのガラス基板上に1〜2μmの厚さで感光性樹脂組成物を塗布し、熱風循環式乾燥炉内で80℃で1分間乾燥した後、365nmの波長の紫外線を超高圧水銀ランプ
で照射し、引き続いて、熱風循環式乾燥炉内で230℃で30分間乾燥して塗膜を得た。この塗膜の一部を再び熱風循環式乾燥炉内で1分間25℃で加熱した後、元サンプルとの光学密度差(ΔOD)を測定して耐熱性を評価した。
−評価基準−
○:光学密度差(ΔOD)が0.5以下
△:光学密度差(ΔOD)が0.5〜1
×:光学密度差(ΔOD)が1以上
*耐化学性評価
厚さ1mmのガラス基板上に1〜2μmの厚さで感光性樹脂組成物を塗布し、熱風循環式乾燥炉内で80℃で1分間乾燥して塗膜を得た。引き続いて、365nmの波長を有する紫外線を超高圧水銀ランプで照射し、1%のKOH水溶液を用いて30℃、常圧下で80秒の間現像を行い、再び熱風循環式乾燥炉内で230℃で30分間乾燥して塗膜を得た。この塗膜の一部を5%のHCl、NaOH水溶液、キシレン、NMP、IPA、アセトン溶液に30分間浸した後、元サンプルとの光学密度差を測定して耐化学性を評価した。
−評価基準−
○:光学密度差(ΔOD)が0.5以下
△:光学密度差(ΔOD)が0.5〜1
×:光学密度差(ΔOD)が1以上
*接着性評価
厚さ1mmのガラス基板上に1〜2μmの厚さで感光性樹脂組成物を塗布し、熱風循環式乾燥炉内で80℃で1分間乾燥して塗膜を得た。365nmの波長を有する紫外線を、超高圧水銀ランプで、300mJの露光量で照射し、引き続いて、熱風循環式乾燥炉内で230℃で30分間加熱した後、剃刀を用いて100個のブロック(1mm×1mmの大きさ)に分けた。接触テープをその上に付けた後、瞬間的に剥がして剥離状態を肉眼で判定した。
−評価基準−
○:100/100(剥離されたブロック数/総ブロック数)−全く剥離されてない。
△:80/100〜99/100
×:0/100〜79/100
*現像マージン評価
厚さ1mmのクロムコーティングガラス基板上に1〜2μmの厚さで感光性樹脂組成物を塗布し、ホットプレート上で所定時間(1分)、所定温度(60℃)で乾燥して塗膜を得た。引き続いて、塗膜上に8、10、20、30および50μmの線幅の孔を有するフォトマスクを置き、365nmの波長を有する紫外線を高圧水銀ランプを用いて露光した後、1%のKOH系水溶液を用いて30℃、常圧下で所定時間(70秒、100秒、130秒)の間現像を行った後、現像マージンを測定するために、残存するパターンの大きさを観察した。
表1から確認できるように、実施例1及び実施例2は、比較例1及び2と比較したとき、光学密度、現像性、耐熱性、耐化学性及び接着性の全てに優れており、特に、現像性及び接着性面では、比較例1及び2に比べて遥かに優れている。
また、表2から確認できるように、実施例1及び実施例2は、現像マージン測定結果においても、比較例1及び2に比べて優れている。

Claims (9)

  1. 3価以上の多価アルコールと(メタ)アクリル酸との部分エステル化物である遊離水酸基含有ポリ(メタ)アクリレート類と、ジカルボン酸類とのエステル化物、および
    3価以上の多価カルボン酸と、モノヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート類とのエステル化物
    からなる群から選択された1種以上のカルボキシル基含有多官能性単量体を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。
  2. 前記カルボキシル基含有多官能性単量体は、2個以上の重合可能なエチレン性不飽和結合を有することを特徴とする請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
  3. 前記感光性樹脂組成物の総量100重量部に対して、バインダー樹脂としてのカルド樹脂1〜40重量部、アクリル系光重合性単量体1〜20重量部、光重合開始剤0.1〜10重量部、ブラック顔料5〜40重量部および溶媒20〜80重量部を含み、
    該アクリル系光重合性単量体100重量部に対して、前記カルボキシル基含有多官能性単量体1〜100重量部を含む
    ことを特徴とする請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
  4. 前記カルボキシル基含有多官能性単量体の含量は、前記アクリル系光重合性単量体100重量部に対して25〜50重量部であることを特徴とする請求項3に記載の感光性樹脂組成物。
  5. 前記カルボキシル基含有多官能性単量体は、下記の式(4)で表現されるカルボキシル基含有多官能性単量体および式(5)で表現されるカルボキシル基含有多官能性単量体からなる群から選択される1種以上であることを特徴とする請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
    Figure 2007183534
    Figure 2007183534
  6. 前記組成物は、分散剤、界面活性剤および安定剤からなる群から選択される1種以上のその他の添加剤をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
  7. (a)請求項1乃至6のうちいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物を、基板上に0.5乃至10μmの厚さで塗布し、塗布層を形成する段階と、
    (b)塗布層に波長190乃至450nm領域の紫外線またはX線を照射する段階と、
    (c)塗布層を現像液で処理してパターンを形成する段階と
    をこの順序で含むことを特徴とするカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法。
  8. 請求項7に記載の製造方法によって製造されたディスプレイ装置用ブラックマトリックス。
  9. 請求項8に記載のブラックマトリックスが装着されたディスプレイ装置。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009265527A (ja) * 2008-04-28 2009-11-12 Fujifilm Corp 重合性組成物及びそれを用いた固体撮像素子用遮光性カラーフィルタ並びに固体撮像素子
JP2009277658A (ja) * 2008-05-15 2009-11-26 Kolon Industries Inc 光分解性転写材料、これから形成された絶縁膜および有機発光素子
WO2015129092A1 (ja) * 2014-02-28 2015-09-03 Jsr株式会社 表示又は照明装置、および絶縁膜の形成方法
JP2018116270A (ja) * 2017-01-18 2018-07-26 東友ファインケム株式会社Dongwoo Fine−Chem Co., Ltd. 黒色感光性樹脂組成物、これから製造された画像表示装置用ブラックマトリックス、カラムスペーサーおよびブラックマトリックス一体型カラムスペーサ

Families Citing this family (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4901889B2 (ja) 2008-02-18 2012-03-21 ソニーケミカル&インフォメーションデバイス株式会社 磁性シート組成物、磁性シート、及び磁性シートの製造方法
KR20100047648A (ko) * 2008-10-29 2010-05-10 제일모직주식회사 안료 분산액 조성물, 이를 포함하는 컬러필터용 레지스트 조성물, 및 이를 이용하여 제조되는 컬러필터
KR101068622B1 (ko) 2009-12-22 2011-09-28 주식회사 엘지화학 기판접착력이 향상된 고차광성 블랙매트릭스 조성물
KR101486560B1 (ko) * 2010-12-10 2015-01-27 제일모직 주식회사 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 차광층
KR101830206B1 (ko) 2010-12-28 2018-02-20 후지필름 가부시키가이샤 차광막 형성용 티타늄 블랙 분산 조성물과 그 제조방법, 흑색 감방사선성 조성물, 흑색 경화막, 고체촬상소자, 및 흑색 경화막의 제조방법
TWI548701B (zh) 2011-09-14 2016-09-11 富士軟片股份有限公司 用於彩色濾光片的著色感放射線性組成物、著色膜、圖案形成方法、彩色濾光片及其製造方法以及固態影像感測裝置
JP5922013B2 (ja) 2011-12-28 2016-05-24 富士フイルム株式会社 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子
JP5976523B2 (ja) 2011-12-28 2016-08-23 富士フイルム株式会社 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子
JP5934664B2 (ja) 2012-03-19 2016-06-15 富士フイルム株式会社 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、着色パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び画像表示装置
JP5775479B2 (ja) 2012-03-21 2015-09-09 富士フイルム株式会社 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び画像表示装置
JP5894943B2 (ja) 2012-08-31 2016-03-30 富士フイルム株式会社 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、マイクロレンズの製造方法、及び固体撮像素子
JP5909468B2 (ja) 2012-08-31 2016-04-26 富士フイルム株式会社 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、及び固体撮像素子
JP5934682B2 (ja) 2012-08-31 2016-06-15 富士フイルム株式会社 マイクロレンズ形成用又はカラーフィルターの下塗り膜形成用硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、固体撮像素子、及び、硬化性組成物の製造方法
CN104823083A (zh) 2012-11-30 2015-08-05 富士胶片株式会社 硬化性树脂组合物、使用其的图像传感器芯片的制造方法及图像传感器芯片
EP2927716A4 (en) 2012-11-30 2015-12-30 Fujifilm Corp HARDENABLE RESIN COMPOSITION AND IMAGE SENSOR PREPARATION METHOD AND PICTOR SENSOR THEREWITH
JP2014122947A (ja) * 2012-12-20 2014-07-03 Japan Display Inc 表示装置及びカバー部材
JP6170673B2 (ja) 2012-12-27 2017-07-26 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ用組成物、赤外線透過フィルタ及びその製造方法、並びに赤外線センサー
EP2940090A4 (en) 2012-12-28 2016-01-06 Fujifilm Corp HARDENABLE RESIN COMPOSITION FOR PREPARING AN INFRARED REFLECTIVE FILM, INFRARED REFLECTIVE FILM, AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF, INFRARED EDGEFILTER, AND SOLIDAGE IMAGING ELEMENT THEREWITH
KR20150086524A (ko) 2012-12-28 2015-07-28 후지필름 가부시키가이샤 경화성 수지 조성물, 적외선 컷 필터 및 이것을 사용한 고체 촬상 소자
CN104903759B (zh) 2013-02-19 2017-09-22 富士胶片株式会社 近红外线吸收性组合物、近红外线截止滤波器及其制造方法、以及照相机模块及其制造方法
KR101865599B1 (ko) 2013-04-11 2018-06-08 후지필름 가부시키가이샤 근적외선 흡수성 조성물, 이것을 이용한 근적외선 차단 필터 및 그 제조 방법, 및 카메라 모듈 및 그 제조 방법
TW201445249A (zh) * 2013-05-31 2014-12-01 Chi Mei Corp 感光性樹脂組成物及其應用
JP6162084B2 (ja) 2013-09-06 2017-07-12 富士フイルム株式会社 着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、画像表示装置、ポリマー、キサンテン色素
CN106233203B (zh) * 2014-10-15 2020-07-14 奇美实业股份有限公司 感光性树脂组成物、彩色滤光片及其液晶显示元件
KR20160071994A (ko) 2014-12-12 2016-06-22 동우 화인켐 주식회사 흑색 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙매트릭스 및 이를 구비한 화상 표시 장치
TWI634135B (zh) 2015-12-25 2018-09-01 日商富士軟片股份有限公司 樹脂、組成物、硬化膜、硬化膜的製造方法及半導體元件
US10788750B2 (en) * 2016-03-15 2020-09-29 Toray Industries, Inc. Photosensitive resin composition, cured film, laminate, touch panel member, and method for manufacturing cured film
TWI830588B (zh) 2016-08-01 2024-01-21 日商富士軟片股份有限公司 感光性樹脂組成物、硬化膜、積層體、硬化膜的製造方法、積層體的製造方法及半導體元件
JP6808829B2 (ja) 2017-05-31 2021-01-06 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、ポリマー前駆体、硬化膜、積層体、硬化膜の製造方法および半導体デバイス
KR102571972B1 (ko) 2018-09-28 2023-08-29 후지필름 가부시키가이샤 감광성 수지 조성물, 경화막, 적층체, 경화막의 제조 방법, 및 반도체 디바이스
EP3893054A4 (en) 2018-12-05 2022-01-05 FUJIFILM Corporation PATTERN MAKING METHOD, LIGHT SENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED FILM, LAMINATE AND DEVICE
SG11202105559WA (en) 2018-12-05 2021-06-29 Fujifilm Corp Photosensitive resin composition, pattern forming method, cured film, laminate, and device
EP3940018A4 (en) 2019-03-15 2022-05-18 FUJIFILM Corporation CURING RESIN COMPOSITION, CURED FILM, LAMINATED BODY, CURED FILM PRODUCTION METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE AND POLYMER PRECURSOR
TW202128839A (zh) 2019-11-21 2021-08-01 日商富士軟片股份有限公司 圖案形成方法、光硬化性樹脂組成物、積層體的製造方法及電子元件的製造方法
TW202248755A (zh) 2021-03-22 2022-12-16 日商富士軟片股份有限公司 負型感光性樹脂組成物、硬化物、積層體、硬化物的製造方法以及半導體元件
JP7259141B1 (ja) 2021-08-31 2023-04-17 富士フイルム株式会社 硬化物の製造方法、積層体の製造方法、及び、半導体デバイスの製造方法、並びに、処理液

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4421841A (en) * 1981-07-28 1983-12-20 Mitsubishi Chemical Industries Limited Photosensitive lithographic plate with sulfonate containing photosensitive polyester
US4934791A (en) * 1987-12-09 1990-06-19 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Color filter
DE69130701T2 (de) * 1990-10-29 1999-08-26 Toyo Gosei Kogyo Kk Lichtempfindliches gefärbtes Harz, farbiges Bild, Verfahren zur Herstellung von Farbfiltern und Verfahren zur Herstellung einer Schwarzmatrix
WO1994000801A1 (en) * 1992-06-19 1994-01-06 Nippon Steel Corporation Color filter, material thereof and resin
KR100326009B1 (ko) * 1993-07-20 2002-05-10 야마사키 노리쓰카 오르토스피로에스테르화합물,이를함유하는저경화수축성수지조성물및경화물
JPH07271020A (ja) * 1994-03-18 1995-10-20 Internatl Business Mach Corp <Ibm> ブラックマトリックス形成用感光性組成物、カラーフィルター基板及びそれを用いた液晶表示装置
JP3829412B2 (ja) * 1997-05-28 2006-10-04 Jsr株式会社 カラーフィルタ用感放射線性組成物
JP4421708B2 (ja) 1999-09-10 2010-02-24 日本合成化学工業株式会社 感光性樹脂組成物
KR100431461B1 (ko) 2002-06-03 2004-05-17 주식회사 엘지화학 액정 디스플레이용 블랙 매트릭스에 사용되는 감광성 수지조성물 및 이를 포함하는 블랙 매트릭스
TWI285298B (en) * 2003-01-14 2007-08-11 Sumitomo Chemical Co Photosensitive resin composition
TWI312882B (en) * 2003-03-24 2009-08-01 Dainippon Printing Co Ltd Curable resin composition, curable resin composition for photo-process patterning, color filter, substrate for liquid crystal panel and liquid crystal panel
TWI279644B (en) * 2004-01-19 2007-04-21 Chi Mei Corp Photo-sensitive resin composite for black matrix
TWI285297B (en) * 2004-02-09 2007-08-11 Chi Mei Corp Light-sensitive resin composition for black matrix
KR20050101920A (ko) * 2004-04-20 2005-10-25 주식회사 엘지화학 액정 표시 장치용 블랙 매트릭스에 사용되는 감광성 수지조성물
KR100725023B1 (ko) * 2006-10-16 2007-06-07 제일모직주식회사 카도계 수지를 함유한 수지 조성물 및 그에 의한 패턴의 제조방법, 이를 이용한 컬러필터

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009265527A (ja) * 2008-04-28 2009-11-12 Fujifilm Corp 重合性組成物及びそれを用いた固体撮像素子用遮光性カラーフィルタ並びに固体撮像素子
JP2009277658A (ja) * 2008-05-15 2009-11-26 Kolon Industries Inc 光分解性転写材料、これから形成された絶縁膜および有機発光素子
WO2015129092A1 (ja) * 2014-02-28 2015-09-03 Jsr株式会社 表示又は照明装置、および絶縁膜の形成方法
JPWO2015129092A1 (ja) * 2014-02-28 2017-03-30 Jsr株式会社 表示又は照明装置、および絶縁膜の形成方法
JP2018116270A (ja) * 2017-01-18 2018-07-26 東友ファインケム株式会社Dongwoo Fine−Chem Co., Ltd. 黒色感光性樹脂組成物、これから製造された画像表示装置用ブラックマトリックス、カラムスペーサーおよびブラックマトリックス一体型カラムスペーサ
JP7063614B2 (ja) 2017-01-18 2022-05-09 東友ファインケム株式会社 黒色感光性樹脂組成物、これから製造された画像表示装置用ブラックマトリックス、カラムスペーサーおよびブラックマトリックス一体型カラムスペーサ

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