JP2007172701A - 超解像光記録媒体及び超解像光記録媒体への情報記録方法 - Google Patents
超解像光記録媒体及び超解像光記録媒体への情報記録方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】超解像光記録媒体は、基板上に少なくとも記録層と超解像層とを有してなり、記録マーク26が未記録部29に対して凹部となるように、記録に供するレーザの強度または発光パターンを調整して、解像限界以下の記録マーク及びスペースを形成する。
【選択図】図3
Description
、ZnO等の、半導体や金属の酸化物、硫化物等から構成されている。
xとし、超解像層16を、Sb75Te25として、超解像光記録媒体10を構成した。
例1の超解像光記録媒体は、ポリカーボネート基板上に、厚さ40nmのAg合金膜の反対膜、厚さ80nmのZnS:SiO2=85:15からなる第1の誘電体層、厚さ10nmのSb75Te25からなる超解像層、厚さ40nmのZnS:SiO2=85:15からなる第2の誘電体層、厚さ4nmのPtOxからなる記録層、厚さ90nmのZnS:SiO2=85:15からなる第3の誘電体層、厚さ0.1mmの光透過層を順に積層して構成したものである。
例2に係る超解像光記録媒体は、PC基板上に、厚さ40nmのAg合金膜からなる反射膜、厚さ80nmのZnS:SiO2=85:15からなる第1の誘電体層、厚さ15nmのSn58Sb42からなる超解像層、厚さ45nmのZnS:SiO2=85:15からなる第2の誘電体層、厚さ4nmのPtOxからなる記録層、厚さ45nmのZnS:SiO2=85:15からなる第3の誘電体層、厚さ.0.1mmの光透過層をこの順で積層して構成し、前記例1と同様に記録パワーを段階的に切替えて解像限界以下のサイズの記録マークと解像限界以下のサイズのスペースとを連続的に形成して、表5から、観測結果を表1と同様にして表5に表す。
次に、例1とは異なる光学系を用いた例3について説明する。例3において用いた光学系は、波長405nmでNA0.65である。
12…基板
16…記録層
17…トラック
20…超解像層
24…光透過層
26…記録マーク
28…スペース
29…未記録部
Claims (4)
- 基板と、この基板上に形成された記録層とを有してなり、前記記録層には、記録トラックに沿って、再生光学系における解像限界以下のサイズであって、且つ、該再生光学系により再生可能な記録マークが形成されていて、変調信号中の記録マークのうち少なくとも前記解像限界以下のサイズの記録マークが未記録部に対して凹部であることを特徴とする超解像光記録媒体。
- 請求項1において、
前記記録層における記録マークが形成されていない未記録部に対する前記記録マークの高さとマークサイズMLの比hm/MLが−0.20≦hm/ML≦−0.01であることを特徴とする超解像光記録媒体。 - 請求項1において、
前記記録層における記録マークが形成されていない未記録部に対する記録マークの高さがこの記録マークよりも長い記録マークの未記録部に対する高さよりも高いことを特徴とする超解像光記録媒体。 - 基板と、この基板上に、記録層と、超解像層と、光透過層とを、少なくとも有してなる超解像光記録媒体の前記記録層に、再生光学系における解像限界以下のサイズで、且つ、該再生光学系により再生可能な記録マーク及びスペースを形成する情報記録方法であって、
変調信号中の記録マークのうち少なくとも解像限界以下のサイズの記録マークが未記録部に対して凹部となるように、記録に供するレーザ強度または記録に供するレーザの発光パターンを調整することにより、前記解像限界以下のサイズの記録マーク及び解像限界以下のサイズのスペースを形成することを特徴とする超解像光記録媒体への情報記録方法。
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