JP2007165668A - ビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶及びその製造方法 - Google Patents

ビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶及びその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2007165668A
JP2007165668A JP2005361262A JP2005361262A JP2007165668A JP 2007165668 A JP2007165668 A JP 2007165668A JP 2005361262 A JP2005361262 A JP 2005361262A JP 2005361262 A JP2005361262 A JP 2005361262A JP 2007165668 A JP2007165668 A JP 2007165668A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
melt
big
single crystal
lead
oxide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2005361262A
Other languages
English (en)
Inventor
Yohei Hanaki
陽平 花木
Shuji Osumi
修司 大住
Kazushi Shirai
一志 白井
Yosuke Asahara
陽介 浅原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Granopt Ltd
Original Assignee
Granopt Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Granopt Ltd filed Critical Granopt Ltd
Priority to JP2005361262A priority Critical patent/JP2007165668A/ja
Publication of JP2007165668A publication Critical patent/JP2007165668A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Thin Magnetic Films (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

【課題】 鉛をフラックス成分とするLPE法において、ビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶に含まれる鉛の量を0.1重量%に減らすことのできるビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶とその結晶育成技術。
【解決手段】 希土類酸化物と酸化鉛を含んだフラックス成分からなる融液を用いた液相エピタキシャル法において、融液中の酸化鉛モル濃度が5%以上かつ13%以下にて育成したテルビウムを主成分としたビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶にて鉛の混入が抑制できる。
【選択図】 なし

Description

本発明は、光アイソレータや光サーキュレータなどのファラデー回転子に用いられる、ビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶及びその製造方法に関する。
近年、光ファイバ通信や光計測の発展はめざましいものがある。この光ファイバ通信や光計測では多くの場合、信号源として半導体レーザが使用されている。しかし、半導体レーザは、光ファイバ端面などから反射し、再び半導体レーザ自身に戻ってくるところの所謂反射戻り光があると、発振が不安定になるという重大な欠点がある。そのため半導体レーザの出射側に光アイソレータを設けて、反射戻り光を遮断し、半導体レーザの発振を安定化させることが行われている。
光アイソレータは偏光子、検光子、ファラデー回転子およびファラデー回転子を磁気的に飽和させるための永久磁石からなる。光アイソレータの中心的な機能を担うファラデー回転子には、主に液相エピタキシャル(以下、LPEと略す)法で育成される厚さが数十μmから500μm程度のビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶(以下、BIGと適宜略す)、たとえば(HoTbBi)Fe12、(YbTbBi)Fe12などが提案されている。
BIG単結晶を育成するLPE法では、フラックス成分であるPbO-Bi-Bにガーネット単結晶成分である希土類や鉄を溶かした融液を、ガーネット単結晶が析出する過飽和温度状態にして、種結晶基板上を浸漬して結晶育成が行われる。この際に、フラックス成分であり、かつファラデー効果の増大をもたらすBiが取り込まれ、BIGが育成されるのである。しかしながら、同じくフラックス成分である鉛も、不純物として0.2重量%〜0.8重量%が取り込まれる。
近年、環境に対する規制が厳しくなってきている。鉛は中枢神経系機能障害やガンを引き起こす物質であることから、例えば、RoHS指令「電気電子機器に含まれる特定有害物質の使用制限に関する欧州議会および理事会指令」での指定物質であり、その最大許容量は0.1重量%と定められている。このRoHS指令を満足するためには、BIGに不純物として取り込まれるPb量を0.1重量%以下に減らすBIG製造技術が必要とされている。
最も有効な手段は、鉛を含まないフラックス成分を使った融液による結晶育成であることは明白である。しかしながら、鉛を含まないフラックス成分として、Bi(特許文献1)、またはBiにアルカリ金属を添加した方法(特許文献2)が提案されているが、光通信用途のファラデー回転子に必要な厚さ0.5mm程度のBIGを、安定に育成する技術としては確立されていない。また、技術的にも困難だとされている。そこで、鉛をフラックス成分としたLPE法技術にて、育成したBIGにPbの混入を防ぐ手段が必要とされているのである。
特公昭57−45719 特開昭50−134000
鉛をフラックス成分とするLPE法において、BIGに含まれる鉛の量が0.1重量%となるBIGの製造を課題とする。
本発明者らは、希土類酸化物と酸化鉛を含んだフラックス成分からなる融液を用いた液相エピタキシャル法において、融液中の酸化鉛モル濃度が5%以上かつ13%以下である条件にて育成したTb3−x−yBiFe5-z12(ただし、RはY、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、LuおよびCaからなる群から選ばれる一種または二種以上の元素であり、Mは、Ga、Sc、AlおよびInからなる群から選ばれる一種または二種以上の元素である。また、y、z≦0.2、0.7≦x≦1.2である。)にて表されるビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶が、RoHS指令を満足したPb含有量0.1重量%以下である、との知見を得て、上記課題の解決につき、さらに鋭意検討した結果、本発明を完成した。
環境への規制、例えばRoHS指令を満足したファラデー回転子の提供が可能となる。
以下、本発明の詳細を説明する。
図1は、融液中のPbOのモル濃度と、育成したBIGのPb含有量を表した図である。○はテルビウム(Tb)を主成分とするビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶Tb3−x−yBiFe5-z12、●はTbと異なるR成分を多く含んだ(3−x−y=0.6、y=1.2)ビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶のPb含有量を示す。
Tb系のBIGの場合、融液中のPbOモル濃度に比例してBIGに含有するPb濃度は減少する。この場合、PbOモル濃度を13%以下にすれば、RoHS指令を満足したBIGの育成が可能となる。さらに、製造ロットのバラつきを考慮した生産上の観点から、BIG中のPb含有量をRoHS指令の0.1重量%未満となることを確実にするために、Pb含有量は、RoHS指令の60%程度を上限とした0.06重量%未満に設定することが好ましい。したがって、図1からPbOモル濃度は9%以下とすることが好ましい。
PbOモル濃度が小さくなれば、BIG中のPb含有量は小さくなることが本発明によっても明らかとなったが、融液中のPbOモル濃度が小さいと安定したBIGの育成条件が定まらず、結晶育成そのものが困難となる。そこで、本発明者らは、容易に育成可能なPbOモル濃度を5%以上と定め、すなわち、PbOモル濃度を13%以下かつ5%以上、好ましくは9%以下かつ5%以上がTbを主成分とするBIGの適した融液組成であると結論付けた。
Tbが主成分とならないBIGの場合、図1(×)で示したように、同一PbOモル濃度の育成であっても、BIG中のPb含有量はTb系のBIGと比較して大きくなる。そこで、上述したRoHS指令を確実とした0.06重量%を満足するようにPbOモル濃度を図1から定めようとすると、PbOモル濃度は5%程度となる。したがって、製造条件が著しく制約されることになり好ましくない。したがって本発明では、育成するBIGは、Tbを主成分としたBIGであることと定めた。
上記である本発明において、ビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶(BIG)は、
Tb3−x−yBiFe5-z12
[RはY、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、LuおよびCaからなる群から選ばれる一種または二種以上の元素であり、Mは、Ga、Sc、AlおよびInからなる群から選ばれる一種または二種以上の元素である。また、y、z≦0.2、0.7≦x≦1.2である。]
の式で表されるBIG膜から、通常選択する。
Rは、光学特性と磁気特性を考慮し、かつ、育成基板との格子定数の適合性などを考慮して選択するものであるが、具体的には、Y、Eu、Gd、Tb、Ho、Ybの組み合わせが挙げられる。また、Mは、2つの鉄サイトに置換される置換量が安定となるように選択することが好ましく、具体的には、Ga、Alの組み合わせが挙げられる。
ここで、xが0.7未満ではファラデー効果が小さくなり好ましくない。ファラデー効果との観点からは、より大きいことが好ましいが、1.2を越えると育成基板との格子整合が取れなくなるので好ましくない。yやzが0.2より大きくなると、図1(×)のように、図1の実線から外れることになり、上述したように育成条件が定まらなくなるため好ましくない。
本発明に用いる上記BIG膜の製造に用いる育成基板(基板)としては、公知のものが使用できる。一般には、既に、SGGG基板と称して市販されている格子定数が1.2490nmから1.2515nmの非磁性ガーネット〔(GdCa)(GaMgZr)12〕基板から適宜選択する。
以下、本発明を実施例によって、具体的に説明する。
実施例1
白金製ルツボに、酸化鉛[PbO、4N]3518g、酸化ビスマス[Bi、4N]3673g、酸化第2鉄[Fe、4N]582g、酸化ほう素[B、5N]156g、酸化テルビウム[Tb、3N]52g、酸化イッテルビウム[Yb、3N]3g、酸化ガリウム[Ga、3N]13gを仕込み融液とした。この融液を精密縦型管状電気炉の所定の位置に設置し、1000℃に加熱溶融して十分に攪拌して均一に混合してBIG育成用融液とした。融液中のPbモル濃度は52%である。
ここに得られた融液の温度を飽和温度以下の温度まで低下させて後、融液表面に、常法に従って、厚さが760μmで、格子定数が1.2497±0.0002nmの3インチ(111)ガーネット単結晶[(GdCa)(GaMgZr)12]基板の片面を接触させ、基板を回転させながらエピタキシャル成長を行った結果、厚さ560μmで、Tb1.9Yb0.2Bi0.9Fe5.012組成のBIG厚膜を作製した。
このBIGに混入されるPbの濃度を蛍光X線分析装置にて分析した結果、0.32重量%であった。ファラデー回転角は、1550nm波長にて920deg/cm、ファラデー回転角の温度変化は0.045deg/℃であった。
実施例2
白金製ルツボに、酸化鉛[PbO、4N]850g、酸化ビスマス[Bi、4N]4425g、酸化第2鉄[Fe、4N]306g、酸化ほう素[B、5N]30g、酸化テルビウム[Tb、3N]51g、酸化ホルミウム[Ho、3N]1g、酸化ガリウム[Ga、3N]1gを仕込み融液とした。この融液を精密縦型管状電気炉の所定の位置に設置し、1000℃に加熱溶融して十分に攪拌して均一に混合してBIG育成用融液とした。融液中の鉛モル濃度は24%である。
ここに得られた融液の温度を飽和温度以下の温度まで低下させて後、融液表面に、常法に従って、厚さが760μmで、格子定数が1.2497±0.0002nmの3インチ(111)ガーネット単結晶[(GdCa)(GaMgZr)12]基板の片面を接触させ、基板を回転させながらエピタキシャル成長を行った結果、厚さ440μmで、Tb2.0Ho0.1Bi0.9Fe4.8Ga0.212組成のBIG厚膜を作製した。このBIGに混入されるPbの濃度を蛍光X線分析装置にて分析した結果、0.015重量%であった。ファラデー回転角は、1550nm波長にて890deg/cm、ファラデー回転角の温度変化は0.045deg/℃であった。
実施例3
白金製ルツボに、酸化鉛[PbO、4N]493g、酸化ビスマス[Bi、4N]5140g、酸化第2鉄[Fe、4N]301g、酸化ほう素[B、5N]17g、酸化テルビウム[Tb、3N]50g、酸化ホルミウム[Ho、3N]1g、酸化ガリウム[Ga、3N]1gを仕込み融液とした。この融液を精密縦型管状電気炉の所定の位置に設置し、1000℃に加熱溶融して十分に攪拌して均一に混合してBIG育成用融液とした。融液中の鉛モル濃度は14%である。
ここに得られた融液の温度を飽和温度以下の温度まで低下させて後、融液表面に、常法に従って、厚さが760μmで、格子定数が1.2497±0.0002nmの3インチ(111)ガーネット単結晶[(GdCa)(GaMgZr)12]基板の片面を接触させ、基板を回転させながらエピタキシャル成長を行った結果、厚さ450μmで、Tb2.0Ho0.1Bi0.9Fe4.8Ga0.212組成のBIG厚膜を作製した。このBIGに混入されるPbの濃度を蛍光X線分析装置にて分析した結果、0.01重量%であった。ファラデー回転角は、1550nm波長にて880deg/cm、ファラデー回転角の温度変化は0.045deg/℃であった。
実施例4
白金製ルツボに、酸化鉛[PbO、4N]225g、酸化ビスマス[Bi、4N]5140g、酸化第2鉄[Fe、4N]300g、酸化ほう素[B、5N]9g、酸化テルビウム[Tb、3N]50g、酸化ホルミウム[Ho、3N]1gを仕込み融液とした。この融液を精密縦型管状電気炉の所定の位置に設置し、1000℃に加熱溶融して十分に攪拌して均一に混合してBIG育成用融液とした。融液中の鉛モル濃度は7%である。
ここに得られた融液の温度を飽和温度以下の温度まで低下させて後、融液表面に、常法に従って、厚さが760μmで、格子定数が1.2497±0.0002nmの3インチ(111)ガーネット単結晶[(GdCa)(GaMgZr)12]基板の片面を接触させ、基板を回転させながらエピタキシャル成長を行った結果、厚さ200μmで、Tb2.0Ho0.1Bi0.9Fe5.012組成のBIG厚膜を作製した。このBIGに混入されるPbの濃度を蛍光X線分析装置にて分析した結果、0.05重量%であった。ファラデー回転角は、1550nm波長にて890deg/cm、ファラデー回転角の温度変化は0.045deg/℃であった。
BIGの育成技術として既に確立されている鉛フラックスを使ったLPE法技術を使って、中枢神経系機能障害やガンを引き起こす物質である鉛の製品への混入を防ぐことができ、その産業上の意義は極めて高い。
融液中のPbOモル濃度とBIG中のPb含有量の関係を表した図。

Claims (1)

  1. 希土類酸化物と酸化鉛を含んだフラックス成分からなる融液を用いた液相エピタキシャル法において、融液中の酸化鉛モル濃度が5%以上かつ13%以下にて育成したTb3−x−yBiFe5-z12(ただし、RはY、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、LuおよびCaからなる群から選ばれる一種または二種以上の元素であり、Mは、Ga、Sc、AlおよびInからなる群から選ばれる一種または二種以上の元素である。また、y、z≦0.2、0.7≦x≦1.2である。)にて表されるビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶およびその製造方法
JP2005361262A 2005-12-15 2005-12-15 ビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶及びその製造方法 Pending JP2007165668A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005361262A JP2007165668A (ja) 2005-12-15 2005-12-15 ビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶及びその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005361262A JP2007165668A (ja) 2005-12-15 2005-12-15 ビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶及びその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2007165668A true JP2007165668A (ja) 2007-06-28

Family

ID=38248213

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005361262A Pending JP2007165668A (ja) 2005-12-15 2005-12-15 ビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶及びその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2007165668A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010256588A (ja) * 2009-04-24 2010-11-11 Granopt Ltd ファラデー回転子
JP2013170120A (ja) * 2012-02-17 2013-09-02 Granopt Ltd ファラデー回転子の製造方法
GB2600643A (en) * 2015-06-15 2022-05-04 Skyworks Solutions Inc Ultra-high dielectric constant garnet

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006273594A (ja) * 2005-03-28 2006-10-12 Nec Tokin Corp 磁気光学ガーネット厚膜単結晶及びその製造方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006273594A (ja) * 2005-03-28 2006-10-12 Nec Tokin Corp 磁気光学ガーネット厚膜単結晶及びその製造方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010256588A (ja) * 2009-04-24 2010-11-11 Granopt Ltd ファラデー回転子
JP2013170120A (ja) * 2012-02-17 2013-09-02 Granopt Ltd ファラデー回転子の製造方法
GB2600643A (en) * 2015-06-15 2022-05-04 Skyworks Solutions Inc Ultra-high dielectric constant garnet
GB2600643B (en) * 2015-06-15 2022-08-17 Skyworks Solutions Inc Ultra-high dielectric constant garnet
US11987531B2 (en) 2015-06-15 2024-05-21 Skyworks Solutions, Inc. Ultra-high dielectric constant garnet

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5033945B2 (ja) 希土類鉄ガーネット単結晶
JP4702090B2 (ja) 磁性ガーネット単結晶及びそれを用いた光学素子
WO2006054628A1 (ja) 磁性ガーネット単結晶及びそれを用いた光学素子並びに単結晶の製造方法
JP3959099B2 (ja) 磁性ガーネット単結晶の製造方法
JP4650943B2 (ja) ビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶の製造方法
JP5377785B1 (ja) ビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶及びその製造方法
JP2007165668A (ja) ビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶及びその製造方法
JP4802995B2 (ja) 磁性ガーネット単結晶及びそれを用いた光学素子
JP2008021691A (ja) ビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶の製造方法
JP4720730B2 (ja) 光学素子の製造方法
JP2007266152A (ja) ビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶の製造方法
JP3490143B2 (ja) 酸化物ガーネット単結晶
JP2009147184A (ja) ビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶の製造方法
Kučera et al. Growth and characterization of high purity epitaxial yttrium iron garnet films grown from BaO–B2O3–BaF2 flux
JP2017024960A (ja) ビスマス置換型希土類鉄ガーネット結晶膜の製造方法、ビスマス置換型希土類鉄ガーネット結晶膜
JP2989654B2 (ja) ビスマス置換希土類鉄ガーネットの製造方法
JP5311474B2 (ja) 磁性ガーネット単結晶
JP5439931B2 (ja) ファラデー回転子の製法
JP4807288B2 (ja) 磁性ガーネット単結晶及びそれを用いた光学素子並びに磁性ガーネット単結晶の製造方法
JP2009016548A (ja) ビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶の製造方法
JP2006225204A (ja) ビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶の製造方法
JP2011011945A (ja) Bi置換希土類鉄ガーネット単結晶とその製造方法及び光デバイス
JP2006273594A (ja) 磁気光学ガーネット厚膜単結晶及びその製造方法
JP4432875B2 (ja) ガーネット単結晶の製造方法
JP2005247590A (ja) 磁性ガーネット単結晶及びそれを用いた光学素子

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080226

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100528

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100622

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20101109