JP2006273594A - 磁気光学ガーネット厚膜単結晶及びその製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】RoHS指令の規制外となるPb含有量が0.1wt%未満の磁性ガーネットを提供すること。
【解決手段】本発明の磁性ガーネット(磁気光学ガーネット厚膜単結晶)は、組成式(R,Bi)(Fe,M)12(但し、Rは重希土類元素及びYのうちから選ばれた1種以上を示し、MはAl,Gaから選ばれた1種以上を示し、且つ含有量として零を含む)で表わされると共に、PbO,Bi,Bを融剤として用いるLPE法により得られるものにおいて、融剤にあってのPb,Biに関する金属イオン比Pb/(Pb+Bi)が0.15未満(但し、零は含まず)であり、且つ酸素濃度5%以下(但し、零は含まず)の条件下でPb含有量が0.1wt%未満として得られたものである。
【選択図】なし

Description

本発明は、主としてビスマス置換希土類鉄系ガーネット厚膜単結晶等の磁気光学ガーネット厚膜単結晶及びその製造方法に関する。
従来、この種のビスマス置換希土類鉄系ガーネット厚膜単結晶に代表される磁気光学ガーネット厚膜単結晶(以下、磁性ガーネットと略記する)を製造するための関連技術としては、PbO,Bi,Bを融剤として所望する磁性ガーネットを溶解し、ガーネット型結晶のNdGa12等のミラー指数単位面(111)の基板上に数100μmの厚膜状の結晶を育成する液相エピタキシャル成長法を導入するもの(特許文献1,特許文献2参照)が知られ、実用化に至っている。
現在においては、磁性ガーネットの殆どが液相エピタキシャル成長法(以下、LPE法と略記する)により製造されているが、磁性ガーネットを用いたデバイスとしては、ファラデー回転を応用した光アイソレータ等が製品化されている。光アイソレータは、半導体レーザ発信器を使用した光通信装置において、光ファイバケーブルやコネクタ等の端部からの反射光を半導体レーザ発信器に戻るのを防ぎ、半導体レーザ発信器の安定した発信状態の実現に不可欠なデバイスとなっている。
特に光ファイバケーブルを用いた光通信システムは、昨今では全世界に普及しており、こうした事情に伴って光通信システムに用いられる各デバイスやそのデバイスに使用される材料は、各国における法令遵守に基づく対応が求められるようになっている。このような各国における法令遵守の一例として、ヨーロッパ連合(EU)で2006年7月1日から施行される有害化学物質使用規制(以下、RoHS指令と略記する)指令等が挙げられる。
このRoHS指令は、環境に有害となる6元素(Pb,Cd,Hg等)が含まれる品目製品の販売条件を規制するもので、具体的には均質材料(英語表記homogeneous materials)における最大許容濃度値(以下、閾値と略す)が規定され、閾値未満の材料と適用除外となる材料(技術的に代替が不可能と認定された材料等)とにより構成される品目製品の販売のみが可能となる。
特開2003−252699号公報(段落[0014]〜[0028]) 特開2004−307224号公報(段落[0034]〜[0040])
上述した特許文献1や特許文献2に係る磁性ガーネットの製造技術の場合、磁性ガーネットをLPE法により単結晶を育成するものであり、融剤にPbOを使用していることによりPbが1wt%前後混入してしまうが、これはRoHS指令におけるPb閾値の0.1wt%に該当するため、特許文献1や特許文献2に係る技術で製造される磁性ガーネットはRoHS指令の規制に含まれる材料となってしまうという問題がある。
因みに、現状では磁性ガーネットに代わる磁気光学材料は開発されておらず、磁性ガーネットにおけるRoHS指令への対策としては、適用除外認定を受けるか、或いは閾値を満足する材料を新たに開発するしかないという事情がある。
本発明は、このような問題点を解決すべくなされたもので、その技術的課題は、RoHS指令の規制外となるPb含有量が0.1wt%未満の磁性ガーネット及びその製造方法を提供することにある。
本発明によれば、組成式(R,Bi)(Fe,M)12(但し、Rは重希土類元素及びYのうちから選ばれた1種以上を示し、MはAl,Gaから選ばれた1種以上を示し、且つ含有量として零を含む)で表わされると共に、PbO,Bi,Bを融剤として用いるLPE法により得られる磁性ガーネットにおいて、融剤にあってのPb,Biに関する金属イオン比Pb/(Pb+Bi)が0.15未満(但し、零は含まず)であり、且つ酸素濃度5%以下(但し、零は含まず)の条件下でPb含有量が0.1wt%未満として得られた磁性ガーネットが得られる。
又、本発明によれば、組成式(R,Bi)(Fe,M)12(但し、Rは重希土類元素及びYのうちから選ばれた1種以上を示し、MはAl,Gaから選ばれた1種以上を示し、且つ含有量として零を含む)で表わされる磁性ガーネットをPbO,Bi,Bを融剤として用いるLPE法により育成する磁性ガーネットの製造方法において、LPE法では、融剤にあってのPb,Biに関する金属イオン比Pb/(Pb+Bi)を0.15未満(但し、零は含まず)とし、且つ酸素濃度を5%以下(但し、零は含まず)とした条件下で磁性ガーネットにおけるPb含有量を0.1wt%未満として育成する磁性ガーネットの製造方法が得られる。
本発明の磁性ガーネットの製造方法の場合、組成式(R,Bi)(Fe,M)12(但し、Rは重希土類元素及びYのうちから選ばれた1種以上を示し、MはAl,Gaから選ばれた1種以上を示し、且つ含有量として零を含む)で表わされる磁性ガーネットをPbO,Bi,Bを融剤として用いるLPE法により育成する際、Pb,Biに関する金属イオン比Pb/(Pb+Bi)を0.15未満(但し、零は含まず)とし、且つ酸素濃度を5%以下(但し、零は含まず)とした条件下とすることにより、磁性ガーネットにおけるPb含有量を0.1wt%未満として育成することが可能となり、RoHS指令の閾値を満足する新たな材料である規制外の磁性ガーネットが得られるようになる。
本発明の最良の形態に係る磁性ガーネットは、組成式(R,Bi)(Fe,M)12(但し、Rは重希土類元素及びYのうちから選ばれた1種以上を示し、MはAl,Gaから選ばれた1種以上を示し、且つ含有量として零を含む)で表わされると共に、PbO,Bi,Bを融剤として用いるLPE法により得られるものにおいて、融剤にあってのPb,Biに関する金属イオン比Pb/(Pb+Bi)が0.15未満(但し、零は含まず)であり、且つ酸素濃度5%以下(但し、零は含まず)の条件下でPb含有量が0.1wt%未満として得られたものである。
このような磁性ガーネットを製造する場合、組成式(R,Bi)(Fe,M)12(但し、Rは重希土類元素及びYのうちから選ばれた1種以上を示し、MはAl,Gaから選ばれた1種以上を示し、且つ含有量として零を含む)で表わされる磁性ガーネットをPbO,Bi,Bを融剤として用いるLPE法により育成する際、LPE法では、融剤にあってのPb,Biに関する金属イオン比Pb/(Pb+Bi)を0.15未満(但し、零は含まず)とし、且つ酸素濃度を5%以下(但し、零は含まず)とした条件下で磁性ガーネットにおけるPb含有量を0.1wt%未満として育成すれば良いものである。
そこで、以下は本発明の磁性ガーネット及びその製造方法における技術的概要を簡単に説明する。
図1は、本発明の最良の形態に係る磁性ガーネットを説明するためにTb1.9Bi1.1Fe5.012をLPE法により育成したときの酸素濃度(%)に対するPb含有量(wt%)の関係を示したものである。
一般に、磁性ガーネットを製造するLPE法では、育成条件によりPb含有量が変動することが知られており、図1に示されるTb1.9Bi1.1Fe5.012におけるPb含有量の酸素濃度への依存性からは、酸素濃度を低下させればPb含有量が減少する関係にあるため、Pb含有量を低減させるためのパラメータとして、酸素濃度が有効となることが判る。尚、以下では磁性ガーネットをLPE法で育成したときの酸素濃度を単に酸素濃度と略記する。
但し、図1から明らかであるように、酸素濃度を1%付近まで低減させたとしても、Pb含有量は約0.6wt%であるので、目的とする0.1wt%未満を満足するには至らない。
そこで、本発明者はPb含有量を低減するその他のパラメータを探索した結果、磁性ガーネットの種類に関係なく、磁性ガーネットのBi量がPb含有量に比例する相関があることを見い出した。
図2は、本発明の最良の形態に係る磁性ガーネットを説明するために酸素濃度1%として育成した組成式R3−xBi12(但し、Rは希土類元素とし、TはFe,Al,Ga等とする)におけるBi量x(%)に対するPb含有量(wt%)の関係を示したものである。
図2に示される各種磁性ガーネットのPb含有量のBi量への依存性からは、各種磁性ガーネットのPb含有量を制御するパラメータとして、融剤のBi,Pbの比率が重要であること、具体的には融剤のPb比を低減させたり、或いはBi比を増加させてLPE法を実施することにより、磁性ガーネットのPb含有量を制御できることが判る。
以上の総括的な結果に基づいて、LPE法で磁性ガーネットを育成する条件として、酸素濃度を低く設定し、融剤のPbO量をBi量との比で設定し、PbO比も低く設定すれば良いことを見い出した。但し、融剤に用いるパラメータとしては、酸化物で主に用いるモル比ではなく、Pb,Biを各々金属イオン量で表記する金属イオン比Pb/(Bi+Pb)とした。具体的には磁性ガーネットのPb含有量を0.1wt%未満として満足するための条件(パラメータ)としては、酸素濃度を5%以下(但し、零は含まず)、金属イオン比Pb/(Bi+Pb)を0.15未満とすれば良いことを見い出した。
ところで、図2中に示されるように、各種磁性ガーネットのBi量xとPb含有量との相関については、上記した条件でも確認されるが、Pb含有量が0.1wt%未満と少ない磁性ガーネットは、従来の製品方法で得られる磁性ガーネットと同等の組成式を有するものであれば、こうした諸条件を満たすことにより殆どの組成のものがPb含有量0.1wt%未満となる。
以下は、本発明の磁性ガーネットについて、幾つかの実施例及び比較例を挙げ、その製造方法を含めて具体的に説明する。
実施例1は、組成式Tb1.9Bi1.1Fe12で表わされる幾つかの磁性ガーネット試料を製造するもの(比較例のものを含む)である。
その製造については、純度99.9%の酸化第二鉄Fe,酸化鉛PbO,酸化ビスマスBi,酸化硼素B,及び純度99.99%の酸化テルビウムTbの混合粉末を使用し、PbO−Bi−B系をフラックスとして、LPE法により格子定数a=12.509オングストロームのNdGa12(以下、NGGと略記する)の直径2インチのミラー指数単位面(111)基板上に厚膜単結晶を約500μm育成した。
但し、ここでの融剤の組成について、Tbを0.4〜1.3mol%、Feを10.0〜12.0mol%、Biを26.0〜68.0mol%、PbOを10.0〜53.0mol%、Bを7.7〜9.0mol%とし、又融剤のPb,Biの金属イオン比Pb/(Pb+Bi)は0.48以下(但し、零は含まず)とし、厚膜単結晶育成時の酸素濃度は10%以下(但し、零は含まず)とした条件下で複数の磁性ガーネット試料を製造した。
そこで、これらの各磁性ガーネット試料に対して、Pb含有量を測定するために、島津製作所製の波長分散型X線分析装置(EPM−810及びEPMA−8075)を用い、厚膜単結晶の断面を鏡面に仕上げ、NGG基板と磁性ガーネット試料との境界から成長方向に向かう3点を分析してその平均値をPb含有量とした。
図3は、実施例1に係る酸素濃度1%の条件下での各磁性ガーネット試料における金属イオン比Pb/(Pb+Bi)に対するPb含有量(wt%)の関係を示したものである。
図3を参照すれば、酸素濃度1%の条件下で金属イオン比Pb/(Pb+Bi)を異なるようにして製造した場合のPb含有量を示しているが、ここでは金属イオン比Pb/(Pb+Bi)が0.15近傍(未満)に該当する3つの磁性ガーネット試料のPb含有量が0.1wt%未満となっており、それらの3つの磁性ガーネット試料が実施例1として適当なものであり、それ以外の7つの磁性ガーネット試料がPb含有量0.1wt%超過であることにより比較例であることを示している。
図4は、実施例1に係る各磁性ガーネット試料にあっての金属イオン比Pb/(Pb+Bi)が0.087,0.131のものにおける酸素濃度(%)に対するPb含有量(wt%)の関係を示したものである。
図4を参照すれば、図3中で説明した実施例1に係る金属イオン比Pb/(Pb+Bi)が0.087,0.131の磁性ガーネット試料について、酸素濃度を異なるようにして製造した場合のPb含有量を示しているが、ここでは酸素濃度5%以下でPb含有量が0.1wt%未満となることが判る。
次に、図4中で説明した実施例1に係る金属イオン比Pb/(Pb+Bi)が0.131、酸素濃度1.0%で育成した磁性ガーネット試料について、挿入損を調べた。
挿入損を測定するための試料作成の手順は以下の通りである。先ず1.2mm厚のNGG基板上に係る磁性ガーネット試料を厚さ500μm育成した後、縦11mm×横11mmの寸法として切断してから機械研磨によりNGG基板を除去し、両面研磨機(機械研磨)により厚さが約340μmとなるようにした。このときの表面平均粗さRaは0.05μmとなるように仕上げた。次に、この磁性ガーネット試料をガラス板上に配置し、0.6vol%のHを含んだNガス雰囲気中で保持温度480℃、保持時間10時間とする熱処理条件により熱処理を行った。更に、この磁性ガーネット試料を、光波長1.31μmで飽和ファラデー回転角45度の厚み300μmとなるように、機械化学的研磨により鏡面に仕上げた後、両面に光波長1.31μm用の無反射コート膜を施して仕上げとし、光波長1.31μmにおける挿入損を測定した。
因みに、参考例として、従来の育成条件であるPb/(Pb+Bi)=0.481、酸素濃度13.0%の条件下で育成した同様な組成式で表わされる磁性ガーネット試料についても、熱処理,研磨,及び無反射コート膜を同様に処理して挿入損を測定した。
挿入損(dB)の測定結果からは、実施例1及び参考例の何れの場合においても、0.01dBとなり、実施例1に係る育成条件によっても挿入特性に影響を与えないことが判った。
実施例2は、各種重希土類元素による幾つかの磁性ガーネット試料を製造するものである。
その製造については、純度99.9%の酸化第二鉄Fe,酸化アルミニウムAl,酸化ガリウムGa,酸化鉛Pb0,酸化ビスマスBi,酸化硼素B,純度99.99%の酸化テルビウムTb,酸化ガドリニウムGd,酸化ユーロピウムEu,酸化イッテルビウムYb,及び酸化イットリウムYの混合粉末を使用し、PbO−Bi−B系をフラックスとして、LPE法によりNGG又は置換型GdGa12(以下、SGGGと略記する)のミラー指数単位面(111)基板上に所定の組成で幾つかの種類の磁性ガーネットを育成した。
但し、ここでの融剤のPb,Biは、金属イオン比Pb/(Pb+Bi)を0.131とし、酸素濃度1%として各磁性ガーネット試料を厚さ500〜600μmとなるように育成した。
次に、これらの各磁性ガーネット試料について、実施例1の場合と同様な手順で研磨加工、並びに熱処理を施し、機械研磨により表面平均粗がRa=0.05μmとなるように仕上げたものをガラス板上に配置し、0.6vol%のHを含んだNガス雰囲気中で保持温度480℃、保持時間10時間とする熱処理条件により熱処理を行ってから、光波長1.31μmで飽和ファラデー回転角45度の厚みとなるように、機械化学的研磨により鏡面に仕上げた後、両面に各々光波長用の無反射コート膜を施して仕上げとし、各々光波長における挿入損(dB)を測定すると共に、波長分散型X線分析装置によりPb含有量(wt%)を測定したところ、表1に示すような結果となった。
Figure 2006273594
表1からは、実施例2に係る各組成の磁性ガーネット(磁気光学ガーネット厚膜単結晶)試料については、何れもPb含有量が0.1wt%未満として得られ、しかも挿入損が0.01dBであり、実施例2に係る育成条件によっても挿入特性に影響を与えないことが判った。
本発明の最良の形態に係る磁性ガーネットを説明するためにTb1.9Bi1.1Fe5.012をLPE法により育成したときの酸素濃度に対するPb含有量の関係を示したものである。 本発明の最良の形態に係る磁性ガーネットを説明するために酸素濃度1%として育成した組成式R3−xBi12(但し、Rは希土類元素とし、TはFe,Al,Ga等とする)におけるBi量xに対するPb含有量の関係を示したものである。 実施例1に係る酸素濃度1%の条件下での各磁性ガーネット試料における金属イオン比Pb/(Pb+Bi)に対するPb含有量の関係を示したものである。 実施例1に係る各磁性ガーネット試料にあっての金属イオン比Pb/(Pb+Bi)が0.087,0.131のものにおける酸素濃度に対するPb含有量の関係を示したものである。

Claims (2)

  1. 組成式(R,Bi)(Fe,M)12(但し、Rは重希土類元素及びYのうちから選ばれた1種以上を示し、MはAl,Gaから選ばれた1種以上を示し、且つ含有量として零を含む)で表わされると共に、PbO,Bi,Bを融剤として用いる液相エピタキシャル成長法により得られる磁気光学ガーネット厚膜単結晶において、前記融剤にあってのPb,Biに関する金属イオン比Pb/(Pb+Bi)が0.15未満(但し、零は含まず)であり、且つ酸素濃度5%以下(但し、零は含まず)の条件下でPb含有量が0.1wt%未満として得られたことを特徴とする磁気光学ガーネット厚膜単結晶。
  2. 組成式(R,Bi)(Fe,M)12(但し、Rは重希土類元素及びYのうちから選ばれた1種以上を示し、MはAl,Gaから選ばれた1種以上を示し、且つ含有量として零を含む)で表わされる磁気光学ガーネット厚膜単結晶をPbO,Bi,Bを融剤として用いる液相エピタキシャル成長法により育成する磁気光学ガーネット厚膜単結晶の製造方法において、前記液相エピタキシャル成長法では、前記融剤にあってのPb,Biに関する金属イオン比Pb/(Pb+Bi)を0.15未満(但し、零は含まず)とし、且つ酸素濃度を5%以下(但し、零は含まず)とした条件下で前記磁気光学ガーネット厚膜単結晶におけるPb含有量を0.1wt%未満として育成することを特徴とする磁気光学ガーネット厚膜単結晶の製造方法。
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