JP2007150312A - 半導体発光デバイスおよび半導体発光デバイスの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】窒化物材料系で製造される半導体発光デバイスは、複数の量子井戸層(12・14・16)を含む発光のための活性領域(7)を備え、上記複数の量子井戸層(12・14・16)は、隣接する量子井戸層が、バリア層(13・15)を介して離間するように設けられており、上記各バリア層(13・15)が、上記各量子井戸層(12・14・16)の少なくとも13倍の厚さに形成されている。
【選択図】図3
Description
2 サファイア基板
3 n型ドープGaN層
4 バッファ層
5 第1クラッド層
6 第1光ガイド層
7 活性領域
8 第2光ガイド層
9 第2グラッド層
10 キャップ層
11 最下バリア層(第1バリア層)
12 第1量子井戸層(量子井戸層)
13 第1中間バリア層(バリア層)
14 第2量子井戸層(量子井戸層)
15 第2中間バリア層(バリア層)
16 第3量子井戸層(量子井戸層)
17 最上バリア層(第3バリア層)
18 半導体レーザーデバイス
21 最下層バリア層
22 最上層バリア層
Claims (19)
- 窒化物材料系で製造される半導体発光デバイスであって、
複数の量子井戸層を含む発光のための活性領域を含み、
上記複数の量子井戸層は、隣接する量子井戸層が、バリア層を介して離間するように設けられており、
上記各バリア層が、上記各量子井戸層の少なくとも13倍の厚さに形成されていることを特徴とする半導体発光デバイス。 - 上記窒化物材料系が、(Al,Ga,In)N材料系であり、上記各量子井戸層が、(Al,Ga,In)N層であり、上記各バリア層が(Al,Ga,In)N層であることを特徴とする請求項1に記載の半導体発光デバイス。
- 上記各量子井戸層が、InGaN層であることを特徴とする請求項2に記載の半導体発光デバイス。
- 上記各バリア層が、InGaN層であることを特徴とする請求項2または3に記載の半導体発光デバイス。
- 上記各バリア層が、InGaN層であり、
上記各バリア層のインジウムのモル分率が、上記各量子井戸層のインジウムのモル分率よりも小さいことを特徴とする請求項3に記載の半導体発光デバイス。 - 上記各バリアが、GaN層であることを特徴とする請求項2または3に記載の半導体発光デバイス。
- 上記各バリア層が、上記各量子井戸層の少なくとも30倍の厚さに形成されていることを特徴とする請求項1ないし6の何れかに記載の半導体発光デバイス。
- 上記各量子井戸層が、1nmよりも厚く形成されていることを特徴とする請求項1ないし7の何れかに記載の半導体発光デバイス。
- 上記各量子井戸層が、20nmよりも薄く形成されていることを特徴とする請求項1ないし8の何れかに記載の半導体発光デバイス。
- 上記各バリア層が、13nmよりも厚く形成されていることを特徴とする請求項1ないし9の何れかに記載の半導体発光デバイス。
- 上記各バリア層が、50nmよりも薄く形成されていることを特徴とする請求項1ないし10の何れかに記載の半導体発光デバイス。
- 上記各量子井戸層が、ドープされていることを特徴とする請求項1ないし11の何れかに記載の半導体発光デバイス。
- 上記各バリアが、ドープされていることを特徴とする請求項1ないし12の何れかに記載の半導体発光デバイス。
- 上記半導体発光デバイスが、半導体レーザーデバイスであることを特徴とする請求項1ないし13の何れかに記載の半導体発光デバイス。
- 半導体発光ダイオードを備えたことを特徴とする請求項1ないし14の何れかに記載の半導体発光デバイス。
- 窒化物材料系からなる半導体発光デバイスの製造方法であって、
第1量子井戸層を成長させる工程(a)と、
上記第1量子井戸層上に第1バリア層を成長させる工程(b)と、
上記第1バリア層上に第2量子井戸層を成長させる工程(c)とを含み、
上記第1バリア層が、上記第1量子井戸層および第2量子井戸層の各量子井戸層の少なくとも13倍の厚さに形成されていることを特徴とする半導体発光デバイスの製造方法。 - さらに、上記第2量子井戸層上に第2バリア層を成長させる工程(d)と、
上記第2バリア層上に第2量子井戸層を成長させる工程(e)とを含み、
上記第2バリア層が、上記第1ないし第3量子井戸層の各量子井戸層の少なくとも13倍の厚さに形成されていることを特徴とする請求項16に記載の半導体発光デバイスの製造方法。 - 上記第2量子井戸層を成長させる工程(c)の前に、上記第1バリア層をアニールする工程を含むことを特徴とする請求項16または17に記載の半導体発光デバイスの製造方法。
- 上記第3量子井戸層を成長させる工程(e)の前に、上記第2バリア層をアニールする工程を含むことを特徴とする請求項16または17に記載の半導体発光デバイスの製造方法。
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