JP2007149983A - 窒化物半導体発光素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】SiC基板の光吸収が起こらないようにし、SiC基板の窒化物半導体結晶を積層する側とは反対側のオーミックコンタクトを取りやすくするとともに、Inを含む半導体層の破壊を防止することができる窒化物半導体発光素子の製造を提供する。
【解決手段】不純物がドープされた導電性SiC基板2の裏面に、Ni、Ti、Pd、Fe、Ru、Os、Ge、Sn、V、Ta、Nbから一つの金属を選んで蒸着、もしくはスパッタで金属膜1を形成する。金属膜1が裏面に形成されたSiC基板2を、高温アニ−ルする。高温アニ−ルによりSiC基板2と金属膜1との界面にオーミック接触領域3が形成される。この後、SiC基板2のオーミック接触領域3が形成されている面とは反対側にInを含む窒化物半導体結晶を積層する。
【選択図】 図1
【解決手段】不純物がドープされた導電性SiC基板2の裏面に、Ni、Ti、Pd、Fe、Ru、Os、Ge、Sn、V、Ta、Nbから一つの金属を選んで蒸着、もしくはスパッタで金属膜1を形成する。金属膜1が裏面に形成されたSiC基板2を、高温アニ−ルする。高温アニ−ルによりSiC基板2と金属膜1との界面にオーミック接触領域3が形成される。この後、SiC基板2のオーミック接触領域3が形成されている面とは反対側にInを含む窒化物半導体結晶を積層する。
【選択図】 図1
Description
本発明は、窒化物半導体を使用した発光素子、特にInを含む半導体層を有する窒化物半導体発光素子の製造方法に関する。
窒化物半導体は、照明、バックライト等用の光源として使われる青色LED、多色化で使用されるLED、LD等に用いられている。窒化物半導体を使用した発光ダイオードは、緑域から紫外域に発光波長をもち、ディスプレイ用の光源として期待され、また、窒化物半導体を使用したレーザは、緑域から紫外域に発光波長をもち、特に405nm帯半導体レーザ等の開発が行われている。
窒化物半導体は、バルク単結晶の製造が困難なために、サファイア、SiC等の異種基板の上にMOCVD(有機金属気相成長法)を利用してGaNを成長させることが行われている。サファイア基板は、エピタキシャル成長工程の高温アンモニア雰囲気中の安定性にすぐれているので、成長用基板として特に用いられる。しかしながら、サファイア基板は絶縁性基板であり、導通がとれず、サファイア基板を挟んで電極を設けることができない。
したがって、サファイア基板上の窒化物半導体は、エピタキシャル成長後にn型窒化ガリウム層を露出するまでエッチングし、エッチングされた面にn型コンタクトを形成して、同一面側にp型とn型の二つの電極を設ける構造が一般的である。
上記のように同一面側にp型とn型の二つの電極を設ける構成とすると、n電極に近接したメサ部分に電流が集中しやすいことにより、ESD(静電破壊)電圧を上げることができない。また、活性層に均一に電流注入するのが難しく、活性層を均等に発光させるのが困難となる。さらに、同一面側で、p電極とn電極の両方にワイヤボンディング用電極を必要とするため、いずれか一方のワイヤボンディング用電極を設ければ良い導電性基板上の窒化物半導体よりも有効発光面積を狭めてしまうとともに、チップ(素子)面積が大きくなり、同一のウエハから取れるチップ数が減少する。また、サファイアは硬度が高く、六方晶の結晶構造であるので、サファイアを成長用基板として用いた場合、サファイア基板をスクライブによりチップ分離する必要があり、製造工程が煩雑になり歩留まりが悪い。
そこで、導電性基板を用いて窒化物半導体層を挟んでp型とn型の二つの電極を対向するように設ける構造が提案されている(例えば特許文献1参照)。この導電性基板には、窒化物半導体と格子整合する六方晶系のSiC基板が最も良く用いられる。SiC基板はサファイアに比較するとGaNとの格子定数差が小さく(約3%)、放熱特性も良い。また、基板が導電性であるため、コンタクトが直接取れ、p電極とn電極が向かい合った形の素子が作れ、組立て時にワイヤボンディングがいずれか一方の電極側だけで済み、同一のウエハから取れるチップ数が多くなる等の利点がある。
特開平6−326416号公報
しかし、上記従来技術のように、導電性SiC基板を用いて窒化物半導体発光素子を形成すると以下のような問題がある。通常、導電性SiC基板は、n型の不純物をドープしたSiCが用いられるが、n電極とのオーミックコンタクトを取りやすくするためにn型不純物のドープ量を増加させると、SiC基板に色がつき、可視光を吸収してしまう。窒化物半導体発光素子の発光領域から全方位に放射された光の一部が、SiC基板によって光吸収されるので、光の取出効率低下し、高輝度の発光素子を得ることができない。
一方、光吸収を減少させるために、n型不純物のドープ量を下げると、n電極との接触抵抗が大きくなるとともにSiC基板の比抵抗も上昇して、駆動電圧が上昇する。また、SiC基板のキャリア濃度が小さいので、発光領域へのキャリア注入効率が低下して発光量が低下する。これらの問題を解決するためには、n電極との接触抵抗を低減しなければならないが、オーミックコンタクトを取るためには、高温アニール処理を行う必要がある。窒化物半導体発光素子中のInを含む半導体層の成長は、800℃程度までの低温度で行われるが、上記アニ−ル処理は、1000℃以上の高温で行われるので、Inを含む半導体層では、高温によりInが昇華して半導体層が破壊される可能性がある。
本発明は、上述した課題を解決するために創案されたものであり、SiC基板の光吸収が起こらないようにし、SiC基板の窒化物半導体結晶を積層する側とは反対側のオーミックコンタクトを取りやすくするとともに、Inを含む半導体層の破壊を防止することができる窒化物半導体発光素子の製造方法を提供することを目的としている。
上記目的を達成するために、請求項1記載の発明は、導電性SiC基板上にInを含む窒化物半導体結晶を積層した窒化物半導体発光素子の製造方法において、前記窒化物半導体結晶を積層する側とは反対側の導電性SiC基板上にNi、Ti、Pd、Fe、Ru、Os、Ge、Sn、V、Ta、Nbのいずれかの金属を用いた金属膜を成膜してアニ−ル処理によりオーミック接触を形成した後、前記導電性SiC基板上にInを含む窒化物半導体結晶を積層することを特徴とする窒化物半導体発光素子の製造方法である。
また、請求項2記載の発明は、前記導電性SiC基板上にInを含む窒化物半導体結晶を積層する前に、オーミック接触を形成するために用いた前記金属膜を除去することを特徴とする請求項1記載の窒化物半導体発光素子の製造方法である。
また、請求項3記載の発明は、前記導電性SiC基板のオーミック接触を形成した側には、前記窒化物半導体結晶が積層された後に金属電極が形成されることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の窒化物半導体発光素子の製造方法である。
本発明によれば、窒化物半導体結晶を積層する側とは反対側の導電性SiC基板上にNi、Ti、Pd、Fe、Ru、Os、Ge、Sn、V、Ta、Nbのいずれかの金属を用いた金属膜を成膜してアニ−ル処理によりオーミック接触を形成した後に、窒化物半導体結晶を積層するようにしているので、SiC基板と電極や外部端子や他の半導体層とのオーミックコンタクトを取りやすくするとともに、Inを含む半導体層の破壊を防止することができる。
また、オーミック接触を形成するためのアニ−ル処理が行えるので、導電性SiC基板の不純物濃度を高くして接触抵抗を減少させる必要がなく、可視光吸収が起こらないようにすることができる。
以下、図面を参照して本発明の一実施形態を説明する。図1〜図4は本発明の窒化物半導体発光素子の製造方法を示す。
まず、導電性SiC基板として、例えばn型不純物の窒素をドープしたn型SiC基板を用意する。この導電性SiC基板2には、不純物が1018cm−3以下、例えば1017cm−3台でドーピングされており、導電性SiC基板2が可視光を吸収しないように構成されている。
SiC基板2の裏面に、図1に示すように、Ni、Ti、Pd、Fe、Ru、Os、Ge、Sn、V、Ta、Nbから一つの金属を選んで蒸着、もしくはスパッタで金属膜1を形成する。金属膜1の厚みは10nm〜1μm望ましくは10nm〜100nmで形成する。
金属膜1が裏面に形成されたSiC基板2を、窒素雰囲気中1000℃〜1400℃で加熱する。このようにすることにより、SiC基板2中のSiとCとの結合が分断され、SiC基板2と金属膜1との界面にSiと金属膜1で使用された金属との化合物シリサイドができ、オーミック接触領域3が形成される。ところで、オーミック接触領域3を形成する場合に、金属膜1には、上記Ni、Ti、Pd、Fe、Ru、Os、Ge、Sn、V、Ta、Nbのうち一つの金属を用いているが、これらの金属は仕事関数が小さく、化合物を形成しやすい特徴を持っている。また、上記金属のうち、Ni、Ti、Pdが蒸着法での取り扱いが簡単なのでより望ましい。
次に、図2(b)に示すように、金属膜1をエッチングにより除去する。また、図2(a)に示すように、金属膜1を残しておくようにしても良い。その後、MOCVD法により窒化物半導体結晶4を形成する。図3(a)に示されるように、図2(a)からの続きで金属膜1を残した状態で、発光領域を含む窒化物半導体結晶4を積層しても良いが、金属膜1の純度が良くなかったり、蒸気圧が高い場合は、後に形成する電極の表面荒れを引き起こしたり、金属膜1の金属を基板内部に深く拡散させたりするので、図2(b)に示すようにエッチングにより取り除いた後、図3(b)のように窒化物半導体結晶4を成長させるのが望ましい。
窒化物半導体結晶4をエピタキシャル成長させた後、再度、Ni、Ti、Pd、Fe、Ru、Os、Ge、Sn、V、Ta、Nbから一つ又は複数の金属を選んで蒸着、もしくはスパッタによりn電極6を成膜すると、高温アニール無しでコンタクトが取れる。そして、p電極5を形成すると、図4に示す窒化物半導体発光素子が完成する。
窒化物半導体発光素子を構成するInGaN半導体層やInN半導体層等のようにIn(インジウム)を含む半導体層の場合、高温になるとInを含む半導体層中のInが昇華して半導体層が壊れやすくなるので、900℃以下で成長させる必要がある。しかし、SiC基板と電極とのオーミック接触領域を形成するには、高温アニールによる熱アロイを行わなければならず、この高温アニールには通常1000℃〜1400℃を必要とするため、In含む半導体層が壊れてしまう危険がある。本発明では先にオーミック接触領域3を形成した後に、窒化物半導体結晶4を成長させるようにしているので、Inを含む半導体層が破壊されることを防止できる。
図4に示された窒化物半導体発光素子の一例として半導体レーザの構造を図5に示す。
まず、図1に示す方法で、導電性のn型SiC基板2にオーミック接触領域3を形成し、その後、MOCVD法で、SiドープのAlGaNからなるn型バッファ層43、SiドープのAlGaNからなるn型クラッド層44、SiドープのGaNからなるn型光ガイド層45、InGaN井戸層とGaN又はInGaNバリア層とを交互に積層した多重量子井戸構造で構成されたMQW活性層46、MgドープのGaNからなるp型光ガイド層47、MgドープのAlGaNからなるp型クラッド層48、MgドープのGaNからなるp型コンタクト層49を順に形成する。最後にp電極5、n電極6を蒸着又はスパッタにより形成する。ここで、n型バッファ層43〜p型コンタクト層49までが、図4に示す窒化物半導体結晶4に相当する。
また、n電極6については、上記Ni、Ti、Pd、Fe、Ru、Os、Ge、Sn、V、Ta、Nbから一つ又は複数の金属を選んで形成するが、例えば、オーミック接触領域3側から順に、Ni/Auの多層金属膜や、Ti/Auの多層金属膜等が用いられる。
なお、オーミック接触領域3上にn電極6を形成せずに、外部接続端子や、他の半導体層をさらに形成するようにしても良く、この場合でも接触抵抗は小さいものとなり、オーミックコンタクトを取ることができる。
AlGaNで構成されたn型バッファ層43、AlGaNで構成されたクラッド層44、48、GaNで構成された光ガイド層45、47やコンタクト層49及びMQW活性層46中のバリア層等は、温度が1100℃程度まで昇温して成長させるが、MQW活性層46中のInGaN井戸層については、700℃〜800℃の低温で成長させる。
上述したように、先にオーミック接触領域3を形成した後に、InGaN半導体層を含む窒化物半導体結晶を積層するようにしているので、窒化物半導体結晶を形成した後にSiC基板2とn電極6との熱アロイの作業の必要がなく、InGaN半導体層の破壊を防止することができる。
図6は、図4に示された窒化物半導体発光素子の一例としてLEDの構造を示したものである。まず、図1に示す方法で、導電性のn型SiC基板2にオーミック接触領域3を形成し、その後、MOCVD法で、n型窒化物半導体22、活性層23、p型窒化物半導体24を順に形成する。ここで、n型窒化物半導体22、活性層23、p型窒化物半導体24が、図4に示す窒化物半導体結晶4に相当する。
n型窒化物半導体層22は、例えば、n型不純物SiドープのGaNコンタクト層とn型不純物SiドープのInGaN/GaN超格子層とで構成される。発光領域としての活性層23は、一例として、InGaN井戸層とGaN又はInGaNバリア層を交互に積層した多重量子井戸構造が用いられる。p型窒化物半導体層24は、例えば、p型不純物MgドープのAlGaN電子バリア層とp型不純物MgドープのGaNコンタクト層との積層により構成される。最後にp電極25、n電極26を蒸着又はスパッタにより形成する。
n電極6については、図5の構成と同様に、Ni、Ti、Pd、Fe、Ru、Os、Ge、Sn、V、Ta、Nbから一つ又は複数の金属を選んで形成するが、例えば、オーミック接触領域3側から順に、Ni/Auの多層金属膜や、Ti/Auの多層金属膜等が用いられる。
n型窒化物半導体22と活性層23とp型窒化物半導体24におけるGaN層やAlGaN層は、1100℃程度の温度まで昇温して成長させるが、MQW活性層46中のInGaN井戸層やSiドープのInGaN/GaN超格子層のInGaN層については、700℃〜800℃の低温で成長させる。
上述したように、先にオーミック接触領域3を形成した後に、InGaN半導体層を含む窒化物半導体結晶を積層するようにしているので、窒化物半導体結晶を形成した後にSiC基板2とn電極26との熱アロイの作業の必要がなく、InGaN半導体層の破壊を防止することができる。また、導電性SiC基板2には、n型の不純物が可視光を吸収しない濃度でドーピングされているので、活性層23から放射された光は、SiC基板2で吸収されることなく、外部に取り出すことができ、オーミック接触領域3の形成により発光量の低下を防止することができる。
1 金属膜
2 SiC基板
3 オーミック接触領域
4 窒化物半導体結晶
5 p電極
6 n電極
2 SiC基板
3 オーミック接触領域
4 窒化物半導体結晶
5 p電極
6 n電極
Claims (3)
- 導電性SiC基板上にInを含む窒化物半導体結晶を積層した窒化物半導体発光素子の製造方法において、前記窒化物半導体結晶を積層する側とは反対側の導電性SiC基板上にNi、Ti、Pd、Fe、Ru、Os、Ge、Sn、V、Ta、Nbのいずれかの金属を用いた金属膜を成膜してアニ−ル処理によりオーミック接触を形成した後、前記導電性SiC基板上にInを含む窒化物半導体結晶を積層することを特徴とする窒化物半導体発光素子の製造方法。
- 前記導電性SiC基板上にInを含む窒化物半導体結晶を積層する前に、オーミック接触を形成するために用いた前記金属膜を除去することを特徴とする請求項1記載の窒化物半導体発光素子の製造方法。
- 前記導電性SiC基板のオーミック接触を形成した側には、前記窒化物半導体結晶が積層された後に金属電極が形成されることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の窒化物半導体発光素子の製造方法。
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102931224A (zh) * | 2012-08-21 | 2013-02-13 | 中国科学院微电子研究所 | 用于P-SiC欧姆接触的界面过渡层复合结构及其制备方法 |
JP2013058636A (ja) * | 2011-09-08 | 2013-03-28 | Tamura Seisakusho Co Ltd | β−Ga2O3系基板、LED素子、及びLED素子の製造方法 |
US20160218017A1 (en) * | 2015-01-23 | 2016-07-28 | Mitsubishi Electric Corporation | Substrate for semiconductor device and method of manufacturing the same |
CN107123593A (zh) * | 2017-04-11 | 2017-09-01 | 山东大学 | 一种掺锗碳化硅欧姆接触形成方法 |
JP2020161754A (ja) * | 2019-03-28 | 2020-10-01 | 京セラ株式会社 | 配線基板、電子装置及び電子モジュール |
WO2021186031A1 (de) * | 2020-03-20 | 2021-09-23 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren zur erzeugung eines ohmschen kontakts auf einer kristallographischen c-seite eines siliziumkarbidsubstrats und ohmscher kontakt |
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2005
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Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013058636A (ja) * | 2011-09-08 | 2013-03-28 | Tamura Seisakusho Co Ltd | β−Ga2O3系基板、LED素子、及びLED素子の製造方法 |
CN102931224A (zh) * | 2012-08-21 | 2013-02-13 | 中国科学院微电子研究所 | 用于P-SiC欧姆接触的界面过渡层复合结构及其制备方法 |
US20160218017A1 (en) * | 2015-01-23 | 2016-07-28 | Mitsubishi Electric Corporation | Substrate for semiconductor device and method of manufacturing the same |
US9966264B2 (en) * | 2015-01-23 | 2018-05-08 | Mitsubishi Electric Corporation | Substrate for semiconductor device and method of manufacturing the same |
US10249500B2 (en) | 2015-01-23 | 2019-04-02 | Mitsubishi Electric Corporation | Method for manufacturing substrate for semiconductor device |
CN107123593A (zh) * | 2017-04-11 | 2017-09-01 | 山东大学 | 一种掺锗碳化硅欧姆接触形成方法 |
JP2020161754A (ja) * | 2019-03-28 | 2020-10-01 | 京セラ株式会社 | 配線基板、電子装置及び電子モジュール |
JP7237687B2 (ja) | 2019-03-28 | 2023-03-13 | 京セラ株式会社 | 配線基板、電子装置及び電子モジュール |
WO2021186031A1 (de) * | 2020-03-20 | 2021-09-23 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren zur erzeugung eines ohmschen kontakts auf einer kristallographischen c-seite eines siliziumkarbidsubstrats und ohmscher kontakt |
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