JP2007122812A - 薄膜磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ウェハ600上にヘッド素子を形成し、ウェハを一列ずつ切断して複数のヘッド素子が連結した状態のローバー25にし、ローバー25の浮上面2となる面をMR素子高さ21が所定の高さになるまで研磨し、この浮上面研磨の後、浮上面2を所定の形状に高精度に仕上げるとともに表面粗さを所定の値に仕上げる最終浮上面研磨工程において、導電性研磨液39を使用する。再生素子5のピンド層13のピンニング強度の劣化を抑制してピンニング不良発生率を抑制するためには、導電性研磨液39の比抵抗を5GΩ・cm以下に制御する。好ましくは1GΩ・cm以下である。この後、浮上面2に浅溝レール3、深溝レール11を形成し、ローバー25を切断して薄膜磁気ヘッド1が完成する。
【選択図】図1
Description
図7は、実施例1による薄膜磁気ヘッドの製造方法を示す工程図である。同図の素子形成工程701では、アルチック材(Al2O3-TiC)等からなるセラミックのウェハ600上にスパッタ等の薄膜成膜技術とリソグラフィの工程を用いて、図2(b)に示す層構成の保護膜6、下部シールド膜7、GMR素子5、上部シールド膜8、下部磁性膜9、上部磁性膜10等を積層する。その後、基板切断工程702において、研削砥石やワイヤソ−等の切断技術によって、ウェハ600を一列ずつ切り出し、複数のヘッド素子が連結した状態のローバー25と称すブロックにする。本実施例では、ローバー25は、45個のヘッド素子が連結したものであり、長さは約2インチで、厚さ約0.3mmである。
実施例2による薄膜磁気ヘッドの製造方法の基本工程は、上記図7に示した実施例1の工程と同じである。本実施例2における研磨加工中のESD対策は、図7に示す最終浮上面研磨工程704に適用される対策である。前述したように、最終浮上面研磨工程704は、ローバー25のヘッド素子の浮上面2となる部分の最終仕上げ研磨を行う工程である。この最終浮上面研磨工程704は、ローバー25の各ヘッド素子の浮上面2を所定の形状に高精度に仕上げるとともに、浮上面2の表面粗さを所定の値に仕上げる工程である。具体的には、まず、ローバー25を弾性体を介して最終研磨工程用の研磨治具20に貼り付け、表面が所定の形状(平面あるいは球面あるいは円筒)の研磨定盤23に所定の力で押しつける。その後、研磨定盤23を回転させると同時に、研磨治具20を定盤の半径方向に揺動させ、所定の加工量(例えば50nm)を除去する。研磨定盤23には、固定砥粒定盤と称する1/2μm〜1/20μmの微細なダイヤモンドが埋め込まれた錫合金製の定盤を用いた。研磨加工中は、ダイヤモンドを含まない油性でかつ絶縁性の研磨液19を研磨定盤23上に滴下させながら、研磨定盤23を例えば10r/minで回転させ、研磨治具20は50mm/sで揺動させる。
上記実施例2の最終浮上面研磨工程において、更に、実施例1で述べた導電性研磨液39を併用することにより、ピンド層のピンニング強度の劣化を更に低減可能となり、より信頼性の高い薄膜磁気ヘッドが製造可能となる。
Claims (23)
- ウェハ上に再生素子を含むヘッド素子を複数個形成する工程と、
前記ウェハを切断してローバーにする工程と、
前記ローバーの前記ヘッド素子の浮上面となる面を研磨し、前記再生素子の素子高さを所定の寸法にする第1の浮上面研磨工程と、
前記研磨された浮上面となる面を所定の形状の浮上面に仕上げるために、比抵抗が5GΩ・cm以下の導電性研磨液を用いて研磨する第2の浮上面研磨工程と、
前記所定の形状に仕上げられた浮上面にレールを形成する工程と、
を含むことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。 - 前記導電性研磨液の比抵抗が1GΩ・cm以下であることを特徴とする請求項1記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
- 前記導電性研磨液の主成分は、非極性な炭化水素系の基油に、主鎖として炭化水素系の非極性基をもち、かつイオン基として解離できる官能基をもつ導電性物質であることを特徴とする請求項1記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
- 前記導電性物質は、陰イオン界面活性剤であることを特徴とする請求項3記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
- 前記陰イオン界面活性剤は、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウムまたは脂肪酸のナトリウム塩であることを特徴とする請求項4記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
- 前記導電性物質は、陽イオン界面活性剤であることを特徴とする請求項3記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
- 前記陽イオン界面活性剤は、有機オニウム塩であることを特徴とする請求項6記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
- 前記導電性研磨液は、極性を有する溶剤の基油に、陰イオン界面活性剤を付加したものであることを特徴とする請求項1記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
- 前記導電性研磨液は、極性を有する溶剤の基油に、陽イオン界面活性剤を付加したものであることを特徴とする請求項1記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
- 前記導電性研磨液は、さらに防食剤を含むことを特徴とする請求項3記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
- 前記防食剤はベンゾトリアゾールであることを特徴とする請求項10記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
- 前記第1の浮上面研磨工程において、比抵抗が5GΩ・cm以下の導電性研磨液を用いることを特徴とする請求項1記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
- ウェハ上に再生素子を含むヘッド素子を複数個形成する工程と、
前記ウェハを切断してローバーにする工程と、
前記ローバーの前記ヘッド素子の浮上面となる面を研磨し、前記再生素子の素子高さを所定の寸法にする第1の浮上面研磨工程と、
前記研磨後のローバーを個々のスライダに切断する工程と、
前記スライダを複数個保持し、前記第1の浮上面研磨工程において研磨された浮上面となる面を所定の形状の浮上面に仕上げるために、比抵抗が5GΩ・cm以下の導電性研磨液を用いて研磨する第2の浮上面研磨工程と、
前記所定の形状に仕上げられた浮上面にレールを形成する工程と、
を含むことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。 - 前記導電性研磨液の比抵抗が1GΩ・cm以下であることを特徴とする請求項13記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
- 前記第1の浮上面研磨工程において、比抵抗が5GΩ・cm以下の導電性研磨液を用いることを特徴とする請求項13記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
- ウェハ上に再生素子を含むヘッド素子を複数個形成する工程と、
前記ウェハを切断してローバーにする工程と、
前記ローバーの前記ヘッド素子の浮上面となる面を研磨し、前記再生素子の素子高さを所定の寸法にする第1の浮上面研磨工程と、
前記再生素子の端子と接続される配線パターン間に、前記浮上面となる面の研磨中に発生する摩擦帯電の放電をパスするバンドパスフィルタを接続した前記再生素子の抵抗を測定する抵抗測定部により、前記再生素子の抵抗を測定しながら前記研磨された浮上面となる面を所定の形状の浮上面に仕上げるために研磨する第2の浮上面研磨工程と、
前記所定の形状に仕上げられた浮上面にレールを形成する工程と、
を含むことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。 - 前記バンドパスフィルタの容量は、あらかじめ測定した放電現象の周波数に基づいて設定することを特徴とする請求項16記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
- 前記第2の浮上面研磨工程において、比抵抗が5GΩ・cm以下の導電性研磨液を用いることを特徴とする請求項16記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
- 前記第1の浮上面研磨工程において、比抵抗が5GΩ・cm以下の導電性研磨液を用いることを特徴とする請求項18記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
- ウェハ上に再生素子を含むヘッド素子を複数個形成する工程と、
前記ウェハを切断してローバーにする工程と、
前記ローバーの前記ヘッド素子の浮上面となる面を研磨し、前記再生素子の素子高さを所定の寸法にする第1の浮上面研磨工程と、
前記研磨後のローバーを個々のスライダに切断する工程と、
前記スライダを複数個保持し、前記再生素子の端子と接続される配線パターン間に、前記浮上面となる面の研磨中に発生する摩擦帯電の放電をパスするバンドパスフィルタを接続した前記再生素子の抵抗を測定する抵抗測定部により、前記再生素子の抵抗を測定しながら前記研磨された浮上面となる面を所定の形状の浮上面に仕上げるために研磨する第2の浮上面研磨工程と、
前記所定の形状に仕上げられた浮上面にレールを形成する工程と、
を含むことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。 - 前記バンドパスフィルタの容量は、あらかじめ測定した放電現象の周波数に基づいて設定することを特徴とする請求項20記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
- 前記第2の浮上面研磨工程において、比抵抗が5GΩ・cm以下の導電性研磨液を用いることを特徴とする請求項20記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
- 前記第1の浮上面研磨工程において、比抵抗が5GΩ・cm以下の導電性研磨液を用いることを特徴とする請求項22記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
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