JPH09180146A - 磁気ヘッドスライダ及びその製法と製造装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 この発明は研磨加工の終点を高精度に設定す
ることができる時期ヘッドスライダを提供することを目
的とする。 【解決手段】 薄膜磁気ヘッド２０および気体膜を介し
て浮上する浮上面１２を有し、この浮上面を加工して所
定深さの磁気ギャップが形成される磁気ヘッドスライダ
において、上記薄膜磁気ヘッドが形成された面には、上
記磁気ギャップの深さに応じて電気抵抗値が変化する抵
抗体４５が設けられることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、浮上面を加工し
て磁気ギャップを設定する際、その磁気ギャップを精度
よく設定することができる磁気ヘッドスライダおよびそ
の製法と製造装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】ハードディスク装置には、ディスクに対
して書込み・読出しを行う磁気ヘッドが組み込まれてい
る。この磁気ヘッドは、ディスクの記録面に対して所定
の距離をとる必要がある。このため、磁気ヘッドはディ
スクの回転に伴って気体膜を介して浮き上がる磁気ヘッ
ドスライダに取り付けられている。

【０００３】図１０、図１１はこのような磁気ヘッドス
ライダを示している。すなわち、図１０中１０は磁気ヘ
ッドスライダを示しており、この磁気ヘッドスライダ１
０は、矩形状に形成されたスライダ本体１１と、このス
ライダ本体１１のディスクと対向する側に設けられた浮
上面１２と、この浮上面１２と直交する端面に設けられ
た薄膜磁気ヘッド２０と、磁気ヘッドアーム（不図示）
に取り付けられる取付面１３とを備えている。なお、浮
上面１２にはヘッド面としてのフラット部１２ａとテー
パ部１２ｂとが設けられている。テーパ部１２ｂはディ
スクの回転に伴い、気流を受けて図中矢印Ｆ方向へスラ
イダ本体１１を浮上させ、磁気ヘッド２０とディスクの
記録面（不図示）とを一定距離に保持する機能を有して
いる。

【０００４】磁気ヘッド２０は図１０に示すようにコイ
ル等から形成された磁気ヘッド本体２１と、この磁気ヘ
ッド本体２１の図中上側に設けられた磁極２２を備えて
いる。なお、磁気ヘッド２０の性能はハードディスク装
置作動時のディスクの記録面と磁気ヘッド本体２１まで
の距離で決まるため、所定の性能を得るためには例えば
図１１中二点鎖線Ｐで示す位置（以下、「基準位置」と
称する。）までフラット部１２ａを研磨する必要があ
る。なお、フラット部１２ａから磁気ヘッド本体２１ま
での距離δをデプス（磁気ギャップ深さ）と称してい
る。

【０００５】一方、フラット部１２ａの研磨は通常、ラ
ップ盤等を用いて研磨材による研磨により行われてい
る。従来、上記フラット部１２ａの研磨に際しては、上
記磁気ヘッドスライダ１０をラップ盤の上面に対向して
配設された保持治具の下面に保持し、上記磁気ヘッドス
ライダのフラット部１２ａを上記ラップ盤に所定の圧力
で所定時間接触させて研磨することで、所定距離の磁気
ギャップを得るようにしていた。

【０００６】しかしながら、上記磁気ヘッドスライダ１
０のフラット部１２ａを単に所定量研磨したのでは、上
記磁気ギャップが一定距離にならないということがあっ
た。つまり、磁気ヘッドスライダ１０の製造工程は、所
定材質の基板に保護膜を形成し、その保護膜にたくさん
の薄膜磁気ヘッドを行列状に成膜する。ついで、上記基
板をブレ−ドによって所定方向にスライスし、そのスラ
イスバ−を所定の長さに分断して上記磁気ヘッドスライ
ダ１０を得るようにしている。

【０００７】このような工程を経て得られる磁気ヘッド
スライダ１０は、基板からスライダバ−を切断加工する
際に、ブレ−ドの経時磨耗などによって切断幅に誤差が
生じてくる。そのため、スライダバ−から分割された磁
気ヘッドスライダ１０の高さ寸法にはばらつきがあるか
ら、その磁気ヘッドスライダ１０を単に所定量、研磨加
工したのでは所定距離の磁気ギャップが得られないとい
うことがあった。

【０００８】また、生産性の向上を計るために、上記保
持治具には複数の磁気ヘッドスライダ１０を保持し、こ
れらを一度に研磨加工するということが行われる。しか
しながら、上述したごとくそれぞれの磁気ヘッドスライ
ダ１０の高さ寸法が異なると、高さ寸法の高い磁気ヘッ
ドスライダ１０がラップ盤に強く当たり過ぎ、その磁気
ヘッドスライダ１０によってラップ盤がかじられるとい
うことがある。つまり、ラップ盤を損傷させてしまうこ
とになる。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】このように、所定距離
の磁気ギャップを得るために、磁気ヘッドスライダの浮
上面を単に所定量、研磨加工したのでは、上記磁気ヘッ
ドスライダの高さ寸法にばらつきがあるために、磁気ギ
ャップ深さが一定にならないということがあった。

【００１０】また、高さ寸法の異なる複数の磁気ヘッド
スライダを保持治具に保持して一度に研磨加工すると、
高さ寸法の高い磁気ヘッドスライダによってラップ盤が
かじられてしまうということがあった。

【００１１】この発明の目的は、磁気ヘッドスライダの
高さ寸法にばらつきがあっても、磁気ギャップヘッドが
一定になるよう加工することができる磁気ヘッドスライ
ドおよびその製法を提供することにある。

【００１２】この発明の目的は、複数の磁気ヘッドスラ
イダを一度に研磨加工する際、磁気ヘッドスライダの高
さ寸法にばらつきがあっても、高さの高い磁気ヘッドス
ライダがラップ盤をかじって損傷させることがない磁気
ヘッドスライダの製造装置を提供することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、薄膜
磁気ヘッドおよび気体膜を介して浮上する浮上面を有
し、この浮上面を加工して所定深さの磁気ギャップが形
成される磁気ヘッドスライダにおいて、上記薄膜磁気ヘ
ッドが形成された面には、上記磁気ギャップの深さに応
じて電気抵抗値が変化する抵抗体が設けられることを特
徴とする磁気ヘッドスライダ。

【００１４】請求項２の発明は、請求項１の発明におい
て、上記抵抗体は、上記磁気ギャップの深さ方向に連続
する長さの連続抵抗膜からなることを特徴とする。請求
項３の発明は、請求項１の発明において、上記抵抗体
は、上記磁気ギャップの深さ方向に沿って所定間隔で間
欠的に設けられた複数の部分抵抗膜からなることを特徴
とする。

【００１５】請求項４の発明は、請求項１の発明におい
て、上記抵抗体は、上記磁気ギャップの深さ方向に連続
する長さの連続抵抗膜と、上記磁気ギャップの深さ方向
に沿って所定間隔で間欠的に設けられた複数の部分抵抗
膜からなることを特徴とする。

【００１６】請求項５の発明は、薄膜磁気ヘッドおよび
気体膜を介して浮上する浮上面を有し、この浮上面を加
工して所定深さの磁気ギャップを備えた磁気ヘッドスラ
イダの製法において、上記薄膜磁気ヘッドが形成された
面に上記磁気ギャップの深さに応じて電気抵抗値が変化
する抵抗体を設け、この抵抗体の抵抗値の変化を測定し
ながら上記浮上面を加工することを特徴とする。

【００１７】請求項６の発明は、請求項５の発明におい
て、上記抵抗体は、上記磁気ギャップの深さ方向に連続
する長さの連続抵抗膜と、上記磁気ギャップの深さ方向
に沿って所定間隔で間欠的に設けられた複数の部分抵抗
膜からなり、この部分抵抗膜の抵抗値の変化によって上
記連続抵抗膜の抵抗値の温度補正を行うことを特徴とす
る。

【００１８】請求項７の発明は、薄膜磁気ヘッドおよび
気体膜を介して浮上する浮上面を有し、この浮上面を加
工して所定深さの磁気ギャップが形成される磁気ヘッド
スライダを製造する装置において、上記磁気ヘッドスラ
イダを変位素子を介して変位調節自在に保持した保持治
具と、この保持治具に対向して配置され上記磁気ヘッド
スライダの浮上面を研磨するラップ盤とを具備したこと
を特徴とする。

【００１９】請求項８の発明は、請求項７の発明におい
て、上記磁気ヘッドスライダの薄膜磁気ヘッドが形成さ
れた面には、上記磁気ギャップの深さに応じて電気抵抗
値が変化する抵抗体が設けられることを特徴とする。

【００２０】請求項９の発明は、請求項８の発明におい
て、上記抵抗体は、上記磁気ギャップの深さ方向に連続
する長さの連続抵抗膜と、上記磁気ギャップの深さ方向
に沿って所定間隔で間欠的に設けられた複数の部分抵抗
膜とからなり、上記連続抵抗膜と上記部分抵抗膜との抵
抗値をそれぞれ測定する測定手段と、この測定手段によ
って測定される部分抵抗膜の抵抗値が所定時間変化しな
くなるときの研磨量から上記連続抵抗膜の所定温度にお
ける抵抗値を求め、その所定温度における抵抗値と実際
に測定される測定値とを比較して上記連続抵抗膜の抵抗
値の温度誤差を補正する制御手段とを具備したことを特
徴とする。

【００２１】請求項１乃至請求項３の発明によれば、抵
抗体の抵抗値の変化を測定しながら浮上面を加工するこ
とで、その加工量、つまり磁気ギャップ深さを一定にで
きる磁気ヘッドスライダを提供できる。

【００２２】請求項４の発明によれば、請求項１の発明
において、連続抵抗膜と、複数の部分抵抗膜とを設けた
ことで、部分抵抗膜の抵抗値の変化に応じて連続抵抗膜
の温度補正を行い、加工精度を高めることができる。

【００２３】請求項５の発明によれば、磁気ヘッドスラ
イダに設けられた抵抗体の抵抗値を測定しながら浮上面
を加工することで、磁気ギャップ深さを一定にできる磁
気ヘッドスライダの製法を提供できる。

【００２４】請求項６の発明によれば、浮上面を加工す
る際に、その加工量に応じて変化する抵抗値を測定し、
温度変化による抵抗値の変化を補正しながら加工するこ
とで、加工精度を向上させることができる。

【００２５】請求項７の発明によれば、保持治具に保持
される磁気ヘッドスライダの高さ寸法にばらつきがあっ
ても、それぞれの高さを調節できることで、ラップ盤を
かじることなく複数の磁気ヘッドスライダを一度に加工
することができる。

【００２６】請求項８の発明によれば、請求項７の発明
において、磁気ギャップ深さに応じて変化する抵抗体の
抵抗値を測定しながら浮上面を加工することで、上記浮
上面の加工を精度よく行うことができる。

【００２７】請求項９の発明によれば、抵抗体の抵抗値
が温度によって変化しても、その温度変化による抵抗値
の誤差を補正して磁気ヘッドスライダの研磨量を設定で
きる。

【００２８】

【発明の実施形態】以下、この発明の実施形態を図面を
参照して説明する。図１乃至図５はこの発明の第１の実
施形態で、図２は磁気ヘッドスライダ１０の製造装置３
０を示している。この製造装置３０は円盤状のラップ盤
３１を備えている。このラップ盤３１の下面中心部には
下部駆動軸３２が設けられ、この下部駆動軸３２は駆動
ベルト３３ａを介して下部駆動源３３によって回転駆動
されるようになっている。

【００２９】上記ラップ盤３１の上面には錫などの金属
や他の材料からなる研磨材３４が設けられているととも
に、この上面にはノズル体３５によって研磨液Ｌが供給
されるようになっている。

【００３０】上記ラップ盤３１の上面には保持治具３６
が対向して配設されている。この保持治具３６の上面に
は上部駆動軸３７が設けられている。この上部駆動軸３
７は駆動ベルト３８を介して上部駆動源３９によって回
転駆動されるようになっている。なお、上記ラップ盤３
１あるいは保持治具３６の少なくともどちらか一方は図
示しないＺ駆動源によって上下方向に変位駆動させるこ
とができるようになっている。

【００３１】上記保持治具３６の下面には複数、この実
施例では３つのホルダ４１がほぼ同一間隔でねじまたは
ボルトなどによって保持される。このホルダ４１は、図
３（ａ）、（ｂ）に示すように直方体状をなし、下面側
にはその下面および両側面に開放した複数の保持溝４２
が隔壁４３ａを介して形成されている。各保持溝４２に
は所定厚さの変位素子、この実施形態では圧電素子４３
が一側面を接合させて設けられている。この圧電素子４
３の他側面には受部材４４の一側面が接合され、この他
側面には磁気ヘッドスライダ１０が浮上面１２を下側に
して接合されている。この磁気ヘッドスライダ１０は上
記保持溝４２から突出して設けられている。

【００３２】図１に示すように、上記磁気ヘッドスライ
ダ１０の上記浮上面１２とほぼ直交する端面には薄膜磁
気ヘッド２０およびこの磁気ヘッド２０と電気的に接続
された電極パッド２１とが形成されている。さらに、複
数の磁気ヘッドスライダ１０のうちの少なくとも１つ
の、上記電極パッド２１が形成された端面には、上記磁
気ヘッド２０を形成するときに、同時に抵抗体４５が形
成されている。

【００３３】上記抵抗体４５は、図４に示すように上記
磁気ヘッドスライダ１０の高さ方向に沿って所定長さで
連続して形成された帯状の連続抵抗膜４６と、上記磁気
ヘッドスライダ１０の厚さ方向に所定間隔で間欠的に形
成された複数、この実施形態では浮上面１２側から第１
乃至第３の部分抵抗膜４７ａ〜４７ｃが順次設けられて
いる。

【００３４】上記連続抵抗膜４６にはこの抵抗値を測定
するための一対の第１のリ−ド線４８が一体的に形成さ
れ、上記部分抵抗膜４７ａ〜４７ｃは導通パタ−ン４９
によって電気的に一体化され、その導通パタ−ン４９に
はこれら部分抵抗膜４７ａ〜４７ｃ全体の抵抗値を測定
するための第２のリ−ド線５１が一体的に形成されてい
る。

【００３５】これらの抵抗膜４６、４７ａ〜４７ｃは上
記浮上面１２を研磨加工することで同時に研磨される。
連続抵抗膜４６がその下端側から研磨加工されて長さ寸
法が短くなることで、一対の第１のリ−ド線４８間で測
定される抵抗値が連続的に増大する。このときの抵抗値
の変化を図５に曲線Ａで示す。

【００３６】部分抵抗膜４７ａ〜４７ｃは、１つの部分
抵抗膜が研磨されている間は抵抗値が連続的に増大する
が、その１つの部分抵抗膜が除去されて次の部分抵抗膜
が研磨されるまでは抵抗値が一定に維持される。このと
きの抵抗値の変化を図５に曲線Ｂで示す。

【００３７】連続抵抗膜４６の下端は第１の部分抵抗膜
４７ａの下端に一致する高さに形成され、上端は第３の
部分抵抗膜４７ｃの上端に一致させて形成されている。
薄膜磁気ヘッド２０の設定すべき磁気ギャップの深さ
は、上記連続抵抗膜４６の上端と下端との間、この実施
形態では図４にｄで示す上記連続抵抗膜４６の上端部
で、第３の部分抵抗膜４７ｃの中途部の深さになるよう
設定されている。

【００３８】したがって、上記第１のリ−ド線４８と第
２のリ−ド線５１とで測定する抵抗値が所定の値となっ
たときに、浮上面１２の研磨量、つまり磁気ギャップが
所定の深さになったことになる。

【００３９】上記連続抵抗膜４６と、上記部分抵抗膜４
７ａ〜４７ｃとの抵抗値はテスタなどの測定部５５によ
って測定される。この測定部５５によって測定された測
定値は制御部５６に入力される。この制御部５６には、
磁気ギャップが所定の深さになったときの抵抗値が設定
されていて、この設定値と上記測定値とが比較される。
そして、これらの値が同じになると、そのことを警報し
たり、上記ラップ盤３１による研磨加工を停止させるよ
うになっている。

【００４０】上記測定部５５に入力されて設定値と比較
される測定値は、連続抵抗膜４６の抵抗値あるいは部分
抵抗膜４７ａ〜４７ｃの抵抗値のいずれであってもよ
く、あるいは両者の平均値であってもよい。この実施形
態では連続抵抗膜４６の抵抗値が設定値と比較されるよ
うになっている。

【００４１】上記磁気ヘッドスライダ１０に、抵抗体４
５として連続抵抗膜４６と部分抵抗膜４７ａ〜４７ｃと
を設けたことで、上記制御部５６により、上記連続抵抗
膜４６の温度変化による抵抗値の変化を補正できるよう
になっている。

【００４２】上記各抵抗膜４６、４７ａ〜４７ｃの抵抗
値は、温度に応じて変化する。すなわち、図５おいて曲
線ＡとＢの上側の破線で示す曲線Ａ1 、Ｂ1 は、各抵抗
膜が曲線Ａ、Ｂの抵抗値を示す所定温度からΔｔ度上昇
したときの抵抗値の変化を示し、下側の破線で示す曲線
Ａ2 、Ｂ2 は上記所定温度からΔｔ度低下したときの抵
抗値の変化を示している。

【００４３】図５において、所定温度における連続抵抗
膜４６の長さ（研磨量）と抵抗値との変化はあらかじめ
知ることができ、そのデ−タは制御部５５に入力されて
いる。部分抵抗膜４７ａ〜４７ｃの抵抗値の変化は各部
分抵抗膜が研磨された終わると、次の抵抗膜が研磨され
るまでの所定時間の間は抵抗値の変化がない。抵抗値が
変化しない時間帯を図５にｔ2 、ｔ4 で示す。

【００４４】第１の部分抵抗膜４７ａが研磨され終わる
と、部分抵抗膜４７ａ〜４７ｃの抵抗値がｔ2 時間変化
しなくなるので、その時間帯のｂ₁ 点とｂ₂ 点における
研磨量を知ることができる。つまり、ｂ₁ 点とｂ₂ 点に
おける研磨量は連続抵抗膜４６も同じである。したがっ
て、ｔ2 時間帯のｂ₁ 点あるいはｂ₂ 点における連続抵
抗膜４６の抵抗値を測定し、その抵抗値を上記連続抵抗
膜４６の所定温度における抵抗値（この値はあらかじめ
測定しておこくことで求められる。）と比較し、その比
較値に誤差があれば、その誤差から上記連続抵抗膜４６
の温度を求めることができる。連続抵抗膜４６の温度を
求めることができれば、その温度によって連続抵抗膜４
６の抵抗値を補正できるから、その補正値から研磨量を
逆算することができる。

【００４５】つまり、抵抗体４５として連続抵抗膜４６
と部分抵抗膜４７ａ〜４７ｃとを設けたことで、温度変
化によって各抵抗膜の抵抗値が変化しても、部分抵抗膜
４７ａ〜４７ｃの時間帯ｔ₂ のｂ₁ 点とｂ₂ 点および時
間帯ｔ₄ のｂ₃ 点とｂ₄ 点から知ることができる浮上面
１２の研磨量によって連続抵抗膜４６の抵抗値を温度補
正できるから、温度補正された上記連続抵抗膜４６の抵
抗値から磁気ヘッドスライダ１０の研磨量を精度よく求
めることができる。

【００４６】また、上記制御部５６には上記ホルダ４１
に設けられた各圧電素子４３が接続されている。制御部
５６は各圧電素子４３に所定の大きさの電圧を印加でき
るようになっている。それによって、各圧電素子４３に
よる磁気ヘッドスライダ１０の支持高さを制御できるよ
うになっている。

【００４７】つぎに、上記構成の製造装置３０によって
磁気ヘッドスライダ１０を製造する手順を説明する。ま
ず、磁気ヘッドスライダ１０を保持したホルダ４１を保
持治具３６の下面に接合固定したならば、そのホルダ４
１に保持された磁気ヘッドスライダ１０の浮上面１２の
高さを、図示しない測定器などで測定する。その測定結
果に応じて各磁気ヘッドスライダ１０が取り付けられた
圧電素子４３にそれぞれ所定の電圧を印加することで、
各磁気ヘッドスラダ１０の浮上面１２の高さを一致させ
る。

【００４８】ついで、磁気ヘッドスライダ１０の抵抗体
４５の連続抵抗膜４６と部分抵抗膜４７ａ〜４７ｃとの
第１、第２のリ−ド線４８、５１に測定部５５を接続
し、これらの抵抗値を測定しながらラップ盤３１と保持
治具３６とを図２に矢印で示す所定方向に回転駆動して
上記ラップ盤３１に磁気ヘッドスライダ１０の浮上面１
２を所定の圧力で当接させる。それによって、磁気ヘッ
ドスライダ１０の浮上面１２が研磨加工されることにな
る。

【００４９】このとき、上記ホルダ４１に保持された各
磁気ヘッドスライダ１０の高さ寸法にばらつきがあって
も、それぞれの磁気ヘッドスライダ１０が保持された圧
電素子４３を制御することで、各浮上面１２の高さ位置
を一定できる。そのため、従来のように保持治具３６に
保持された複数の磁気ヘッドスライダ１０の浮上面１２
の高さ位置にばらつきが生じて磁気ヘッドスライダ１０
がラップ盤３１に食い込むということがなくなる。

【００５０】上記浮上面１２が研磨加工され、その加工
が進むにつれて抵抗体４５の抵抗値が変化する。抵抗値
の変化は連続抵抗膜４６によって連続して測定されると
ともに、第１の部分抵抗膜４７と第２の部分抵抗膜４７
ｂとが順次研磨除去されることで、部分抵抗膜全体の抵
抗値の変化が所定時間一定となるごとに、上記連続抵抗
膜４５によって測定される抵抗値の温度補正が上述した
ごとく行われる。

【００５１】このように、温度補正されながら測定され
る上記連続抵抗膜４５の抵抗値が制御部５６に設定され
た設定値と同じ値、つまり磁気ヘッドスライダ１０の磁
気ギャップ深さが所定値になると、上記制御部５６から
の制御信号によってたとえば保持治具３６がＺ方向に上
昇駆動されて研磨加工が終了することになる。

【００５２】それによって、保持治具３６の下面に取着
されたホルダ４１に、圧電素子４３を介して保持された
各磁気ヘッドスライダ１０の磁気ギャップ深さが所定の
値に設定されることになる。

【００５３】このように、磁気ヘッドスライダ１０に、
浮上面１２の研磨加工の進行に応じて抵抗値が変化する
よう抵抗体４５を設け、この抵抗体４５の抵抗値を測定
することで研磨加工の終了点を判定するようにしたか
ら、磁気ヘッドスライダ１０の磁気ギャップ深さを高精
度に設定することが可能となる。

【００５４】しかも、上記抵抗体４５として連続抵抗膜
４６と、複数の部分抵抗膜４７ａ〜４７ｃとを設け、上
記部分抵抗膜４７ａ〜４７ｃの抵抗値が段階的に変化す
る時点で上記連続抵抗膜４６の温度変化による抵抗値の
補正を行うようにしているから、そのことによっても研
磨加工の終了点の判定を高精度に行うことができる。

【００５５】なお、上記実施形態では抵抗体として連続
抵抗膜４６と部分抵抗膜４７ａ〜４７ｃを設けたが、ど
ちらか一方だけであっても、磁気ヘッドスライダ１０の
研磨深さを測定することは可能である。部分抵抗膜４７
ａ〜４７ｃだけで測定する場合、各部分抵抗膜４７ａ〜
４７ｃの不連続部分において精密な抵抗値の測定ができ
なくなるが、不連続部分の抵抗値は、あらかじめ測定さ
れている加工終了点からの距離と研磨時間とのデ−タを
処理し、最小二乗法を用いた２次元以上の多項式に近似
することで求めることができる。

【００５６】また、部分抵抗膜４７ａ〜４７ｃと同時に
連続抵抗膜４６も、あらかじめ測定されている加工終了
点からの距離と研磨時間とのデ−タを処理し、最小二乗
法を用いた２次元以上の多項式に近似すれば、それによ
って連続抵抗膜４６の抵抗値の温度変化などによる変化
を補償することができる。

【００５７】また、保持治具３６にはホルダ４１を取り
付け、このホルダ４１に圧電素子４３を介して磁気ヘッ
ドスライダ１０を取着するようにしたが、ホルダ４１を
用いず、保持治具３６に圧電素子４３を介して磁気ヘッ
ドスライダ１０を取着するようにしてもよい。

【００５８】さらに、温度誤差を補正するためには抵抗
体をつぎのような構成としてもよい。つまり、間欠的に
設けられた各部分抵抗膜４７ａ〜４７ｃのうちの、最下
段の第１の部分抵抗膜４７ｃの近傍（たとえば磁気ヘッ
ドスライダ１０の浮上面１２と逆側となる１μｍ上方）
に温度補正用抵抗膜を設ける。上記第１の部分抵抗膜４
７ａと温度補正用抵抗膜とは近接しているから同じ温度
であると仮定する。

【００５９】一方、測定部５５には、既知の抵抗体によ
ってブリッジ回路を組んでおき、このブリッジ回路に上
記温度補正用抵抗膜と第１の部分抵抗膜４７ａとを接続
する。上記ブリッジ回路の上記各抵抗体の抵抗値は所定
温度において、ブリッジ回路に電流が流れることのな
い、平衡状態に設定される。

【００６０】つまり、第１の部分抵抗膜４７ａと温度補
正用抵抗膜との抵抗値が変化しても、これらはほぼ同じ
温度であるため、温度変化によってブリッジ回路に電流
が流れることはない。

【００６１】したがって、上記ブリッジ回路に電流が流
れるのは、研磨加工によって第１の部分抵抗膜４７ａの
長さが変化する場合であるから、上記ブリッジ回路に流
れる電流値を測定することで、温度変化の影響を受ける
ことのない、磁気ヘッドスライダ１０の研磨加工量を測
定することができる。

【００６２】この場合、連続抵抗膜４６は不要であり、
第１の部分抵抗膜４７ａの長さを研磨加工量に応じた長
さとすることで、１つの第１の部分抵抗膜４７ａだけで
加工量を測定することができる。

【００６３】また、上記ブリッジ回路において、４つの
抵抗体のうちの３つを抵抗値が既知の抵抗体を用い、残
りの１つを第１乃至第３の部分抵抗膜４７ａ〜４７ｃと
する。所定温度において、このブリッジ回路が平衡にな
るよう３つの抵抗体の抵抗値を設定しておけば、第１乃
至第３の部分抵抗膜４７ａ〜４７ｃの温度が所定温度に
対して変化すると、その変化による抵抗値の変化に応じ
てブリッジ回路に電流が流れる。

【００６４】したがって、その電流値から第１の抵抗体
４７ａの温度が算出できるから、その温度によって以後
に測定される抵抗値を補正すれば、磁気ヘッドスライダ
１０の浮上面１２の研磨量を精密に測定することが可能
となる。

【００６５】図６乃至図８はこの発明の第２の実施形態
を示す。図６（ａ）、（ｂ）において、６１はラップ盤
であり、６２が保持治具である。保持治具６２の下面に
はスライダバ−１０Ａが取着されている。このスライダ
バ−１０Ａは複数の磁気ヘッドスライダ１０が分断され
る前の、バ−状に連結された状態になっている。

【００６６】上記ラップ盤６１の上面周辺部には下部導
電体６３が絶縁体６４を介してリング状に設けられ、保
持治具６２の周辺部には周方向に９０度間隔でピン状の
４つの上部導電体６５が圧電素子６６を介してスライド
自在に垂設されている。この圧電素子６６には第１の電
源６７が接続されている。また、各導電体６３、６５と
しては、導電率の高い材料、たとえば銅などが用いられ
ている。

【００６７】図６（ａ）に示すように上記上部導電体６
５の突出長さＴは、上記保持治具６２に保持された磁気
ヘッドスライダ１０（スライダバ−１０Ａ）を所定の磁
気ギャップ深さＬとなるまで研磨加工したときに、上記
下部導電体６３に接触するように設定される。つまり、
圧電素子６６に印加する電圧を制御することで、上記突
出長さＴを変えることができるようになっている。

【００６８】上記下部導電体６３には第２の電源６８が
接続され、上記上部導電体６５には導通検知器６９が接
続されている。上記下部導電体６３の上部導電体６５が
接触すると、上記導通検知器６９によってそのことが検
出されるようになっている。

【００６９】さらに、保持治具６２の上部導電体６５の
周辺部には図８に示すように複数の圧縮空気の供給路７
１が保持治具６２の下面側に開口して形成されている。
各供給路７１は図示しない供給源に連通していて、保持
治具６２の下面側へ圧縮空気を噴出させることができ
る。それによって、研磨加工時にラップ盤６１上に供給
されたラップ液が各導電体６３、６５に接触するのが防
止される。

【００７０】各供給路７１から噴出される圧縮空気の圧
力は研磨加工に影響を与えず、しかも上述したごとく研
磨液を排除できなければならない。研磨加工圧は通常、
１×１０⁵ Ｎ／ｍ² であるから、空気圧は１Ｎ／ｍ² 程
度が望ましい。

【００７１】このような構成の磁気ヘッドスライダ１０
の製造装置によれば、保持治具６２を加工させながら磁
気ヘッドスライダ１０の研磨加工を行い、その加工量が
所定の磁気キャップ深さに到達すると、図６（ｂ）に示
すように上部導電体６５が下部導電体６３に接触する。
すると、そのことが導通検知器６９によって検知される
から、その時点で研磨加工を終了することで、磁気ギャ
ップ深さを高精度に設定することができる。

【００７２】図９（ａ）、（ｂ）は上記第２の実施形態
の変形例を示す第３の実施形態で、この実施形態形態は
下部導電体６３と上部導電体６５とに代わり、ラップ盤
６１にレ−ザ変位計や静電容量型距離測定器、あるいは
渦電流変位計などの非接触子式変位計７１を設けるよう
にした。

【００７３】上記非接触子式変位計７１はその検出面７
１ａと保持治具６２の下面との距離を検出する。したが
って、磁気ヘッドスライダ１０の研磨量が所定の磁気ギ
ャップ深さとなるよう、上記非接触子式変位計７１の検
出面７１ａと保持治具６２の下面との距離を上記非接触
子器変位計７１によって管理すれば、磁気ギャップ深さ
を高精度に設定することができる。

【００７４】非接触式変位計７１を用いた場合、ラップ
液中での測定距離をあらかじめ補正することができるか
ら、供給路７１を設けて圧縮空気を噴出させなくても、
測定が可能である。

【００７５】

【発明の効果】以上述べたように、請求項１乃至請求項
３の発明によれば、抵抗体の抵抗値の変化を測定しなが
ら磁気ヘッドスライダの浮上面を加工するため、その抵
抗値の変化によってその加工量、つまり磁気ギャップ深
さを高精度に設定することができる。

【００７６】請求項４の発明によれば、請求項１の発明
において、抵抗体として連続抵抗膜と、複数の部分抵抗
膜とを設けたことで、部分抵抗膜の抵抗値の変化に応じ
て連続抵抗膜の温度補正を行い、加工精度を高めること
ができる。

【００７７】請求項５の発明によれば、磁気ヘッドスラ
イダに設けられた抵抗体の抵抗値を測定しながら磁気ヘ
ッドスライダの浮上面を加工するようにしたから、磁気
ヘッドスライダの磁気ギャップ深さを高精度に設定する
ことができる。

【００７８】請求項６の発明によれば、請求項５の発明
において、浮上面を加工する際に、その加工量に応じて
変化する抵抗値を測定し、その抵抗値を温度変化に応じ
て補正するようにしたから、磁気ギャップ深さを温度変
化によって誤差が生じることなく精度よく設定できる。

【００７９】請求項７の発明によれば、保持治具に保持
される磁気ヘッドスライダの高さ寸法にばらつきがあっ
ても、それぞれの高さを調節できるから、ラップ盤をか
じることなく複数の磁気ヘッドスライダを一度に加工す
ることができる。

【００８０】請求項８の発明によれば、請求項７の発明
において、磁気ギャップ深さに応じて変化する抵抗体の
抵抗値を測定しながら磁気ヘッドスライダの浮上面を加
工することで、上記浮上面の加工、つまり磁気ギャップ
深さを精度よく設定することができる。

【００８１】請求項９の発明によれば、請求項８の発明
において、部分抵抗膜と連続抵抗膜との抵抗値を測定す
る測定手段と、温度変化により生じる連続抵抗膜の抵抗
値の誤差を補正するための制御手段とを設けたので、磁
気ヘッドスライダの研磨量を温度変化によらず高精度に
制御できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の第１の実施形態を示す磁気ヘッドス
ライダの斜視図。

【図２】同じく製造装置の概略的構成を示す斜視図。

【図３】（ａ）は同じく磁気ヘッドスライダを保持する
ためのホルダの側面図、（ｂ）は同じく底面側の平面
図。

【図４】同じく磁気ヘッドスライダの端面に設けられる
抵抗体の説明図。

【図５】同じく抵抗体の研磨量と抵抗値との関係を示す
グラフ。

【図６】この発明の第２の実施形態を示し、（ａ）は磁
気ヘッドスライダを研磨加工する前の状態のラップ盤と
保持治具との関係を示す側面図、（ｂ）は同じく磁気ヘ
ッドスライダを所定量研磨加工したときのしたラップ盤
と保持治具との関係を示す側面図。

【図７】同じくラップ盤と保持治具との平面図。

【図８】同じく上部導電体の近傍に設けられた圧縮空気
の供給路を示す断面図。

【図９】この発明の第３の実施形態を示し、（ａ）は磁
気ヘッドスライダを研磨加工する前の状態のラップ盤と
保持治具との関係を示す側面図、（ｂ）は同じく磁気ヘ
ッドスライダを所定量研磨加工したときのしたラップ盤
と保持治具との関係を示す側面図。

【図１０】一般的な構造の磁気ヘッドスライダの斜視
図。

【図１１】同じく磁気ヘッドスライダの端面の磁気ヘッ
ドの部分の拡大図。

【符号の説明】

１０…磁気ヘッドスライダ、１２…浮上面、２０…薄膜
磁気ヘッド、３１…ラップ盤、３６…保持治具、４３…
圧電素子、４５…抵抗体、４６…連続抵抗膜、４７ａ〜
４７ｃ…部分抵抗膜。

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 薄膜磁気ヘッドおよび気体膜を介して浮
   上する浮上面を有し、この浮上面を加工して所定深さの
   磁気ギャップが形成される磁気ヘッドスライダにおい
   て、 上記薄膜磁気ヘッドが形成された面には、上記磁気ギャ
   ップの深さに応じて電気抵抗値が変化する抵抗体が設け
   られることを特徴とする磁気ヘッドスライダ。
2. 【請求項２】 上記抵抗体は、上記磁気ギャップの深さ
   方向に連続する長さの連続抵抗膜からなることを特徴と
   する請求項１記載の磁気ヘッドスライダ。
3. 【請求項３】 上記抵抗体は、上記磁気ギャップの深さ
   方向に沿って所定間隔で間欠的に設けられた複数の部分
   抵抗膜からなることを特徴とする請求項１記載の磁気ヘ
   ッドスライダ。
4. 【請求項４】 上記抵抗体は、上記磁気ギャップの深さ
   方向に連続する長さの連続抵抗膜と、上記磁気ギャップ
   の深さ方向に沿って所定間隔で間欠的に設けられた複数
   の部分抵抗膜からなることを特徴とする請求項１記載の
   磁気ヘッドスライダ。
5. 【請求項５】 薄膜磁気ヘッドおよび気体膜を介して浮
   上する浮上面を有し、この浮上面を加工して所定深さの
   磁気ギャップを備えた磁気ヘッドスライダの製法におい
   て、 上記薄膜磁気ヘッドが形成された面に上記磁気ギャップ
   の深さに応じて電気抵抗値が変化する抵抗体を設け、こ
   の抵抗体の抵抗値の変化を測定しながら上記浮上面を加
   工することを特徴とする磁気ヘッドスライダの製法。
6. 【請求項６】 上記抵抗体は、上記磁気ギャップの深さ
   方向に連続する長さの連続抵抗膜と、上記磁気ギャップ
   の深さ方向に沿って所定間隔で間欠的に設けられた複数
   の部分抵抗膜からなり、この部分抵抗膜の抵抗値の変化
   によって上記連続抵抗膜の抵抗値の温度補正を行うこと
   を特徴とする請求項５記載の磁気ヘッドスライダの製
   法。
7. 【請求項７】 薄膜磁気ヘッドおよび気体膜を介して浮
   上する浮上面を有し、この浮上面を加工して所定深さの
   磁気ギャップが形成される磁気ヘッドスライダを製造す
   る装置において、 上記磁気ヘッドスライダを変位素子を介して変位調節自
   在に保持した保持治具と、 この保持治具に対向して配置され上記磁気ヘッドスライ
   ダの浮上面を研磨するラップ盤とを具備したことを特徴
   とする磁気ヘッドスライダの製造装置。
8. 【請求項８】 上記磁気ヘッドスライダの薄膜磁気ヘッ
   ドが形成された面には、上記磁気ギャップの深さに応じ
   て電気抵抗値が変化する抵抗体が設けられることを特徴
   とする請求項７記載の磁気ヘッドスライダの製造装置。
9. 【請求項９】 上記抵抗体は、上記磁気ギャップの深さ
   方向に連続する長さの連続抵抗膜と、上記磁気ギャップ
   の深さ方向に沿って所定間隔で間欠的に設けられた複数
   の部分抵抗膜とからなり、 上記連続抵抗膜と上記部分抵抗膜との抵抗値をそれぞれ
   測定する測定手段と、 この測定手段によって測定される部分抵抗膜の抵抗値が
   所定時間変化しなくなるときの研磨量から上記連続抵抗
   膜の所定温度における抵抗値を求め、その所定温度にお
   ける抵抗値と実際に測定される測定値とを比較して上記
   連続抵抗膜の抵抗値の温度誤差を補正する制御手段とを
   具備したことを特徴とする請求項８記載の磁気ヘッドス
   ライダの製造装置。