JP2790043B2 - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドの製造方法Info
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1272—Assembling or shaping of elements
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- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/4902—Electromagnet, transformer or inductor
- Y10T29/49021—Magnetic recording reproducing transducer [e.g., tape head, core, etc.]
- Y10T29/49032—Fabricating head structure or component thereof
- Y10T29/49036—Fabricating head structure or component thereof including measuring or testing
- Y10T29/49041—Fabricating head structure or component thereof including measuring or testing with significant slider/housing shaping or treating
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Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、磁気ディスク装置等
に用いられる浮上型磁気ヘッドの製造方法に関し、ＡＢ
Ｓ（Air Bearing Surface ）面すなわち記録媒体に対向
する浮上面に、記録媒体との相対移動方向に凸状のいわ
ゆるクラウンを形成する場合に、ＡＢＳ面を平滑にする
ことを可能にして情報読み書きの信頼性を向上させたも
のである。
に用いられる浮上型磁気ヘッドの製造方法に関し、ＡＢ
Ｓ（Air Bearing Surface ）面すなわち記録媒体に対向
する浮上面に、記録媒体との相対移動方向に凸状のいわ
ゆるクラウンを形成する場合に、ＡＢＳ面を平滑にする
ことを可能にして情報読み書きの信頼性を向上させたも
のである。
【０００２】
【従来の技術】従来の浮上型磁気ヘッドは、ＡＢＳ面が
平坦なものが一般的であった。ところが、ＡＢＳ面が平
坦であると、記録媒体が停止している時にＡＢＳ面が記
録媒体の記録面に密着状態で着地しているため、起動時
にモータに大きな起動トルクが必要となったり、記録媒
体の記録面に傷がつく等の問題があった。
平坦なものが一般的であった。ところが、ＡＢＳ面が平
坦であると、記録媒体が停止している時にＡＢＳ面が記
録媒体の記録面に密着状態で着地しているため、起動時
にモータに大きな起動トルクが必要となったり、記録媒
体の記録面に傷がつく等の問題があった。
【０００３】そこで、図１０に示す磁気ヘッド１０のよ
うに、ＡＢＳ面１２に記録媒体との相対移動方向に凸状
に形成したクラウン形状とすることにより、着地時の記
録媒体との接触面積を小さくすることが考えられてい
た。
うに、ＡＢＳ面１２に記録媒体との相対移動方向に凸状
に形成したクラウン形状とすることにより、着地時の記
録媒体との接触面積を小さくすることが考えられてい
た。
【０００４】ＡＢＳ面をクラウン形状に形成する方法と
して、特開平５−２０８２６号公報では、スライダの残
留応力を利用する方法が提案されている。この方法は、
ＡＢＳ面およびその背面を両面ラッピングしてこれら両
面の残留応力をバランスさせた後、背面を圧縮応力が大
きくなるように片面ラッピングし、あるいはＡＢＳ面を
圧縮応力が小さくなるように片面ラッピングして、これ
ら両面の残留応力をアンバランスさせることにより、Ａ
ＢＳ面が凸状のクラウン形状になるようにしたものであ
る。
して、特開平５−２０８２６号公報では、スライダの残
留応力を利用する方法が提案されている。この方法は、
ＡＢＳ面およびその背面を両面ラッピングしてこれら両
面の残留応力をバランスさせた後、背面を圧縮応力が大
きくなるように片面ラッピングし、あるいはＡＢＳ面を
圧縮応力が小さくなるように片面ラッピングして、これ
ら両面の残留応力をアンバランスさせることにより、Ａ
ＢＳ面が凸状のクラウン形状になるようにしたものであ
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】面の残留応力の大きさ
は面の粗さによって変化する。すなわち、面が粗いと面
の残留応力は大きくなり、面が平滑なほど（鏡面に近い
ほど）面の残留応力は小さくなる。
は面の粗さによって変化する。すなわち、面が粗いと面
の残留応力は大きくなり、面が平滑なほど（鏡面に近い
ほど）面の残留応力は小さくなる。
【０００６】前記特開平５−２０８２６号公報に記載の
方法では、両面ラッピング（両面の残留応力がバラン
ス）した後、片面ラッピングによって背面をより平滑に
し、あるいはＡＢＳ面をより粗くしてＡＢＳ面を凸状に
するので、必然的にＡＢＳ面の粗さ＞背面の粗さとな
る。
方法では、両面ラッピング（両面の残留応力がバラン
ス）した後、片面ラッピングによって背面をより平滑に
し、あるいはＡＢＳ面をより粗くしてＡＢＳ面を凸状に
するので、必然的にＡＢＳ面の粗さ＞背面の粗さとな
る。
【０００７】したがって、背面の粗さを例えばＲａ＝５
オングストロームより小さくしても、ＡＢＳ面の粗さは
Ｒａ＝２０〜１００オングストローム程度に粗くしなけ
ればならない。このため、上記の方法で作られた磁気ヘ
ッドは、記録媒体と対向するＡＢＳ面が粗れたものとな
り、情報読み書きの信頼性を低下させるおそれがあっ
た。
オングストロームより小さくしても、ＡＢＳ面の粗さは
Ｒａ＝２０〜１００オングストローム程度に粗くしなけ
ればならない。このため、上記の方法で作られた磁気ヘ
ッドは、記録媒体と対向するＡＢＳ面が粗れたものとな
り、情報読み書きの信頼性を低下させるおそれがあっ
た。
【０００８】この発明は、前記従来の技術における問題
点を解決して、ＡＢＳ面をクラウン形状に形成する場合
に、ＡＢＳ面の平滑度を高めることを可能にして、情報
読み書きの信頼性を向上させた磁気ヘッドの製造方法を
提供しようとするものである。
点を解決して、ＡＢＳ面をクラウン形状に形成する場合
に、ＡＢＳ面の平滑度を高めることを可能にして、情報
読み書きの信頼性を向上させた磁気ヘッドの製造方法を
提供しようとするものである。
【０００９】請求項１記載の発明は、個々のスライダに
分離する前のローの状態で、当該スライダのＡＢＳ面お
よびその背面を両面ラッピングして、当該ローを高い平
行度と反りの少ない状態に形成する工程と、その後前記
ＡＢＳ面をより平滑な平面に片面ラッピングする工程で
あって、前記背面を接着剤で治具に接着して、当該片面
ラッピングに伴う前記ＡＢＳ面の収縮によって生じる前
記ローの反りを、該ローの反りに合わせて前記接着剤が
変形することによって許容した状態でかつ当該ローの反
りによって生じる前記ＡＢＳ面の凹状を当該片面ラッピ
ングで除去しながら当該片面ラッピングを行う工程と、
その後前記背面をより平滑な面に片面ラッピングして当
該背面を収縮させて、この背面の収縮に伴う前記ローの
反りにより前記ＡＢＳ面を凸状に形成する工程と、その
後前記ローを個々のスライダに分離する工程とを具える
ものである。
分離する前のローの状態で、当該スライダのＡＢＳ面お
よびその背面を両面ラッピングして、当該ローを高い平
行度と反りの少ない状態に形成する工程と、その後前記
ＡＢＳ面をより平滑な平面に片面ラッピングする工程で
あって、前記背面を接着剤で治具に接着して、当該片面
ラッピングに伴う前記ＡＢＳ面の収縮によって生じる前
記ローの反りを、該ローの反りに合わせて前記接着剤が
変形することによって許容した状態でかつ当該ローの反
りによって生じる前記ＡＢＳ面の凹状を当該片面ラッピ
ングで除去しながら当該片面ラッピングを行う工程と、
その後前記背面をより平滑な面に片面ラッピングして当
該背面を収縮させて、この背面の収縮に伴う前記ローの
反りにより前記ＡＢＳ面を凸状に形成する工程と、その
後前記ローを個々のスライダに分離する工程とを具える
ものである。
【００１０】
【００１１】請求項２記載の発明は、請求項１記載の発
明において、前記磁気ヘッドが薄膜磁気ヘッドを具え、
前記ＡＢＳ面を片面ラッピングする工程が、当該薄膜磁
気ヘッドのスロートハイト加工工程を兼ねていることを
特徴とするものである。
明において、前記磁気ヘッドが薄膜磁気ヘッドを具え、
前記ＡＢＳ面を片面ラッピングする工程が、当該薄膜磁
気ヘッドのスロートハイト加工工程を兼ねていることを
特徴とするものである。
【００１２】
【００１３】
【００１４】
【作用】この発明によれば、個々のスライダに分離する
前のローの状態でスライダのＡＢＳ面およびその背面を
両面ラッピング後、ＡＢＳ面を収縮を伴うように（すな
わち、平滑度を高める。）片面ラッピングすることによ
り、ＡＢＳ面側が凹状、背面側が凸状となるように全体
が変形する。しかし、この時ＡＢＳ面自体はラッピング
により凹状が削られるので平坦状態が維持される。その
後、背面を収縮を伴うように片面ラッピングすることに
より、ＡＢＳ面側が凸状となるように全体が変形してＡ
ＢＳ面にクラウンが形成される。したがって、ＡＢＳ面
を平滑にして（例えば、Ｒａ＝５オングストローム以
下）クラウンを形成することができ、情報読み書きの信
頼性を向上させることができる。
前のローの状態でスライダのＡＢＳ面およびその背面を
両面ラッピング後、ＡＢＳ面を収縮を伴うように（すな
わち、平滑度を高める。）片面ラッピングすることによ
り、ＡＢＳ面側が凹状、背面側が凸状となるように全体
が変形する。しかし、この時ＡＢＳ面自体はラッピング
により凹状が削られるので平坦状態が維持される。その
後、背面を収縮を伴うように片面ラッピングすることに
より、ＡＢＳ面側が凸状となるように全体が変形してＡ
ＢＳ面にクラウンが形成される。したがって、ＡＢＳ面
を平滑にして（例えば、Ｒａ＝５オングストローム以
下）クラウンを形成することができ、情報読み書きの信
頼性を向上させることができる。
【００１５】また、個々のスライダに分離する前のロー
の状態でクラウン形成を行なうので、生産性が良好とな
る。
の状態でクラウン形成を行なうので、生産性が良好とな
る。
【００１６】
【００１７】また、ＡＢＳ面の片面ラッピングがスロー
トハイト加工を兼ねるので、別途スロートハイト加工が
不要になり、工程が簡素化されるとともに、別途スロー
トハイト加工することによるクラウン形状の変化が防止
される。
トハイト加工を兼ねるので、別途スロートハイト加工が
不要になり、工程が簡素化されるとともに、別途スロー
トハイト加工することによるクラウン形状の変化が防止
される。
【００１８】
【００１９】
【実施例】この発明の一実施例を以下説明する。 （実施例１）ローの状態でクラウン形成を行なう場合の
この発明の一実施例を図１〜図４に従って説明する。 （１） ウェハープロセス ウェハー２０上に、磁気ヘッド素子として薄膜磁気ヘッ
ド素子２１を縦方向および横方向に多数形成する。 （２） ロースライシング ウェハー２０をロー２２に分割する。１本のロー２２に
は複数の磁気ヘッド素子２１が一例に並べられている。
この発明の一実施例を図１〜図４に従って説明する。 （１） ウェハープロセス ウェハー２０上に、磁気ヘッド素子として薄膜磁気ヘッ
ド素子２１を縦方向および横方向に多数形成する。 （２） ロースライシング ウェハー２０をロー２２に分割する。１本のロー２２に
は複数の磁気ヘッド素子２１が一例に並べられている。
【００２０】（３） 両面ラッピング ラップ盤の上下の定盤２４，２６間にロー２２をＡＢＳ
面２８および背面３０を上下方向にして挟み込み、定盤
２４，２６とロー２２との間に砥粒３２を入れて押し付
け、すり合わせてＡＢＳ面２８および背面３０を両面ラ
ッピングする。このとき、必要なクラウンを得るため
に、両面ラッピングの加工条件である定盤２４，２６の
種類と、使用する砥粒３２の種類を選択する。つまり、
両面ラッピングによる両面２８，３０の粗さ（つまり残
留応力値）を選択する。条件例としては、例えば両面２
８，３０の粗さＲａ＝２０オングストロームにする場合
は、砥粒３２として例えばＧＣ１０００を用い、定盤２
４，２６として例えばダクタイル鋳鉄定盤を用いること
ができる。
面２８および背面３０を上下方向にして挟み込み、定盤
２４，２６とロー２２との間に砥粒３２を入れて押し付
け、すり合わせてＡＢＳ面２８および背面３０を両面ラ
ッピングする。このとき、必要なクラウンを得るため
に、両面ラッピングの加工条件である定盤２４，２６の
種類と、使用する砥粒３２の種類を選択する。つまり、
両面ラッピングによる両面２８，３０の粗さ（つまり残
留応力値）を選択する。条件例としては、例えば両面２
８，３０の粗さＲａ＝２０オングストロームにする場合
は、砥粒３２として例えばＧＣ１０００を用い、定盤２
４，２６として例えばダクタイル鋳鉄定盤を用いること
ができる。
【００２１】この両面ラッピングにより、高い平行度と
反りの少ない（反り量が例えば２μｍ以下）ロー２２が
得られる。また、この両面ラッピングにより、ロー２２
のＡＢＳ面２８と背面３０のごく薄い層（例えば３μ
ｍ）には加工で生じた圧縮応力が残留する（内部の応力
より大きくつける。）。両面ラッピングの特徴である両
面２８，３０の応力のバランスにより、ロー２２は高度
な直線度を保つことができる。
反りの少ない（反り量が例えば２μｍ以下）ロー２２が
得られる。また、この両面ラッピングにより、ロー２２
のＡＢＳ面２８と背面３０のごく薄い層（例えば３μ
ｍ）には加工で生じた圧縮応力が残留する（内部の応力
より大きくつける。）。両面ラッピングの特徴である両
面２８，３０の応力のバランスにより、ロー２２は高度
な直線度を保つことができる。
【００２２】（４） ロー接着 両面ラッピングが終了したロー２２を、ＡＢＳ面２８の
片面ラッピング（スロートハイト加工）のため、接着剤
３４で治具（ワークホルダー）３６に接着する。接着剤
３４の種類は、必要なクラウンを得るために必要な接着
強度が得られるものを選択し、例えばロジン系ワックス
を使用することができる。
片面ラッピング（スロートハイト加工）のため、接着剤
３４で治具（ワークホルダー）３６に接着する。接着剤
３４の種類は、必要なクラウンを得るために必要な接着
強度が得られるものを選択し、例えばロジン系ワックス
を使用することができる。
【００２３】（５） スロートハイト研磨（ＡＢＳ面の
片面ラッピング） ＡＢＳ面２８をラッピングして、スロートハイト（薄膜
磁気ヘッド素子２１のポール部の長さ）を目標値まで加
工する。研磨砥粒には例えばダイヤモンド１／２μｍを
使用し、加工後のＡＢＳ面２８の粗さＲａを例えば８オ
ングストローム程度に平滑にする。微細な砥粒でラップ
すると、粗さの減少に伴い、加工面（ＡＢＳ面２８）の
残留応力が減少するので、ＡＢＳ面２８と背面３０とで
残留応力のバランスが崩れ、加工中にＡＢＳ面２８が収
縮し、ロー２２全体が反りを呈して、ＡＢＳ面２８が凹
状となる。しかし、このＡＢＳ面２８の凹状の変形はこ
のスロートハイト加工自体によって除去されて、ＡＢＳ
面２８は平面状態が維持される。このスロートハイト加
工の過程を図５に示す。
片面ラッピング） ＡＢＳ面２８をラッピングして、スロートハイト（薄膜
磁気ヘッド素子２１のポール部の長さ）を目標値まで加
工する。研磨砥粒には例えばダイヤモンド１／２μｍを
使用し、加工後のＡＢＳ面２８の粗さＲａを例えば８オ
ングストローム程度に平滑にする。微細な砥粒でラップ
すると、粗さの減少に伴い、加工面（ＡＢＳ面２８）の
残留応力が減少するので、ＡＢＳ面２８と背面３０とで
残留応力のバランスが崩れ、加工中にＡＢＳ面２８が収
縮し、ロー２２全体が反りを呈して、ＡＢＳ面２８が凹
状となる。しかし、このＡＢＳ面２８の凹状の変形はこ
のスロートハイト加工自体によって除去されて、ＡＢＳ
面２８は平面状態が維持される。このスロートハイト加
工の過程を図５に示す。
【００２４】（６） テーパ加工 ロー２２をワークホルダ３６に取り付けたまま、ＡＢＳ
面２８の空気流入側を斜めに削って、テーパ面４２を形
成する。
面２８の空気流入側を斜めに削って、テーパ面４２を形
成する。
【００２５】（７） 背面研磨（背面の片面ラッピン
グ） スロートハイト加工およびテーパ加工後、ロー２２をワ
ークホルダー３６から取外して、今度は背面３０を片面
ラッピングする。背面３０の片面ラッピングは、ここで
はロー２２をワークホルダーに接着しないで行なってい
る。すなわち、図３（ａ）に示すように、ラップ定盤４
４上にガイドリング４６をその側面をガイドローラ４８
で押さえた状態に載置し、このガイドリング４６内にキ
ャリア４８を収容し、キャリア４８に形成された保持穴
５０にロー２２をその背面３０を下向にして保持し、ロ
ー２２の上におもり５２を載せた状態（おもり５２の下
面には、ロー２２になじむように、ゴムパッド５４が貼
り付けられている）にセットし、この状態でラップ定盤
４４を回すことにより、図３（ｂ）のようにしてロー２
２の背面を研磨する。
グ） スロートハイト加工およびテーパ加工後、ロー２２をワ
ークホルダー３６から取外して、今度は背面３０を片面
ラッピングする。背面３０の片面ラッピングは、ここで
はロー２２をワークホルダーに接着しないで行なってい
る。すなわち、図３（ａ）に示すように、ラップ定盤４
４上にガイドリング４６をその側面をガイドローラ４８
で押さえた状態に載置し、このガイドリング４６内にキ
ャリア４８を収容し、キャリア４８に形成された保持穴
５０にロー２２をその背面３０を下向にして保持し、ロ
ー２２の上におもり５２を載せた状態（おもり５２の下
面には、ロー２２になじむように、ゴムパッド５４が貼
り付けられている）にセットし、この状態でラップ定盤
４４を回すことにより、図３（ｂ）のようにしてロー２
２の背面を研磨する。
【００２６】このとき、砥粒種類、定盤種類を選択する
ことにより、加工応力を設定する。砥粒としては例えば
ダイヤモンド１／２μｍを使用し、加工後の背面３０の
粗さＲａを例えば８オングストローム程度に平滑にす
る。微細な砥粒でラッピングすると、粗さの減少に伴
い、加工面（背面３０）の残留応力が減少するので、図
６に示すように、背面３０が収縮し、ロー２２全体が前
記と逆方向に反りを呈して、ＡＢＳ面２８に凸状（すな
わちクラウン形状）が形成される（この場合、ロー２２
の反りによる背面３０の凹状は、このラッピングにより
削られて、背面３０は平坦になる。）。この時、ＡＢＳ
面２８と背面３０の残留応力はほぼバランスしている。
なお、背面研磨は、図３の方法に限らず、前記ＡＢＳ面
の研磨と同様に、ＡＢＳ面２８を治具に接着して行なう
こともできる。
ことにより、加工応力を設定する。砥粒としては例えば
ダイヤモンド１／２μｍを使用し、加工後の背面３０の
粗さＲａを例えば８オングストローム程度に平滑にす
る。微細な砥粒でラッピングすると、粗さの減少に伴
い、加工面（背面３０）の残留応力が減少するので、図
６に示すように、背面３０が収縮し、ロー２２全体が前
記と逆方向に反りを呈して、ＡＢＳ面２８に凸状（すな
わちクラウン形状）が形成される（この場合、ロー２２
の反りによる背面３０の凹状は、このラッピングにより
削られて、背面３０は平坦になる。）。この時、ＡＢＳ
面２８と背面３０の残留応力はほぼバランスしている。
なお、背面研磨は、図３の方法に限らず、前記ＡＢＳ面
の研磨と同様に、ＡＢＳ面２８を治具に接着して行なう
こともできる。
【００２７】（８） ＡＢＳ面レールパターン加工 クラウン形成が終了したロー２２のＡＢＳ面２８に溝切
加工して、レールパターン３９を形成する。
加工して、レールパターン３９を形成する。
【００２８】（９） 完成 最後にロー２２を切断して個々のスライダ３８に分離し
て、個々の磁気ヘッド４０が完成する。完成したスライ
ダ３８のクラウンの大きさは、スライダ３８の長さが例
えば２mmの場合、例えば３０nmである。
て、個々の磁気ヘッド４０が完成する。完成したスライ
ダ３８のクラウンの大きさは、スライダ３８の長さが例
えば２mmの場合、例えば３０nmである。
【００２９】以上の工程において、クラウンの大きさの
制御は、初期の加工応力を与える両面ラッピングの条件
（すなわち、砥粒と定盤材質の選定）が最も影響が大き
い。次に影響するのが、接着に使うワックス等の接着剤
の種類（接着強度）、鏡面加工（片面ラッピング）のダ
イヤモンドサイズと定盤種類である。
制御は、初期の加工応力を与える両面ラッピングの条件
（すなわち、砥粒と定盤材質の選定）が最も影響が大き
い。次に影響するのが、接着に使うワックス等の接着剤
の種類（接着強度）、鏡面加工（片面ラッピング）のダ
イヤモンドサイズと定盤種類である。
【００３０】以上の工程によれば、ＡＢＳ面２８の粗さ
Ｒａが５オングストローム以下の鏡面に近い場合におい
ても、所望のクラウン形状を得ることができ、読み書き
の信頼性を確保しつつクラウンを形成することができ
る。また、ローの状態でクラウン形成するので、生産性
にすぐれている。
Ｒａが５オングストローム以下の鏡面に近い場合におい
ても、所望のクラウン形状を得ることができ、読み書き
の信頼性を確保しつつクラウンを形成することができ
る。また、ローの状態でクラウン形成するので、生産性
にすぐれている。
【００３１】（実施例２）ローを個々のスライダに分離
した状態でクラウン形成を行なう場合のこの発明の一実
施例を図７〜図８に従って説明する。 （１） ウェハープロセス （２） ロースライシング （３） 両面ラッピング （４） ロー接着 以上の（１）〜（４）の工程は、図１〜図２の（１）〜
（４）と同じである。
した状態でクラウン形成を行なう場合のこの発明の一実
施例を図７〜図８に従って説明する。 （１） ウェハープロセス （２） ロースライシング （３） 両面ラッピング （４） ロー接着 以上の（１）〜（４）の工程は、図１〜図２の（１）〜
（４）と同じである。
【００３２】（５） ＡＢＳ面レールパターン加工およ
びスライダ分離 ＡＢＳ面２８に溝切加工して、レールパターン３９を形
成する。また、ワークホルダ３６に接着したままロー２
２を溝切加工して個々のスライダ３８に分離する。
びスライダ分離 ＡＢＳ面２８に溝切加工して、レールパターン３９を形
成する。また、ワークホルダ３６に接着したままロー２
２を溝切加工して個々のスライダ３８に分離する。
【００３３】（６） スロートハイト研磨（ＡＢＳ面の
片面ラッピング） 前記図２の（５）と同様の方法でＡＢＳ面２８を片面ラ
ッピングして、スロートハイト加工する。これにより、
ＡＢＳ面２８と背面３０とで残留応力のバランスが崩
れ、加工中にＡＢＳ面２８が収縮し、スライダ３８が反
りを呈して、ＡＢＳ面２８が凹状となる。しかし、この
ＡＢＳ面２８の凹状の変形はこのスロートハイト加工自
体によって除去されて、平面となる。
片面ラッピング） 前記図２の（５）と同様の方法でＡＢＳ面２８を片面ラ
ッピングして、スロートハイト加工する。これにより、
ＡＢＳ面２８と背面３０とで残留応力のバランスが崩
れ、加工中にＡＢＳ面２８が収縮し、スライダ３８が反
りを呈して、ＡＢＳ面２８が凹状となる。しかし、この
ＡＢＳ面２８の凹状の変形はこのスロートハイト加工自
体によって除去されて、平面となる。
【００３４】（７） テーパ加工 前記図２（６）と同様にしてＡＢＳ面２８の空気流入側
を斜めに削って、テーパ面を形成する。
を斜めに削って、テーパ面を形成する。
【００３５】（８） 背面研磨（背面の片面ラッピン
グ） スロートハイト加工およびテーパ加工が終了したら、ス
ライダ３８をワークホルダー３６から外して、背面３０
を片面ラッピングする。背面３０の片面ラッピングは、
ここではロー２２をワークホルダーに接着しないで行な
っている。すなわち、ラップ定盤４４上にガイドリング
４６をその側面をガイドローラ４８で押さえた状態に載
置し、このガイドリング４６内にキャリア５６を収容
し、キャリア５６に形成された保持穴５８にスライダ３
８をその背面３０を下向にして保持し、スライダ３８の
上におもり５２を載せた状態（おもり５２の下面には、
スライダ３８になじむように、ゴムパッド５４が貼り付
けられている）にセットし、この状態でラッピング定盤
４４を回すことにより、スライダ３８の背面を研磨す
る。
グ） スロートハイト加工およびテーパ加工が終了したら、ス
ライダ３８をワークホルダー３６から外して、背面３０
を片面ラッピングする。背面３０の片面ラッピングは、
ここではロー２２をワークホルダーに接着しないで行な
っている。すなわち、ラップ定盤４４上にガイドリング
４６をその側面をガイドローラ４８で押さえた状態に載
置し、このガイドリング４６内にキャリア５６を収容
し、キャリア５６に形成された保持穴５８にスライダ３
８をその背面３０を下向にして保持し、スライダ３８の
上におもり５２を載せた状態（おもり５２の下面には、
スライダ３８になじむように、ゴムパッド５４が貼り付
けられている）にセットし、この状態でラッピング定盤
４４を回すことにより、スライダ３８の背面を研磨す
る。
【００３６】このとき、砥粒種類、定盤種類を選択する
ことにより、加工応力を設定する。砥粒としては例えば
ダイヤモンド１／２μｍを使用し、加工後の背面３０の
粗さＲａを例えば８オングストローム程度に平滑にす
る。微細な砥粒でラップすると、粗さの減少に伴い、加
工面（背面３０）の残留応力が減少するので、図９に示
すように、背面３０が収縮し、スライダ３８が逆方向に
反りを呈して、ＡＢＳ面２８に凸状（すなわちクラウン
形状）が形成される。以上により、ＡＢＳ面２８にクラ
ウンを形成した磁気ヘッド４０が完成する（この場合、
スライダ３８の反りによる背面３０の凹状は、このラッ
ピングにより削られて、背面３０は平坦になる。）。
ことにより、加工応力を設定する。砥粒としては例えば
ダイヤモンド１／２μｍを使用し、加工後の背面３０の
粗さＲａを例えば８オングストローム程度に平滑にす
る。微細な砥粒でラップすると、粗さの減少に伴い、加
工面（背面３０）の残留応力が減少するので、図９に示
すように、背面３０が収縮し、スライダ３８が逆方向に
反りを呈して、ＡＢＳ面２８に凸状（すなわちクラウン
形状）が形成される。以上により、ＡＢＳ面２８にクラ
ウンを形成した磁気ヘッド４０が完成する（この場合、
スライダ３８の反りによる背面３０の凹状は、このラッ
ピングにより削られて、背面３０は平坦になる。）。
【００３７】なお、背面研磨は、図８の方法に限らず、
前記ＡＢＳ面の研磨と同様に、ＡＢＳ面２８を治具に接
着した状態で行なうこともできる。
前記ＡＢＳ面の研磨と同様に、ＡＢＳ面２８を治具に接
着した状態で行なうこともできる。
【００３８】尚、前記実施例では、この発明を薄膜磁気
ヘッドに適用した場合について説明したが、モノリシッ
クヘッド、コンポジットヘッド、ＭＲ・薄膜複合磁気ヘ
ッド等各種の浮上型磁気ヘッドに適用することができ
る。
ヘッドに適用した場合について説明したが、モノリシッ
クヘッド、コンポジットヘッド、ＭＲ・薄膜複合磁気ヘ
ッド等各種の浮上型磁気ヘッドに適用することができ
る。
【００３９】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、個々のスライダに分離する前のローの状態でスライ
ダのＡＢＳ面およびその背面を両面ラッピング後、ＡＢ
Ｓ面を収縮を伴うように（すなわち、平滑度を高め
る。）片面ラッピングすることにより、ＡＢＳ面側が凹
状、背面側が凸状となるように全体が変形する。しか
し、この時ＡＢＳ面自体はラッピングにより凹状が削ら
れるので平坦状態が維持される。その後、背面を収縮を
伴うように片面ラッピングすることにより、ＡＢＳ面側
が凸状となるように全体が変形してＡＢＳ面にクラウン
が形成される。したがって、ＡＢＳ面を平滑にして（例
えば、Ｒａ＝５オングストローム以下）クラウンを形成
することができ、情報読み書きの信頼性を向上させるこ
とができる。
ば、個々のスライダに分離する前のローの状態でスライ
ダのＡＢＳ面およびその背面を両面ラッピング後、ＡＢ
Ｓ面を収縮を伴うように（すなわち、平滑度を高め
る。）片面ラッピングすることにより、ＡＢＳ面側が凹
状、背面側が凸状となるように全体が変形する。しか
し、この時ＡＢＳ面自体はラッピングにより凹状が削ら
れるので平坦状態が維持される。その後、背面を収縮を
伴うように片面ラッピングすることにより、ＡＢＳ面側
が凸状となるように全体が変形してＡＢＳ面にクラウン
が形成される。したがって、ＡＢＳ面を平滑にして（例
えば、Ｒａ＝５オングストローム以下）クラウンを形成
することができ、情報読み書きの信頼性を向上させるこ
とができる。
【００４０】また、個々のスライダに分離する前のロー
の状態でクラウン形成を行なうので、生産性が良好とな
る。
の状態でクラウン形成を行なうので、生産性が良好とな
る。
【００４１】
【００４２】また、ＡＢＳ面の片面ラッピングがスロー
トハイト加工を兼ねるので、別途スロートハイト加工が
不要になり、工程が簡素化されるとともに、別途スロー
トハイト加工することによるクラウン形状の変化が防止
される。
トハイト加工を兼ねるので、別途スロートハイト加工が
不要になり、工程が簡素化されるとともに、別途スロー
トハイト加工することによるクラウン形状の変化が防止
される。
【００４３】
【図１】 ローの状態でクラウン形成を行なう場合のこ
の発明の一実施例を示す工程図（図１〜図４で全工程終
了）である。
の発明の一実施例を示す工程図（図１〜図４で全工程終
了）である。
【図２】 図１の続きを示す工程図である。
【図３】 図２の続きを示す工程図である。
【図４】 図３の続きを示す工程図である。
【図５】 図２の工程（５）のスロートハイト加工動作
を示す図である。
を示す図である。
【図６】 図３の工程（７）の背面加工動作を示す図で
ある。
ある。
【図７】 ローを個々のスライダに分離した状態でクラ
ウン形成を行なう場合のこの発明の一実施例を示す工程
図（図７〜図８で全工程終了）である。
ウン形成を行なう場合のこの発明の一実施例を示す工程
図（図７〜図８で全工程終了）である。
【図８】 図７の続きを示す工程図である。
【図９】 図８の工程（８）の背面加工動作を示す図で
ある。
ある。
【図１０】 ＡＢＳ面をクラウン形状に形成した磁気ヘ
ッドを示す工程図である。
ッドを示す工程図である。
２１ 薄膜磁気ヘッド素子 ２２ ロー ２８ ＡＢＳ面 ３０ 背面 ３８ スライダ ３９ レールパターン ４０ 磁気ヘッド
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平６−84312（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−8125（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−298646（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−328372（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−20826（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G11B 5/60 G11B 21/21 101
Claims (2)
- 【請求項１】個々のスライダに分離する前のローの状態
で、当該スライダのＡＢＳ面およびその背面を両面ラッ
ピングして、当該ローを高い平行度と反りの少ない状態
に形成する工程と、 その後前記ＡＢＳ面をより平滑な平面に片面ラッピング
する工程であって、前記背面を接着剤で治具に接着し
て、当該片面ラッピングに伴う前記ＡＢＳ面の収縮によ
って生じる前記ローの反りを、該ローの反りに合わせて
前記接着剤が変形することによって許容した状態でかつ
当該ローの反りによって生じる前記ＡＢＳ面の凹状を当
該片面ラッピングで除去しながら当該片面ラッピングを
行う工程と、 その後前記背面をより平滑な面に片面ラッピングして当
該背面を収縮させて、この背面の収縮に伴う前記ローの
反りにより前記ＡＢＳ面を凸状に形成する工程と、 その後前記ローを個々のスライダに分離する工程とを具
える磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項２】前記磁気ヘッドが薄膜磁気ヘッドを具え、
前記ＡＢＳ面を片面ラッピングする工程が、当該薄膜磁
気ヘッドのスロートハイト加工工程を兼ねていることを
特徴とする請求項１記載の磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6145550A JP2790043B2 (ja) | 1994-06-03 | 1994-06-03 | 磁気ヘッドの製造方法 |
| US08/456,194 US5713123A (en) | 1994-06-03 | 1995-05-31 | Method of lapping for producing one-side curved surface adapted for floating magnetic head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6145550A JP2790043B2 (ja) | 1994-06-03 | 1994-06-03 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07334828A JPH07334828A (ja) | 1995-12-22 |
| JP2790043B2 true JP2790043B2 (ja) | 1998-08-27 |
Family
ID=15387775
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6145550A Expired - Lifetime JP2790043B2 (ja) | 1994-06-03 | 1994-06-03 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5713123A (ja) |
| JP (1) | JP2790043B2 (ja) |
Families Citing this family (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5951371A (en) * | 1996-11-04 | 1999-09-14 | Seagate Technology, Inc. | Multi-point bending of bars during fabrication of magnetic recording heads |
| USRE38340E1 (en) * | 1996-11-04 | 2003-12-02 | Seagate Technology Llc | Multi-point bending of bars during fabrication of magnetic recording heads |
| US6287170B1 (en) | 1996-12-13 | 2001-09-11 | Seagate Technology Llc | Multipoint bending apparatus for lapping heads of a data storage device |
| US6475064B2 (en) | 1996-12-13 | 2002-11-05 | Seagate Technology Llc | Multipoint bending apparatus for lapping heads of a data storage device |
| JP3466041B2 (ja) * | 1997-03-03 | 2003-11-10 | アルプス電気株式会社 | 磁気ヘッドおよびその製造方法 |
| JP3566075B2 (ja) * | 1997-12-17 | 2004-09-15 | Ｔｄｋ株式会社 | スライダの加工方法および装置 |
| US6080043A (en) * | 1998-08-11 | 2000-06-27 | International Business Machines Corporation | Apparatus and method for achieving positive crown during ABS lap |
| US6321440B1 (en) * | 1998-11-10 | 2001-11-27 | International Business Machines Corporation | Method for adjusting curvature of magnetic read/write head sliders |
| CN1146866C (zh) | 1998-11-17 | 2004-04-21 | 阿尔卑斯电气株式会社 | 浮起式磁头的冠顶形成方法及冠顶形成装置 |
| US6663817B1 (en) | 1999-03-26 | 2003-12-16 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands, B.V. | Method for manufacture of sliders |
| US6602108B2 (en) | 1999-04-02 | 2003-08-05 | Engis Corporation | Modular controlled platen preparation system and method |
| US6585559B1 (en) | 1999-04-02 | 2003-07-01 | Engis Corporation | Modular controlled platen preparation system and method |
| US6226151B1 (en) * | 1999-04-29 | 2001-05-01 | Maxtor Corporation | Contact slider for magneto-resistive heads |
| US6312313B1 (en) | 1999-10-06 | 2001-11-06 | Intenational Business Machines Corporation | Non-linear transducer lay-out of thin film head wafer for fabrication of high camber and crown sliders |
| US6710295B1 (en) * | 2000-06-15 | 2004-03-23 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands, B.V. | Slider curvature modification by substrate melting effect produced with a pulsed laser beam |
| JP4042347B2 (ja) * | 2001-05-18 | 2008-02-06 | 新科實業有限公司 | 磁気ヘッドスライダの浮上面形状加工方法及び磁気ヘッドスライダの製造方法 |
| US6631548B2 (en) | 2001-07-27 | 2003-10-14 | International Business Machines Corporation | Simultaneous slider crown and camber adjust by scribe line control |
| US6888701B2 (en) | 2001-07-27 | 2005-05-03 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Enhanced twist adjust range with scribed lines for slider curvature adjust |
| US20030021067A1 (en) * | 2001-07-27 | 2003-01-30 | Ping-Wei Chang | Control of twist, crown and camber for sliders using location sensitive scribing |
| JP4504902B2 (ja) * | 2005-10-28 | 2010-07-14 | ヒタチグローバルストレージテクノロジーズネザーランドビーブイ | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
| US8286334B2 (en) * | 2006-07-14 | 2012-10-16 | Hitachi Global Storage Technologies, Netherlands B.V. | Method of manufacturing pre-sliders for read write heads by annealing to saturation |
| US20130219699A1 (en) | 2012-02-29 | 2013-08-29 | Sae Magnetics (H.K.) Ltd. | Manufacturing method of a slider and manufacturing apparatus thereof |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3685216A (en) * | 1970-01-14 | 1972-08-22 | Honeywell Inc | Slider bearing surface generation |
| US4333229A (en) * | 1980-07-21 | 1982-06-08 | Memorex Corporation | Method of manufacturing thin film magnetic head/slider combination |
| US4420780A (en) * | 1981-08-17 | 1983-12-13 | International Business Machines | Self-loading magnetic head air bearing slider |
| US5136445A (en) * | 1990-08-31 | 1992-08-04 | Seagate Technology, Inc. | Air bearing slider design |
| JP3126164B2 (ja) * | 1991-04-23 | 2001-01-22 | シチズン時計株式会社 | 磁気ヘッドスライダの加工方法 |
| JPH04328372A (ja) * | 1991-04-26 | 1992-11-17 | Kyocera Corp | 複合型浮上磁気ヘッドの製造方法 |
| JPH0828086B2 (ja) * | 1991-06-04 | 1996-03-21 | 富士通株式会社 | 磁気ヘッドスライダの製造装置及び製造方法 |
| JP2859468B2 (ja) * | 1991-07-09 | 1999-02-17 | アルプス電気株式会社 | 磁気ヘッドおよび磁気ヘッドの製造方法 |
| US5266769A (en) * | 1992-02-25 | 1993-11-30 | International Business Machines Corporation | Process for independent control of crown and camber for magnetic head slider |
| JP2808208B2 (ja) * | 1992-04-15 | 1998-10-08 | 富士通株式会社 | 磁気ヘッドの製造方法 |
| US5442850A (en) * | 1993-11-01 | 1995-08-22 | International Business Machines Corporation | Magnetic head slider process |
-
1994
- 1994-06-03 JP JP6145550A patent/JP2790043B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1995
- 1995-05-31 US US08/456,194 patent/US5713123A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07334828A (ja) | 1995-12-22 |
| US5713123A (en) | 1998-02-03 |
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