JP2007115954A - 多層プリント配線基板及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】フィルム102a、102bを使った複数枚の両面基板114a、114bを、途中にプリプレグ118に形成された貫通孔122に導電性ペースト124が充填されたペースト接続層116を介して張り合わせると共に、前記ペースト接続層116に予め形成しておいた貫通孔122の充填したIVH112によって内層配線106a、106b同士を電気的に接続し、更にスキップビア108を形成することで、接着剤を使うことなく薄層化に対応でき、設計自由度の高い多層基板を提供することができる。
【選択図】図1
Description
以下、本発明の実施の形態1における多層基板について、図面を参照しながら説明する。
以下、本発明の実施の形態2における多層基板の製造方法について説明する。実施の形態2は4層基板の製造方法の一例であり、例えば実施の形態1で説明した4層基板の製造方法の一例に相当する。図2、図3、図4は実施の形態2における4層基板の製造方法を説明する断面図である。
以下、本発明の実施の形態3における多層基板について、図面を参照しながら説明する。実施の形態1と実施の形態3の違いは、スキップビアの形成された面数(実施の形態1では1面、実施の形態2では両面)である。
以下、本発明の実施の形態4について図面を参照しながら説明する。実施の形態4では、フィルムと金属膜の密着性を高めた例について説明する。
以下、本発明の実施の形態5について図面を参照しながら説明する。実施の形態5では、フィルムの上に多層からなる金属層が形成された、両面銅張り基板もしくはCCL((Copper Clad Laminate)を用いた場合について説明する。
以下、本発明の形態6について図面を参照しながら説明する。実施の形態6では、実施の形態5で説明した多層基板の製造方法の一例について説明する。実施の形態6では、例えば両面銅張りフィルム(もしくはCCL)を用いた場合について説明する。
次に実施の形態7について説明する。実施の形態7では、フィルム上への下地金属130の形成方法について説明する。下地電極130の形成方法としては、実施の形態6で説明しためっき法以外に、薄膜法も使うことができる。そこで、実施の形態6で用いた図を再度使って説明する。まず図9(C)のようなサンプルを形成する。ここでスキップ穴126a、126bの形成方法としては、YAG、CO2等のレーザー装置を使うことができる。スキップ穴126a、126b等の表面への金属膜130の形成方法としては、最初にNiCr等の下地層(シード層と呼ばれることもある)を10〜50Å程度形成し、この上に銅を電気めっきしても良い。あるいはシード層無しにフィルム102上に銅を無電解めっきしても良い。あるいはフィルム102上に薄膜法(電子ビーム、スパッタ他)を用いて、直接銅を析出(デポジション)しても良い。なおこれらの場合、その厚みが10Å以上(望ましくは電気めっきに使える程度の導電性が得られる程度)あれば、その導電性を利用してその上に銅を電気めっきで配線に必要な厚み(例えば5〜30μm、薄層化が必要な場合3〜15μm程度が望ましい)として形成できる。このようにシード層(あるいは金属下地)を使う、あるいは金属膜の形成方法を工夫することで、フィルム102に対する部材の密着力を高められる。
104 表層配線
106 内層配線
108 スキップビア
110 絶縁層
112 IVH
114 層間接続部
116 ペースト接続層
118 プリプレグ
120 保護フィルム
122 貫通孔
124 導電性ペースト
126 スキップ穴
128 金属膜
130 下地金属
132 銅箔
Claims (9)
- 少なくとも3層の絶縁層を有し、表層から数えて2層目に形成された2層目絶縁層は、それを貫通する電気的接続が導電性ペーストであるペースト接続層となっており、
表層から数えて1層目に形成された1層目配線と、表層から数えて3層目に形成された3層目配線とが、前記ペースト接続層を貫通するスキップビアで電気的に接続され、
表層から数えて2層目に形成された2層目配線と、表層から3層目に形成された3層目配線とが前記ペースト接続層に埋設されていることを特徴とする多層プリント配線基板。 - ペースト接続層は、プリプレグと前記プリプレグに形成された貫通孔に充填された導電性ペーストとからなる請求項1に記載の多層プリント配線基板。
- 樹脂フィルムからなる表層から数えて1層目の1層目絶縁層と、前記1層目絶縁層表面に接着剤を介することなく形成された配線と、を有する請求項1に記載の多層プリント配線基板。
- 前記プリプレグは、ガラスエポキシもしくはアラミドエポキシである請求項1から5のいずれか一つに記載の多層プリント配線基板。
- 表層から数えて1層目に形成された1層目配線、及び表層から数えて2層目に形成された2層目配線の少なくとも一方は、スパッタ膜を介して、表層から数えて1層目の1層目絶縁層に固定されている請求項1に記載の多層プリント配線基板。
- 表層から数えて1層目に形成された1層目配線、及び表層から数えて2層目に形成された2層目配線の少なくとも一方は、めっき膜を介して、表層から数えて1層目の1層目絶縁層に固定されている請求項1に記載の多層プリント配線基板。
- ペースト接続層を貫通するスキップビア部分での電気的接続は、めっきで行われている請求項1に記載の多層プリント配線基板。
- 絶縁基材に貫通孔を加工する孔加工工程と、
前記貫通孔に導電性ペーストを充填してペースト接続層を形成するペースト接続層形成工程と、
両面基板を作成する両面基板作成工程と、
前記ペースト接続層の表裏面に前記両面基板を積層する積層工程と、
前記積層体を熱プレス加工する熱プレス工程と、
を少なくとも備えた多層プリント配線基板の製造方法。 - 前記層間接続形成工程は、
少なくともスキップビア穴を形成する孔加工工程と、
前記スキップビア穴にめっきを施すめっき工程と、
からなる請求項8に記載の多層プリント配線基板の製造方法。
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