JP2014204088A - 多層配線基板およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】配線効率の向上により小型化を図り、工程の簡単化によりコスト低減を図る。
【解決手段】多層配線基板100は、両面配線基板110と、その両面に配置された第1片面配線基板120および第2片面配線基板130とを備える。両面配線基板110は、内部が積層方向に貫通しためっきビア114が形成されている。第1片面配線基板120は、両面配線基板110の一方の面側に積層された第2絶縁層140を有し、第2絶縁層140の両面配線基板と反対側の面に第3配線層122が形成されている。第2片面配線基板130は、両面配線基板110の他方の面側に積層された第3絶縁層150を有し、第3絶縁層150の両面配線基板と反対側の面に第4配線層132が形成されている。導電性ペーストビア160は、両面配線基板110のめっきビア114の内部に充填され両端が第3配線層122および第4配線層132と接続されている。
【選択図】図1
【解決手段】多層配線基板100は、両面配線基板110と、その両面に配置された第1片面配線基板120および第2片面配線基板130とを備える。両面配線基板110は、内部が積層方向に貫通しためっきビア114が形成されている。第1片面配線基板120は、両面配線基板110の一方の面側に積層された第2絶縁層140を有し、第2絶縁層140の両面配線基板と反対側の面に第3配線層122が形成されている。第2片面配線基板130は、両面配線基板110の他方の面側に積層された第3絶縁層150を有し、第3絶縁層150の両面配線基板と反対側の面に第4配線層132が形成されている。導電性ペーストビア160は、両面配線基板110のめっきビア114の内部に充填され両端が第3配線層122および第4配線層132と接続されている。
【選択図】図1
Description
この発明は、2層以上の配線層を有し、層間導通用ビアをそれぞれ一つ以上有する多層配線基板およびその製造方法に関する。
配線層を複数層有する多層配線基板においては、各層間の導通を図るために、各層にビアホールを形成し、めっきによるビア配線(以下、「めっきビア」と呼ぶ。)を形成し、順次各層を積み重ねていくビルドアップ工法が知られている。この工法では、例えばポリイミド樹脂フィルム等からなる絶縁層の両面に銅箔が設けられた両面銅張板(CCL:Copper Clad Laminate)からなる両面配線基板に、レーザ等によってスルーホールを形成したのち、炭素のコロイド溶液などに浸漬させることによりスルーホールの内部に給電層を形成する。次いで、給電層を用いて両面配線基板全体に銅めっきを施し、表裏の銅箔を導通させ、エッチングによって回路パターンを形成する。その後、両面配線基板の上下に、片面配線基板を層間接着材を介して積層し、所望の箇所に再びレーザ等でビアホールを形成し、更に同様の工程によりめっきビアを形成して多層配線基板を製造する。
このような多層配線基板は、内層側のめっきビアは開口されているため、その直上に外層側のめっきビアを形成すると、内層側のビアホールと外層側のビアホールとの接続部位を確保することができない。このため、一般的には、内層側のめっきビアと外層側のめっきビアとは、面方向にずらして形成する必要があり、配線効率が悪く、基板の小型化を図ることができないという欠点があった。
そこで、内層側の両面配線機板のめっきビアに穴埋め材を充填すると共に、穴埋め材の両端に再度めっきにより導体層を形成することにより、スルーホールの直上に外層側のビアを形成可能にした多層配線基板も知られている(特許文献1)。
しかし、上述した多層配線基板では、スルーホールにめっきを施してめっきビアを形成した後に、めっきビア部分に穴埋め材を充填し、更にその上にめっきで蓋をする必要があり、工程が複雑且つ高度で高コストになるという問題がある。
本発明は、配線効率が良好で小型化を図ることができ、且つ工程が簡単でコスト低減を図ることができる多層配線基板およびその製造方法を提供することを目的とする。
本発明に係る第1の多層配線基板は、第1絶縁層の両面に第1配線層および第2配線層がそれぞれ形成されると共に、前記第1絶縁層、前記第1配線層及び前記第2配線層を貫通する貫通孔が形成され、前記貫通孔に前記第1配線層および第2配線層を接続する、内部が積層方向に貫通しためっきビアが形成された両面配線基板と、前記両面配線基板の一方の面側に積層された第2絶縁層を有し、前記第2絶縁層の前記両面配線基板と反対側の面に第3配線層が形成された第1片面配線基板と、前記両面配線基板の他方の面側に積層された第3絶縁層を有し、前記第3絶縁層の前記両面配線基板と反対側の面に第4配線層が形成された第2片面配線基板と、前記両面配線基板のめっきビアの内部に充填されて前記第1配線層及び第2配線層を接続すると共に、前記第2絶縁層および前記第3絶縁層を貫通して両端が前記第3配線層および前記第4配線層と接続された導電性ペーストビアとを有することを特徴とする。
本発明に係る第2の多層配線基板は、第1絶縁層の両面に第1配線層および第2配線層がそれぞれ形成されると共に、前記第1配線層を開口とし前記第1絶縁層を前記開口から前記第2配線層まで掘り下げた凹部が形成され、前記凹部の内面に前記第1配線層および第2配線層を接続する、前記第1配線層の側が開口した凹部状のめっきビアが形成された両面配線基板と、前記両面配線基板の一方の面側に積層された第2絶縁層を有し、前記第2絶縁層の前記両面配線基板と反対側の面に第3配線層が形成された第1片面配線基板と、前記両面配線基板の他方の面側に積層された第3絶縁層を有し、前記第3絶縁層の前記両面配線基板と反対側の面に第4配線層が形成された第2片面配線基板と、前記両面配線基板のめっきビアの内部に充填されて前記第1配線層及び第2配線層を接続すると共に、前記めっきビアの開口側の端部が積層方向に延びて前記第2絶縁層を貫通して前記第3配線層と接続された第1の導電性ペーストビアと、前記めっきビアと同一平面方向位置で前記第3絶縁層を貫通して前記第2配線層と前記第4配線層とを接続する第2の導電性ペーストビアとを有することを特徴とする。
本発明に係る多層配線基板によれば、両面配線基板に第1絶縁層を貫通して第1配線層及び第2配線層が導通するように形成されためっきビアの内部に導電性ペーストビアが充填され、さらにこの導電性ペーストビアは、その一端が第2絶縁層を貫通して第3配線層の第2絶縁層側の面に接続されているので、ビアを一箇所に集中させることができる。このため、配線効率が良好で、基板サイズを小型化することができる。また、めっきビアの内部に導電性ペーストビアが充填されているので、第1配線層及び第2配線層の接続信頼性も高い。
本発明の一つの実施形態では、前記めっきビアは、前記第1配線層及び前記第2配線層のいずれの側も開口した貫通孔を形成し、導電性ペーストビアは、前記貫通孔から両端が積層方向に延びて前記第2絶縁層および前記第3絶縁層を貫通して、前記第3配線層および前記第4配線層と接続されている。これにより、第1配線層〜第4配線層は、一箇所に形成された導電性ペーストビアによって相互に接続されるので、より配線効率を高めることができる。
また、本発明の他の実施形態では、前記めっきビアは、前記第1配線層の側が開口し、前記第2配線層の側が閉じた凹部を形成し、前記導電性ペーストビアは、前記凹部から一端が積層方向に延びて前記第2絶縁層を貫通して、前記第3配線層と接続されている。この場合にも、第1配線層〜第4配線層は、一箇所に形成された導電性ペーストビアによって相互に接続されるので、より配線効率を高めることができる。
本発明に係る第1の多層配線機板の製造方法は、第1絶縁層の両面に第1配線層および第2配線層がそれぞれ形成された両面配線基板に貫通孔を形成する工程と、前記両面配線基板に前記貫通孔を介して前記第1配線層及び前記第2配線層を接続するめっき層を形成する工程と、前記第1配線層、前記第2配線層及び前記めっき層を選択的に除去して所定のパターンに形成すると共に、前記貫通孔にめっきビアを形成する工程と、第2絶縁層の一方の面に所定のパターンの第3配線層を形成して第1片面配線基板を製造する工程と、前記第1片面配線基板の前記第3配線層と反対側の面に接着材を積層する工程と、前記第1片面配線基板の前記接着材および前記第2絶縁層を前記接着材側から穿孔して前記第3配線層まで貫通する孔を形成し、この孔に前記接着材側の端部が突出するように導電性ペーストを充填する工程と、3絶縁層の一方の面に所定のパターンの第4配線層を形成して第2片面配線基板を製造する工程と、前記第2片面配線基板の前記第4配線層と反対側の面に接着材を積層する工程と、前記第2片面配線基板の前記接着材および前記第3絶縁層を前記接着材側から穿孔して前記第4配線層まで貫通する孔を形成し、この孔に前記接着材側の端部が突出するように導電性ペーストを充填する工程と、前記両面配線基板の両面に、前記第1片面配線基板と前記第2片面配線基板とを、それらの導電性ペーストが前記両面配線基板のめっきビアの内側に対向する位置に配置して、前記めっきビアの内側に前記導電性ペーストが充填されるように、前記両面配線基板、前記第1片面配線基板および前記第2片面配線基板を前記接着材を介して熱圧着して一括積層する工程とを有することを特徴とする。
また、本発明に係る第2の多層配線機板の製造方法は、第1絶縁層の両面に第1配線層および第2配線層がそれぞれ形成された両面配線基板に前記第1配線層側が開口し、前記第2配線層の側が閉じた凹部を形成する工程と、前記両面配線基板に前記凹部を介して前記第1配線層及び前記第2配線層を接続するめっき層を形成する工程と、前記第1配線層、前記第2配線層及び前記めっき層を選択的に除去して所定のパターンに形成すると共に、前記凹部にめっきビアを形成する工程と、第2絶縁層の一方の面に所定のパターンの第3配線層を形成して第1片面配線基板を製造する工程と、前記第1片面配線基板の前記第3配線層と反対側の面に接着材を積層する工程と、前記第1片面配線基板の前記接着材および前記第2絶縁層を前記接着材側から穿孔して前記第3配線層まで貫通する孔を形成し、この孔に前記接着材側の端部が突出するように導電性ペーストを充填する工程と、第3絶縁層の一方の面に所定のパターンの第4配線層を形成して第2片面配線基板を製造する工程と、前記第2片面配線基板の前記第4配線層と反対側の面に接着材を積層する工程と、前記第2片面配線基板の前記接着材および前記第3絶縁層を前記接着材側から穿孔して前記第4配線層まで貫通する孔を形成し、この孔に前記接着材側の端部が突出するように導電性ペーストを充填する工程と、前記両面配線基板の両面に、前記第1片面配線基板と前記第2片面配線基板とを、前記第1片面配線基板の導電性ペーストが前記両面配線基板のめっきビアの凹部の開口と対向し、前記第2片面配線基板の導電性ペーストが前記両面配線基板のめっきビアの凹部の底部と対向する位置に配置して、前記めっきビアの内側に前記第1片面配線基板の導電性ペーストが充填されるように、前記両面配線基板、前記第1片面配線基板および前記第2片面配線基板を前記接着材を介して熱圧着して一括積層する工程とを有することを特徴とする。
これらの多層配線機板の製造方法によれば、両面配線機板、第1片面配線基板および第2片面配線機板の熱圧着による一括積層方式であるから、製造工程が容易であり、しかも、両面配線基板、第1片面配線基板および第2片面配線基板をそれぞれ並行して作成することができるので、ビルドアップ方式に比べると多層配線基板の製造時間も短縮可能である。
本発明によれば、配線効率が良好で小型化を図ることができ、且つ工程が簡単でコスト低減を図ることができる多層配線基板およびその製造方法を提供することかできる。
以下、添付の図面を参照して、この発明の実施形態に係る多層配線基板およびその製造方法について詳細に説明する。
先ず、本発明の第1の実施形態に係る多層配線基板について説明する。
図1は、第1の実施形態に係る多層配線基板の構造を示す断面図である。
図1に示すように、多層配線基板100は、両面配線基板110と、この両面配線基板110の両面に配置された第1片面配線基板120および第2片面配線基板130とを、接着材140,150を介して熱圧着により一括積層して形成されたものである。両面配線基板110は、例えば第1絶縁層111の両面に第1配線層112および第2配線層113が形成されたものである。両面配線基板110には、これら第1絶縁層111並びに第1および第2配線層112,113を貫通し、第1および第2配線層112,113を電気的に接続するめっきビア114が形成されている。
先ず、本発明の第1の実施形態に係る多層配線基板について説明する。
図1は、第1の実施形態に係る多層配線基板の構造を示す断面図である。
図1に示すように、多層配線基板100は、両面配線基板110と、この両面配線基板110の両面に配置された第1片面配線基板120および第2片面配線基板130とを、接着材140,150を介して熱圧着により一括積層して形成されたものである。両面配線基板110は、例えば第1絶縁層111の両面に第1配線層112および第2配線層113が形成されたものである。両面配線基板110には、これら第1絶縁層111並びに第1および第2配線層112,113を貫通し、第1および第2配線層112,113を電気的に接続するめっきビア114が形成されている。
第1片面配線基板120は、第2絶縁層121と、この第2絶縁層121の両面配線基板110と反対側に形成された第3配線層122とを備えて構成されている。また、第2片面配線基板130は、第3絶縁層131と、この第3絶縁層131の両面配線基板110と反対側に形成された第4配線層132とを備えて構成されている。そして、両面配線基板110、第1および第2片面配線基板120,130には、これらを貫通し、第3配線層122および第4配線層132の間を接続すると共に、めっきビア114の内部に充填された導電性ペーストビア160が形成されている。
このように構成された多層配線基板100によれば、導電性ペーストビア160が両面配線基板110、並びに第1および第2片面配線基板120,130の3層に亘って、同一の平面方向位置に配置されているので、配線効率が高く、多層配線基板100全体を小型化することかできる。
次に、本実施形態に係る多層配線基板100の製造方法について説明する。
図2〜図4は、本実施形態に係る多層配線基板100を製造工程順に示す断面図で、図2は両面配線基板110の製造工程を示す断面図、図3は片面配線基板120の製造方法を示す断面図、図4は両面配線基板110および片面配線基板120,130を使用した多層配線基板100の製造工程を示す断面図である。
図2〜図4は、本実施形態に係る多層配線基板100を製造工程順に示す断面図で、図2は両面配線基板110の製造工程を示す断面図、図3は片面配線基板120の製造方法を示す断面図、図4は両面配線基板110および片面配線基板120,130を使用した多層配線基板100の製造工程を示す断面図である。
まず、図2を参照して両面配線基板110の製造方法を説明する。
図2(a)に示すように、例えば50μm厚のポリイミド樹脂フィルム等からなる第1絶縁層111aの両面に、例えば12μm厚の銅箔からなる第1配線層112aおよび第2配線層113aが貼り付けられた両面銅張板(CCL: Copper Clad Laminate)からなる両面配線基板110aを準備する。なお、この両面配線基板110aには、銅箔にポリイミドワニスを塗布して硬化させる、いわゆるキャスティング法により作成されたCCLを使用することもできるし、ポリイミドフィルム上にシード層をスパッタにより形成し、めっきにより銅層を成長させたCCL、圧延や電解銅箔とポリイミドフィルムを接着剤によって貼りあわせたもの等を使用するようにしても良い。また、第1絶縁層111aとしては、ポリイミドの他に、液晶ポリマ等のプラスチックフィルムを使用することもできる。
図2(a)に示すように、例えば50μm厚のポリイミド樹脂フィルム等からなる第1絶縁層111aの両面に、例えば12μm厚の銅箔からなる第1配線層112aおよび第2配線層113aが貼り付けられた両面銅張板(CCL: Copper Clad Laminate)からなる両面配線基板110aを準備する。なお、この両面配線基板110aには、銅箔にポリイミドワニスを塗布して硬化させる、いわゆるキャスティング法により作成されたCCLを使用することもできるし、ポリイミドフィルム上にシード層をスパッタにより形成し、めっきにより銅層を成長させたCCL、圧延や電解銅箔とポリイミドフィルムを接着剤によって貼りあわせたもの等を使用するようにしても良い。また、第1絶縁層111aとしては、ポリイミドの他に、液晶ポリマ等のプラスチックフィルムを使用することもできる。
次に、図2(b)に示すように、例えばYAGレーザ等により、両面配線基板110aに、例えば直径100μmの貫通孔110bを開口し、CF4およびO2の混合ガスによるプラズマデスミア処理を施す。なお、使用するレーザは、YAGレーザの他に、炭酸ガスレーザ、エキシマレーザ等を使用することもできる。また、貫通孔110bは、レーザ以外にも、ドリル加工や化学的なエッチングにより形成しても良い。デスミア処理で使用されるガスは、CF4およびO2の混合ガスの他に、Arガス等、その他の不活性ガスを使用することもできる。また、ドライ処理ではなく、薬液を用いたウェットデスミア処理を行うようにしても良い。
次に、図2(c)に示すように、貫通孔110bが形成された両面配線基板110aを、炭素のコロイド溶液等に浸漬させることにより、貫通孔110bの内面を含めた両面配線基板110aの表面に図示しない給電層を形成し、両面配線基板110aの表面全体に厚さ10μmの銅めっき層114aを形成する。これにより、両面配線基板110aの上下の配線層112a,112bが貫通孔110bの内面に形成された銅めっき層114aによって導通する。
次に、図2(d)に示すように、めっき済みの両面配線基板110aの銅めっき層114a上に、フォトリソグラフィにより図示しないエッチングレジストをパターン形成した後、例えば塩化第二鉄を主成分とするエッチャントを用いて、化学エッチング法により第1配線層112、第2配線層113およびめっきビア114を形成する。なお、銅のエッチャントは、塩化第二鉄を主成分とするものの他に、塩化第二銅を主成分とするものを用いても良い。以上の工程により、両面配線基板110が形成される。
次に、図3を参照して第1片面配線基板120の製造方法について説明する。なお、第2片面配線基板130の製造方法も第1片面配線基板120の製造方法と同じであるため、第2片面配線基板130の製造工程については、その詳しい説明を割愛する。
まず、図3(a)に示すように、例えば25μm厚のポリイミド樹脂フィルム等からなる第2絶縁層121の片面に、例えば12μm厚の銅箔からなる第3配線層122aが貼り付けられた片面銅張板(片面CCL)からなる第1片面配線基板120aを準備する。なお、この第1片面配線基板120aにも、銅箔にポリイミドワニスを塗布して硬化させる、いわゆるキャスティング法により作成されたCCLを使用することもできるし、ポリイミドフィルム上にシード層をスパッタにより形成し、めっきにより銅層を成長させたCCL、圧延や電解銅箔とポリイミドフィルムを接着材によって貼りあわせたもの等を使用するようにしても良い。また、第2絶縁層121としては、ポリイミドの他に、PETやPEN等のプラスチックフィルムを使用することもできるし、UV照射によって接着や剥離が可能なフィルムを使用することもできる。
次に、図3(b)に示すように、図2(d)と同様の化学エッチング法により、第3配線層122aをエッチングして、所定のパターンの第3配線層122を形成する。続いて、図3(c)に示すように、第1片面配線基板120aの第3配線層122とは反対側の面に、接着材140およびマスクフィルム123を加熱圧着により貼りあわせる。接着材140としては、例えば25μm厚のエポキシ系熱硬化性フィルム接着材を使用することができる。加熱圧着には、真空ラミネータを用いることができる。第1片面配線基板120a、接着材140およびマスクフィルム123は、減圧下の雰囲気中にて、接着材の硬化温度以下の温度で、例えば0.3MPaの圧力でプレスすることにより貼り合わせすることができる。なお、使用する接着材140としては、エポキシ系熱硬化性フィルム接着材の他、アクリル系接着材、熱可塑性ポリイミドに代表される熱可塑性接着材を用いることもできる。
次に、図3(d)に示すように、第1片面配線基板120aのマスクフィルム123側から上述したレーザ照射等により、第3配線層122をストッパとして、マスクフィルム123、接着材140および第2絶縁層121を開口し、凹部120bを形成する。
そして、形成された凹部120b内に、印刷法により導電性ペーストを充填した後、マスクフィルム123を剥離して、図3(e)に示すような、先端が突出した導電性ペーストビア160aを形成する。これにより、第1片面配線基板120が出来上がる。なお、導電性ペーストとしては、例えば、金、銀および銅から選択される少なくとも1種類の低電気抵抗の金属粒子と、錫、ビスマス、インジウム、鉛から選択される少なくとも1種の低融点金属粒子を含み、エポキシ樹脂を主成分とするバインダ成分を混合したペーストを用いることができる。
ここで、導電性ペーストビア160aの先端の突起は、凹部120bの開口径とマスクフィルム123の厚さから形成される体積Aを有しており、一例としてその量は両面配線基板110の貫通孔110bの体積Bの1/2程度である。また、図3(e)に示すように、導電性ペーストビア160aの突起の体積Aと、接着材140および第2絶縁層121に埋め込まれている部分の体積Cとの比は、一例としてA:C=1:2である。これらの体積比は、上述の例のように、両面配線基板110の第1絶縁層111の厚さを50μm、第1片面配線基板120の第2絶縁層121、接着材140およびマスクフィルムの厚さを、それぞれ25μmとし、両面配線基板110の貫通孔110bおよび片面配線基板130の凹部120bの径をそれぞれ100μmと設定することで、比較的容易に実現可能である。
なお、導電性ペーストビア160aは、後のキュアプレス工程時にプレス圧力により堆積が圧縮されることによって合金化が効率良く達成され、ビアの接続信頼性が向上する。この場合、2A≧Bの関係であれば、合金化が効率良く進む。
図4は、最終工程を示す断面図である。図4に示すように、上述した工程で作成された両面配線基板110の両面に、1または複数の第1片面配線基板120および第2片面配線基板130を位置決めして積層し、仮固定した後、真空キュアプレス機を用いて、1kPa以下の減圧雰囲気中でこれらを加熱圧着することにより、第1片面配線基板120に埋め込まれている導電性ペーストビア160aと、第2片面配線基板130に埋め込まれている導電性ペーストビア160bが、両面配線基板110の貫通孔110b内で一体化して導電性ペーストビア160となる。これにより、本実施形態に係る多層配線基板100が完成する。なお、上記キュアプレス工程では、接着材140と埋め込み材料(第1〜第3絶縁層111,121,131等)の硬化と、導電性ペーストビア160の硬化および接触部の合金化とを同時に実現することができる。
この実施形態によれば、両面配線基板110の貫通孔110b内に導電性ペーストビア160が充填され、さらにこの導電性ペーストビア160は、両面配線基板110の両面に配置された第1片面配線基板120および第2片面配線基板130も貫通するビア配線となるので、ビアを一箇所に集中させることができる。このため、配線効率が良好で、基板サイズを小型化することができる。
また、本実施形態に係る多層配線基板100によれば、両面配線基板110のめっきビア114で囲まれたビアホール110b内に導電性ペーストビア160が充填される構成となっているので、導電性ペーストビア160とめっきビア114との接触面積が広くとれ、両面配線基板110の配線層112,113と上下の片面配線基板120,130の配線層122,132との導通状態も極めて良好になる。
更に、本実施形態に係る多層配線基板100の製造方法によれば、熱圧着による一括積層方式であるから、製造工程が容易であり、しかも、両面配線基板110、第1片面配線基板120および第2片面配線基板130をそれぞれ並行して作成することができるので、ビルドアップ方式に比べると多層配線基板の製造時間も短縮可能である。これにより、コスト低減を図ることができる。
図5は、本発明の第2の実施形態に係る多層配線基板200の構成を示す断面図である。この実施形態が第1の実施形態に係る多層配線基板100と異なる点は、積層方向の中間に位置する両面配線基板210の構成である。この実施形態では、両面配線基板210が、貫通孔ではなく、一方が開口、他方が塞がれた凹部を形成している点が第1の実施形態と異なっている。
すなわち、多層配線基板200は、両面配線基板210と、この両面配線基板210の両面に配置された第1片面配線基板120および第2片面配線基板130とを、接着材140,150を介して熱圧着により一括積層して形成されたものである。両面配線基板210は、例えば第1絶縁層211の両面に第1配線層212および第2配線層213が形成されたものである。両面配線基板210には、これら第1絶縁層211および第1配線層212を貫通し、第1および第2配線層212,213を電気的に接続する凹部状のめっきビア214が形成されている。また、第2配線層212のめっきビア214と反対側には、めっき配線層215が形成され、これが第2配線層212と共に凹部の底部を形成している。めっきビア214の凹部の内部には、第1片面配線基板120の導電性ペーストビア160aが充填されている。凹部の反対側のめっき配線層215側には、第1片面配線基板120の導電性ペーストビア160aと同一の平面方向位置に、第2片面配線基板130の導電性ペーストビア160bが接続されている。
この実施形態においても、導電性ペーストビア160a,160bが一箇所に集中しているので、配線効率が高い。また、導電性ペーストビア160aとめっきビア214の接触面積は、先の実施形態よりも広いので、両者の接続信頼性は更に高い。
図6はおよび図7は、この第2の実施形態に係る多層配線基板200の製造工程を示す断面図である。図6は両面配線基板210の製造工程を示し、図7は多層配線基板200の製造工程を示している。
まず、図6を参照して両面配線基板210の製造方法を説明する。
図6(a)に示すように、例えば25μm厚のポリイミド樹脂フィルム等からなる第1絶縁層211の両面に、例えば12μm厚の銅箔からなる第1配線層212aおよび第2配線層213aが貼り付けられた両面銅張板(CCL: Copper Clad Laminate)からなる両面配線基板210aを準備する。なお、この両面配線基板210aには、銅箔にポリイミドワニスを塗布して硬化させる、いわゆるキャスティング法により作成されたCCLを使用することもできるし、ポリイミドフィルム上にシード層をスパッタにより形成し、めっきにより銅層を成長させたCCL、圧延や電解銅箔とポリイミドフィルムを接着材によって貼りあわせたものを使用するようにしても良い。また、第1絶縁層211としては、ポリイミドの他に、液晶ポリマ等のプラスチックフィルムを使用することもできる。
図6(a)に示すように、例えば25μm厚のポリイミド樹脂フィルム等からなる第1絶縁層211の両面に、例えば12μm厚の銅箔からなる第1配線層212aおよび第2配線層213aが貼り付けられた両面銅張板(CCL: Copper Clad Laminate)からなる両面配線基板210aを準備する。なお、この両面配線基板210aには、銅箔にポリイミドワニスを塗布して硬化させる、いわゆるキャスティング法により作成されたCCLを使用することもできるし、ポリイミドフィルム上にシード層をスパッタにより形成し、めっきにより銅層を成長させたCCL、圧延や電解銅箔とポリイミドフィルムを接着材によって貼りあわせたものを使用するようにしても良い。また、第1絶縁層211としては、ポリイミドの他に、液晶ポリマ等のプラスチックフィルムを使用することもできる。
次に、図6(b)に示すように、例えばYAGレーザ等により、両面配線基板210aの第1配線層212aおよび第1絶縁層211に、第2配線層213aの表面に至る、例えば直径100μmの凹部210bを形成し、CF4およびO2の混合ガスによるプラズマデスミア処理を施す。なお、使用するレーザは、YAGレーザの他に、炭酸ガスレーザ、エキシマレーザ等を使用することもできる。また、デスミア処理で使用されるガスは、CF4およびO2の混合ガスの他に、Arガス等、その他の不活性ガスを使用することもできる。また、ドライ処理ではなく、薬液を用いたウェットデスミア処理を行うようにしても良い。
次に、図6(c)に示すように、凹部210bが形成された両面配線基板210aを、炭素のコロイド溶液等に浸漬させることにより、凹部210bの内面を含めた両面配線基板210aの表面に図示しない給電層を形成し、両面配線基板210aの表面全体に厚さ10μmの銅めっき層214a,215aを形成する。これにより、両面配線基板210aの上下の配線層212a,212bが凹部210bの内面に形成された銅めっき層214aによって導通する。
次に、図6(d)に示すように、めっき済みの両面配線基板210aの銅めっき層214a上に、フォトリソグラフィにより図示しないエッチングレジストをパターン形成した後、例えば塩化第二鉄を主成分とするエッチャントを用いて、化学エッチング法により第1配線層212、第2配線層213、めっきビア214およびめっき配線層215を形成する。なお、銅のエッチャントは、塩化第二鉄を主成分とするものの他に、塩化第二銅を主成分とするものを用いても良い。以上の工程により、両面配線基板210が形成される。
そして、図7に示すように、上述した工程で作成された両面配線基板210の両面に、第1の実施形態と同様に製造された1または複数の第1片面配線基板120および第2片面配線基板130を位置決め積層して仮固定した後、真空キュアプレス機を用いて、1kPa以下の減圧雰囲気中で加熱圧着することにより、第1片面配線基板120に埋め込まれている導電性ペーストビア160aが、両面配線基板110の凹部110b内に充填され、第2片面配線基板130に埋め込まれている導電性ペーストビア160bがめっき配線層215と接続される。これにより、本実施形態に係る多層配線基板200が完成する。なお、上記キュアプレス工程では、接着材140と埋め込み材料(第1〜第3絶縁層211,121,131等)の硬化と、導電性ペーストビア160a,160bの硬化および接触部の合金化とを同時に実現することができる。
図8は、本発明の第3の実施形態に係る部品実装体を示す断面図である。
この部品実装体は、第1の実施形態により製造された多層配線基板100上にIC等の電子部品300を搭載したものである。電子部品300には下面に電極パッド301が設けられ。この電極パッド301に設けられた半田バンプ302が多層配線基板100の第3配線層122と接続されている。
この部品実装体は、第1の実施形態により製造された多層配線基板100上にIC等の電子部品300を搭載したものである。電子部品300には下面に電極パッド301が設けられ。この電極パッド301に設けられた半田バンプ302が多層配線基板100の第3配線層122と接続されている。
図9は、本発明の第4の実施形態に係る多層配線基板を示す断面図である。
この多層配線基板は、第1の実施形態に係る多層配線基板100の第4配線層132側の面に、ソルダレジスト401を形成し、ソルダレジスト401の第4配線層132に相当する部分に開口を設け、この開口から臨む第4配線層132に半田バンプを形成したものである。
この多層配線基板は、第1の実施形態に係る多層配線基板100の第4配線層132側の面に、ソルダレジスト401を形成し、ソルダレジスト401の第4配線層132に相当する部分に開口を設け、この開口から臨む第4配線層132に半田バンプを形成したものである。
以上のように、導電性ペーストビア160が一箇所に集中することにより、図8のように、電子部品300を搭載する場合も、図9のように、多層配線基板100自体を他の基板に実装するような場合も、共に配線レイアウトの自由度が向上するという効果を奏する。
なお、本発明は上述した実施形態に限定されるものではない。上記実施形態では、3層構造の多層配線基板を例に挙げて説明したが、4層以上の多層配線基板についても本願発明を適用可能であることは言うまでもない。
100.200…多層配線基板、
110,210…両面配線基板、
111,211…第1絶縁層、
112,212…第1配線層、
113.213…第2配線層、
114,214…めっきビア、
120…第1片面配線基板、
121…第2絶縁層、
122…第3配線層、
130…第2片面配線基板、
131…第3絶縁層、
132…第4配線層、
140,150…接着材
160,160a,160b…導電性ペーストビア、
300…電子部品。
110,210…両面配線基板、
111,211…第1絶縁層、
112,212…第1配線層、
113.213…第2配線層、
114,214…めっきビア、
120…第1片面配線基板、
121…第2絶縁層、
122…第3配線層、
130…第2片面配線基板、
131…第3絶縁層、
132…第4配線層、
140,150…接着材
160,160a,160b…導電性ペーストビア、
300…電子部品。
Claims (4)
- 第1絶縁層の両面に第1配線層および第2配線層がそれぞれ形成されると共に、前記第1絶縁層、前記第1配線層及び前記第2配線層を貫通する貫通孔が形成され、前記貫通孔に前記第1配線層および第2配線層を接続する、内部が積層方向に貫通しためっきビアが形成された両面配線基板と、
前記両面配線基板の一方の面側に積層された第2絶縁層を有し、前記第2絶縁層の前記両面配線基板と反対側の面に第3配線層が形成された第1片面配線基板と、
前記両面配線基板の他方の面側に積層された第3絶縁層を有し、前記第3絶縁層の前記両面配線基板と反対側の面に第4配線層が形成された第2片面配線基板と、
前記両面配線基板のめっきビアの内部に充填されて前記第1配線層及び第2配線層を接続すると共に、前記第2絶縁層および前記第3絶縁層を貫通して両端が前記第3配線層および前記第4配線層と接続された導電性ペーストビアと
を有する
ことを特徴とする多層配線基板。 - 第1絶縁層の両面に第1配線層および第2配線層がそれぞれ形成されると共に、前記第1配線層を開口とし前記第1絶縁層を前記開口から前記第2配線層まで掘り下げた凹部が形成され、前記凹部の内面に前記第1配線層および第2配線層を接続する、前記第1配線層の側が開口した凹部状のめっきビアが形成された両面配線基板と、
前記両面配線基板の一方の面側に積層された第2絶縁層を有し、前記第2絶縁層の前記両面配線基板と反対側の面に第3配線層が形成された第1片面配線基板と、
前記両面配線基板の他方の面側に積層された第3絶縁層を有し、前記第3絶縁層の前記両面配線基板と反対側の面に第4配線層が形成された第2片面配線基板と、
前記両面配線基板のめっきビアの内部に充填されて前記第1配線層及び第2配線層を接続すると共に、前記めっきビアの開口側の端部が積層方向に延びて前記第2絶縁層を貫通して前記第3配線層と接続された第1の導電性ペーストビアと、
前記めっきビアと同一平面方向位置で前記第3絶縁層を貫通して前記第2配線層と前記第4配線層とを接続する第2の導電性ペーストビアと
を有する
ことを特徴とする多層配線基板。 - 第1絶縁層の両面に第1配線層および第2配線層がそれぞれ形成された両面配線基板に貫通孔を形成する工程と、
前記両面配線基板に前記貫通孔を介して前記第1配線層及び前記第2配線層を接続するめっき層を形成する工程と、
前記第1配線層、前記第2配線層及び前記めっき層を選択的に除去して所定のパターンに形成すると共に、前記貫通孔にめっきビアを形成する工程と、
第2絶縁層の一方の面に所定のパターンの第3配線層を形成して第1片面配線基板を製造する工程と、
前記第1片面配線基板の前記第3配線層と反対側の面に接着材を積層する工程と、
前記第1片面配線基板の前記接着材および前記第2絶縁層を前記接着材側から穿孔して前記第3配線層まで貫通する孔を形成し、この孔に前記接着材側の端部が突出するように導電性ペーストを充填する工程と、
第3絶縁層の一方の面に所定のパターンの第4配線層を形成して第2片面配線基板を製造する工程と、
前記第2片面配線基板の前記第4配線層と反対側の面に接着材を積層する工程と、
前記第2片面配線基板の前記接着材および前記第3絶縁層を前記接着材側から穿孔して前記第4配線層まで貫通する孔を形成し、この孔に前記接着材側の端部が突出するように導電性ペーストを充填する工程と、
前記両面配線基板の両面に、前記第1片面配線基板と前記第2片面配線基板とを、それらの導電性ペーストが前記両面配線基板のめっきビアの内側に対向する位置に配置して、前記めっきビアの内側に前記導電性ペーストが充填されるように、前記両面配線基板、前記第1片面配線基板および前記第2片面配線基板を前記接着材を介して熱圧着して一括積層する工程と
を有することを特徴とする多層配線基板の製造方法。 - 第1絶縁層の両面に第1配線層および第2配線層がそれぞれ形成された両面配線基板に前記第1配線層側が開口し、前記第2配線層の側が閉じた凹部を形成する工程と、
前記両面配線基板に前記凹部を介して前記第1配線層及び前記第2配線層を接続するめっき層を形成する工程と、
前記第1配線層、前記第2配線層及び前記めっき層を選択的に除去して所定のパターンに形成すると共に、前記凹部にめっきビアを形成する工程と、
第2絶縁層の一方の面に所定のパターンの第3配線層を形成して第1片面配線基板を製造する工程と、
前記第1片面配線基板の前記第3配線層と反対側の面に接着材を積層する工程と、
前記第1片面配線基板の前記接着材および前記第2絶縁層を前記接着材側から穿孔して前記第3配線層まで貫通する孔を形成し、この孔に前記接着材側の端部が突出するように導電性ペーストを充填する工程と、
第3絶縁層の一方の面に所定のパターンの第4配線層を形成して第2片面配線基板を製造する工程と、
前記第2片面配線基板の前記第4配線層と反対側の面に接着材を積層する工程と、
前記第2片面配線基板の前記接着材および前記第3絶縁層を前記接着材側から穿孔して前記第4配線層まで貫通する孔を形成し、この孔に前記接着材側の端部が突出するように導電性ペーストを充填する工程と、
前記両面配線基板の両面に、前記第1片面配線基板と前記第2片面配線基板とを、前記第1片面配線基板の導電性ペーストが前記両面配線基板のめっきビアの凹部の開口と対向し、前記第2片面配線基板の導電性ペーストが前記両面配線基板のめっきビアの凹部の底部と対向する位置に配置して、前記めっきビアの内側に前記第1片面配線基板の導電性ペーストが充填されるように、前記両面配線基板、前記第1片面配線基板および前記第2片面配線基板を前記接着材を介して熱圧着して一括積層する工程と
を有することを特徴とする多層配線基板の製造方法。
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KR101883758B1 (ko) * | 2017-07-03 | 2018-08-30 | 엘지전자 주식회사 | 화합물 태양전지 모듈 |
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