JP2007101021A - 処理装置,処理方法及び蓄熱器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】被処理体を吸熱反応によって処理する処理装置1において,被処理体が投入される処理炉2と,処理炉2内に処理ガスを供給する供給路3と,処理炉2内から排ガスを排出させる排出路4を備えた。また,処理ガスを加熱するヒーター11を備えた。さらに,排出路4には,排ガスの熱を蓄熱する蓄熱器15と,蓄熱器15を通過した排ガスと供給路3を通過する処理ガスとの間で熱交換を行わせる熱交換器10とを設けた。
【選択図】図1
Description
2 処理炉
3 供給路
4 排出路
10 熱交換器
11 ヒーター
15 蓄熱器
20 循環ライン
30 ケーシング
31 導入口
32 導出口
33 蓄熱体
51 蓄熱体保持体
52 保持板
53 架台
61 枠部材
62 枠支持部材
63 断熱材
Claims (13)
- 被処理体を吸熱反応によって処理する処理装置であって,
被処理体が投入される処理炉と,前記処理炉内に処理ガスを供給する供給路と,前記処理炉内から排ガスを排出させる排出路と,前記処理ガスを加熱するヒーターとが備えられ,
前記排出路に,前記排ガスの熱を蓄熱する蓄熱器と,前記蓄熱器を通過した排ガスと前記処理ガスとの間で熱交換を行わせる熱交換器とが設けられていることを特徴とする,処理装置。 - 前記排ガスを前記処理炉内に処理ガスとして供給する循環ラインが構成されていることを特徴とする,請求項1に記載の処理装置。
- 前記被処理体は酸化物を含有し,
前記処理ガスは水素を含有し,
前記吸熱反応は,酸化物を還元する還元反応であることを特徴とする,請求項1又は2に記載の処理装置。 - 被処理体を吸熱反応によって処理する処理方法であって,
被処理体を処理炉内に投入する前に,加熱した処理ガスを処理炉内に供給しながら前記処理炉内を排気し,前記処理炉内から排気された排ガスの熱を蓄熱器に蓄熱させ,
その後,前記処理炉内に被処理体を投入し,被処理体の吸熱反応処理を開始させ,
前記吸熱反応処理を行う際は,前記処理炉内から排気された排ガスを前記蓄熱器に通過させ,前記蓄熱によって昇温させ,
前記蓄熱によって昇温された排ガスと前記処理炉内に供給される処理ガスとの間で熱交換を行わせることで,前記処理ガスを加熱して,前記処理炉内に供給することを特徴とする,処理方法。 - 前記熱交換によって加熱した前記処理ガスを,さらにヒーターによって加熱した後,前記処理炉内に供給することを特徴とする,請求項4に記載の処理方法。
- 前記排ガスを,前記処理炉に処理ガスとして供給することを特徴とする,請求項4又は5に記載の処理方法。
- 前記被処理体は酸化物を含有し,
前記処理ガスは水素を含有し,
前記吸熱反応は,酸化物を還元する還元反応であることを特徴とする,請求項4〜6のいずれかに記載の処理方法。 - 流体の熱を蓄熱する蓄熱器であって,
ケーシングと,前記ケーシングの内部に備えられた蓄熱体と,前記蓄熱体を保持する蓄熱体保持体とを備え,
前記蓄熱体保持体は,前記ケーシングの側壁に接触していない状態で,前記ケーシングの底部に設けられていることを特徴とする,蓄熱器。 - 前記蓄熱体保持体は,前記蓄熱体を載せる略格子状の保持板と,前記保持板を載せる架台とを備えることを特徴とする,請求項8に記載の蓄熱器。
- 前記架台は,前記ケーシングの側壁に沿って枠状に形成された枠部材と,前記底部に取り付けられ前記枠部材を支持する枠支持部材とを備え,
前記枠部材の上面に断熱材が備えられ,
前記保持板の周縁部が前記断熱材に載せられていることを特徴とする,請求項9に記載の蓄熱器。 - 前記ケーシングは,前記底部に取り付けられたケーシング支持部材によって支持されていることを特徴とする,請求項8〜10のいずれかに記載の蓄熱器。
- 前記ケーシングの底部と側壁との間の角部は,曲げ加工により形成されていることを特徴とする,請求項8〜11のいずれかに記載の蓄熱器。
- 前記蓄熱体の上方に,前記流体を導入する導入口が設けられ,
前記蓄熱体及び前記蓄熱体保持体の下方に,前記流体を導出する導出口が設けられ,
前記蓄熱体保持体に,上下方向に貫通する連通口が設けられ,
前記導入口から導入された流体は,前記蓄熱体を通り,前記連通口を介して,前記導出口によって導出されることを特徴とする,請求項8〜12のいずれかに記載の蓄熱器。
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