JPH11106811A - 還元鉄の製造方法および装置 - Google Patents

還元鉄の製造方法および装置

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JPH11106811A
JPH11106811A JP9274115A JP27411597A JPH11106811A JP H11106811 A JPH11106811 A JP H11106811A JP 9274115 A JP9274115 A JP 9274115A JP 27411597 A JP27411597 A JP 27411597A JP H11106811 A JPH11106811 A JP H11106811A
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catalyst
dimethyl ether
iron ore
reaction
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JP9274115A
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Tsutomu Shikada
勉 鹿田
Yotaro Ono
陽太郎 大野
Masami Ono
正己 小野
Masatsugu Mizuguchi
雅嗣 水口
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JFE Engineering Corp
Original Assignee
NKK Corp
Nippon Kokan Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 低温において合成ガスまたは水素ガスを
得、このガスを用いて鉄鉱石の還元を行う方法を提供す
る。 【解決手段】 上記課題は、ジメチルエーテルに水蒸気
または炭酸ガスを加えて触媒反応させることによりジメ
チルエーテルを改質して合成ガスまたは水素ガスを得、
このガスを使用して鉄鉱石を還元することを特徴とする
還元鉄の製造方法によって解決される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ジメチルエーテル
を改質して合成ガスまたは水素ガスを得、このガスを使
用して鉄鉱石を還元する方法および装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、鉄鉱石を還元して還元鉄を製造す
る方法において、還元ガスである合成ガスまたは水素ガ
スを製造する方法はいくつか知られている。
【0003】例えば、(1)石炭のガス化による方法、
(2)天然ガス、LPG、ナフサなどを原料とする炭化水
素の水蒸気改質方法、(3)天然ガス、LPG、ナフサ、
重質油などを原料とする炭化水素の部分酸化方法などが
ある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記
(1)の石炭ガス化法においては、極めて複雑でかつ高価
な石炭ガス化炉が必要であり、装置が大規模なプラント
となるなどの問題があった。また(2)の炭化水素の水蒸
気改質方法においては、反応が大きな吸熱であり、反応
の進行に700〜1200℃の高温を必要とするため、
特殊な改質炉が必要であり、また使用する触媒に高い耐
熱性が要求されるなどの問題があった。上記(3)の炭化
水素の部分酸化方法においても、1200〜1500℃
の高温を必要とするために特殊な部分酸化炉が必要であ
り、また反応に伴って大量のすすが生成するためその処
理が問題となり、さらに触媒を使用する場合には、触媒
表面に炭素質物質が多量に析出して触媒が劣化するなど
の問題があった。
【0005】本発明は、上記従来の問題点を解決し、低
温において合成ガスまたは水素ガスを得、このガスを用
いて鉄鉱石の還元を行う方法を提供することを目的とす
る。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意検討の結果、本発明者らが先に開発し
た、ジメチルエーテルを改質して合成ガスまたは水素ガ
スを得る方法に着目し、このガスを使用して鉄鉱石を還
元する方法を案出するに至った。
【0007】すなわち、本発明は、ジメチルエーテルに
水蒸気または炭酸ガスを加えて触媒反応させることによ
りジメチルエーテルを改質して合成ガスまたは水素ガス
を得、このガスを使用して鉄鉱石を還元することを特徴
とする還元鉄の製造方法、ジメチルエーテルの改質反応
を、鉄鉱石を還元した水蒸気および炭酸ガスを含む排ガ
スを使用して行うことを特徴とする上記に記載の還元鉄
の製造方法、ジメチルエーテル改質反応の加熱に、鉄鉱
石を還元した排ガスの顕熱を利用することを特徴とする
上記の還元鉄の製造方法、およびジメチルエーテルと水
蒸気または炭酸ガスとを反応させて合成ガスまたは水素
ガスを生成させる触媒を充填した改質反応器と、鉄鉱石
を充填した還元炉よりなり、該改質反応器で生成した合
成ガスまたは水素ガスが還元炉に供給されるよう接続さ
れていることを特徴とする還元鉄の製造装置を提供する
ものである。
【0008】
【発明の実施の形態】本発明は、ジメチルエーテルの改
質と得られた改質ガスによる鉄鉱石の還元から構成され
る。
【0009】ジメチルエーテルを改質して合成ガスまた
は水素ガスを生成させる触媒は本発明者らが開発した銅
系触媒、鉄系触媒、コバルト系触媒およびパラジウム系
触媒がある。
【0010】銅系触媒は、銅の金属および/または化合
物を含有するものである。銅の化合物としては銅の酸化
物が好ましく、銅の酸化物は酸化第一銅(Cu2O)、酸
化第二銅(CuO)またはその混合物である。
【0011】鉄系触媒は、鉄の金属および/または化合
物を含有するものである。鉄の化合物としては鉄の酸化
物が好ましく、鉄の酸化物は酸化第一鉄(FeO)、酸
化第二鉄(Fe23)またはその混合物である。
【0012】コバルト系触媒は、コバルトの金属および
/または化合物を含有するものである。コバルトの化合
物としてはコバルトの酸化物が好ましく、コバルトの酸
化物は酸化第一コバルト(CoO)、酸化第二コバルト
(Co23)またはその混合物である。
【0013】この銅系触媒、鉄系触媒、コバルト系触媒
は、触媒担体に担持させて使用することができる。好ま
しい触媒担体としては、アルミナ、シリカゲル、シリカ
・アルミナ、ゼオライト、チタニア、ジルコニア、酸化
亜鉛、酸化スズ、酸化ランタン、酸化セリウムなどの酸
化物であるが、なかでもアルミナが合成ガスや水素ガス
の収率が高いので好ましい。銅系触媒中の銅の含有率は
約1〜50重量%、好ましくは3〜30重量%である。
鉄系触媒中の鉄の含有率は約10〜100重量%、好ま
しくは30〜100重量%である。また、コバルト系触
媒中のコバルトの含有率は約1〜30重量%、好ましく
は3〜15重量%である。含有率が上記の範囲外である
と、合成ガスや水素の収率が低下する。
【0014】また、本発明の触媒には、鉄の金属および
/または化合物のほかに他の金属あるいは化合物を併せ
て用いることができる。他の金属および化合物の例とし
ては、銅系触媒および鉄系触媒の場合には、亜鉛、ニッ
ケル、クロム、マンガン、スズ、セリウム、ランタンお
よびこれらの化合物を、そして、コバルト系触媒の場合
には、ニッケル、鉄およびこれらの化合物を挙げること
ができる。これらのなかで、鉄系触媒の場合には、特に
亜鉛、ニッケル、クロムおよびマンガンの酸化物が好ま
しい。好ましい触媒の例を挙げると、銅系触媒では酸化
銅一酸化ニッケル−酸化亜鉛−アルミナ触媒、鉄系触媒
では酸化鉄−酸化クロム−アルミナ触媒、コバルト系触
媒ではコバルト−アルミナ触媒がある。また、これらの
金属および化合物を単独で用いるほか2種以上を混合し
て用いることもできる。これらの第3成分の含有率は、
銅系触媒の場合には、70重量%以下、特に50重量%
以下であり、含有させる場合は、通常1〜30重量%程
度である。鉄系触媒の場合には、50重量%以下、特に
30重量%以下であり、含有させる場合は、通常1〜2
0重量%程度である。また、コバルト系触媒の場合に
は、20重量%以下、特に10重量%以下であり、含有
させる場合は、通常1〜5重量%程度である。
【0015】これらの触媒の製造には、この種の触媒の
一般的な調製方法を適用できる。例えば触媒の製造用原
料は、銅、鉄あるいはコバルト化合物として、それぞれ
の硝酸塩、炭酸塩、ハロゲン化物等の無機酸塩および酢
酸塩、シュウ酸塩など有機酸塩が使用される。また、触
媒担体への銅、鉄、コバルトの担持操作には、通常の沈
殿法、混練法、含浸法およびイオン交換法などの技術が
利用できる。このように調製された触媒組成物は、必要
があれば常法により焼成する。焼成は、窒素中または空
気中において、350〜800℃の温度で1〜10時間
加熱して行うのが好ましい。
【0016】パラジウム系触媒は、塩基性を有する金属
酸化物にパラジウムを担持させたものである。塩基性を
有する金属酸化物は、Li2O、Na2O、K2O、Rb2
O、Cs2O等のアルカリ金属の酸化物、BeO、Mg
O、CaO、SrO、BaO等のアルカリ土類金属の酸
化物、Y23、La23、CeO2等の希土類元素の酸
化物、ZnO、SnO2、ZrO2、Al23、TiO2
および前記の金属酸化物の2種以上の混合物である。好
ましいものはパラジウム−酸化亜鉛触媒、パラジウム−
酸化ナトリウム−アルミナ触媒などである。また前記の
塩基性を有する金属酸化物を、塩基性を有しない他の金
属酸化物、例えばシリカゲルなど、あるいは塩基性を有
しない他の化合物、例えば炭化珪素、活性炭などと組み
合わせて用いることができる。パラジウムの担持率は、
塩基性を有する金属酸化物に対して約0.1〜30重量
%、好ましくは0.2〜20重量%である。パラジウム
の担持率が約0.1重量%未満および30重量%以上で
あると、合成ガスの収率が低下する。
【0017】パラジウム系触媒の製造方法は、塩基性を
有する金属酸化物にパラジウムを担持させた後、塩基性
の水溶液で処理することを特徴とする。この触媒の製造
方法としては、パラジウムの金属塩を含む水溶液、例え
ば塩化パラジウムを含む水溶液に塩基性を有する金属酸
化物を投入して、蒸発乾固、乾燥の後、焼成する。焼成
は、窒素中または空気中において、350〜600℃の
温度で1〜10時間加熱して行うのが好ましい。ついで
このものを塩基性の水溶液で処理する。塩基性の水溶液
としては、アルカリ金属の水酸化物および炭酸塩ならび
にアルカリ土類金属の水酸化物の水溶液があげられる。
これらの塩基性化合物の濃度は0.5〜20程度、通常
1〜10程度が適当である。処理は触媒に塩基性水溶液
を接触させ、次いで塩基性水溶液を除去することによっ
て行う。この処理は常温〜80℃の温度において、1〜
5時間行うのが好ましい。また、塩基性の水溶液で処理
した後、例えば上記の塩基性化合物を少量(例えば0.
1〜1.0程度)担持することもできる。
【0018】触媒は調製の最終段階において活性化処理
を行うが、これは、水素雰囲気下、350〜600℃の
温度で、1〜10時間処理するのが好ましい。
【0019】このようにして調製された触媒にジメチル
エーテルと水蒸気および/または二酸化炭素の混合ガス
を流通させることにより、合成ガスおよび/または水素
ガスが高収率で得られる。
【0020】本発明においては、原料のジメチルエーテ
ルとともに水蒸気および/または二酸化炭素を供給す
る。供給する水蒸気は原料のジメチルエーテルに対し量
論量以上あればよく、1〜20モル倍、好ましくは1〜
10モル倍である。水蒸気の供給が1モル倍より少ない
と、高いジメチルエーテル転化率が得られず、また20
モル倍より多いと経済的でない。供給する二酸化炭素は
原料のジメチルエーテルに対して0.8〜2.0モル
倍、好ましくは0.9〜1.5モル倍である。二酸化炭
素の供給が0.8モル倍より少ないと、高いジメチルエ
ーテル転化率が得られず、また2.0モル倍より多い
と、合成ガスに多量の二酸化炭素が残存して、二酸化炭
素を合成ガスから除去することが必要となり、好ましく
ない。また水蒸気と二酸化炭素をともに供給する場合に
は、水蒸気と二酸化炭素の合計がジメチルエーテルに対
して1〜10モル倍、好ましくは1〜5モル倍である。
水蒸気と二酸化炭素の合計が1モル倍より少ないと、高
いジメチルエーテル転化率が得られず、また10モル倍
より多いと経済的でなく、また合成ガスから二酸化炭素
の除去が必要となり好ましくない。この原料ガスには、
ジメチルエーテルと水蒸気、二酸化炭素以外の成分も含
むことができる。その他の成分として反応に不活性なガ
ス、例えば窒素、不活性ガス、CO、H2、メタン等を
含むことができる。これらの含有量は30容量%以下が
適当であり、これより多くなると反応速度の低下が問題
になる。一方、空気(酸素)はジメチルエーテルが燃焼
してしまうのでなるべく排除したほうがよく、許容含有
量は空気として5%以下である。
【0021】本発明では、この水蒸気または炭酸ガスの
一部あるいは全部に本発明の後半工程である鉄鉱石を還
元した排ガスに含まれている水蒸気や炭酸ガスを使用す
ることが好ましい。この排ガスの組成としては水蒸気0
〜5容量%程度、炭酸ガス0〜5容積%程度、窒素0〜
5容積%程度、酸素0〜1容積%程度であり、中低温排
ガスの温度は還元炉出口付近で300〜500℃程度で
ある。
【0022】反応温度は、200〜500℃、好ましく
は250〜450℃である。反応温度が200℃より低
いと高いジメチルエーテル転化率が得られず、また50
0℃より高いと副生するメタノールや一酸化炭素あるい
はメタンを主体とする炭化水素の生成が顕著となり、生
成物中の合成ガスや水素ガスの割合が低下して好ましく
ない。還元炉の中低温排ガスを用いる場合には、ジメチ
ルエーテルの改質に必要な反応熱を排ガス顕熱で与えて
反応を300〜500℃で進行させることができる。
【0023】反応圧力は常圧〜10kg/cm2が好ま
しい。反応圧力が10kg/cm2より高いとジメチル
エーテル転化率が低下する。
【0024】空間速度(触媒1m3あたりの標準状態に
おける混合ガスの供給速度m3/h)は、1000〜5
0000m3/m3・hが好ましい。空間速度が5000
0m3/m3・hより大きいとジメチルエーテル転化率が
低くなり、また1000m3/m3・hより小さいと反応
器が極端に大きくなって経済的でない。
【0025】なお、本発明の方法においては、固定床、
流動床のいずれの装置を用いてもよい。
【0026】ジメチルエーテル改質ガスを使用する鉄鉱
石の還元炉については、その型式が特に限定されること
はなく、すでに公知のシャフト型炉、キルン型炉、流動
床型炉、回転炉床型炉のいずれも型式の炉も使用可能で
ある。
【0027】還元条件は従来公知の方法と同様でよく、
温度は800〜1100℃程度、圧力は大気圧〜10気
圧程度、時間は2〜8時間程度でよい。
【0028】
【実施例】
触媒例1〜4 硝酸銅(Cu(NO3)2・3H2O)91g、硝酸亜鉛(Z
n(NO3)2・6H2O)73gおよび硝酸アルミニウム
(Al(NO3)3・9H2O)368gをイオン交換水約2
lに溶解した水溶液と、炭酸ナトリウム(Na2CO3
約250gをイオン交換水約2lに溶解した水溶液と
を、約80℃に保温したイオン交換水約5lの入ったス
テンレス製容器中に、pHが8.0±0.5に保持され
るように調節しながら、約2時間かけて滴下した。滴下
終了後、そのまま約1時間保持して熟成を行った。な
お、この間にpHが8.0±0.5から外れるようであ
れば、約1mol/lの硝酸水溶液または約1mol/
lの炭酸ナトリウム水溶液を滴下して、pHを8.0±
0.5にあわせた。次に、生成した沈澱を濾過した後、
洗浄液に硝酸イオンが検出されなくなるまでイオン交換
水を用いて洗浄した。得られたケーキを120℃で24
時間乾燥した後、さらに空気中350℃で5時間焼成し
た。さらにこのものを20〜40メッシュに分級して目
的の触媒を得た。
【0029】得られた触媒の組成はCuO:ZnO:A
23=30:20:50(重量比)であった。
【0030】触媒例5〜8 触媒例1〜4の方法において、硝酸亜鉛の代わりに硝酸
クロム(Cr(NO3)2・3H2O)105gを用いる以
外、触媒例1〜4と同じ方法により触媒を調製した。
【0031】得られた触媒の組成はCuO:Cr23
Al23=30:20:50(重量比)であった。
【0032】[反応方法]内径20mmのステンレス製
反応管に所定量の上記触媒を充填した。この反応管にジ
メチルエーテルと二酸化炭素を所定量供給して、所定の
温度で反応させた。
【0033】以上の操作により得られた反応生成物およ
び未反応物はガスクロマトグラフにより分析した。
【0034】[反応条件および実験結果]反応条件およ
び実験結果を表1、2に示す。
【0035】
【数1】
【0036】
【数2】 各速度の単位は全て [mol/g−cat・h]
【0037】
【表1】
【0038】
【表2】
【0039】触媒例9〜11 硝酸銅(Cu(NO32・3H2O)91g、硝酸ニッ
ケル(Ni(NO3 2・6H2O)39g、硝酸亜鉛
(Zn(NO32・6H2O)37gおよび硝酸アルミ
ニウム(Al(NO3)3・9H2O)368gをイオン交換
水約2lに溶解した水溶液と、水酸化ナトリウム約20
0gをイオン交換水約2lに溶解した水溶液とを、約6
0℃に保温したイオン交換水約5lの入ったステンレス
製容器中に、pHが8.0±0.5に保持されるように
調節しながら、約1時間かけて滴下した。滴下終了後、
そのまま約1時間保持して熟成を行った。なお、この間
にpHが8.0±0.5から外れるようであれば、約1
mol/lの硝酸水溶液または約1mol/lの水酸化
ナトリウム水溶液を滴下して、pHを8.0±0.5に
あわせた。次に、生成した沈澱を濾過した後、洗浄液に
硝酸イオンが検出されなくなるまでイオン交換水を用い
て洗浄した。得られたケーキを120℃で24時間乾燥
した後、さらに空気中350℃で5時間焼成した。さら
にこのものを20〜40メッシュに分級して目的の触媒
を得た。
【0040】得られた触媒の組成はCuO:NiO:Z
nO:Al23=30:10:10:50(重量比)で
あった。
【0041】触媒例12 触媒例9〜11の方法において、硝酸ニッケルの代わり
に硝酸クロム(Cr(NO3)2・3H2O)53gを用い
る以外、触媒例9〜11と同じ方法により触媒を調製し
た。
【0042】得られた触媒の組成はCuO:Cr23
ZnO:Al23=30:10:10:50(重量比)
であった。
【0043】触媒例13 触媒例9〜11の方法において、硝酸ニッケルの代わり
に硝酸マンガン(Mn(NO32・6H2O)33gを用
いる以外、触媒例9〜11と同じ方法により触媒を調製
した。
【0044】得られた触媒の組成はCuO:MnO2
ZnO:Al23=30:10:10:50(重量比)
であった。
【0045】触媒例14 触媒例13の方法において、硝酸亜鉛の代わりに硝酸ク
ロム(Cr(NO32・3H2O)53gを用いる以外、
触媒例9〜11と同じ方法により触媒を調製した。
【0046】得られた触媒の組成はCuO:Cr
23 :MnO2:Al23=30:10:10:50
(重量比)であった。
【0047】[反応方法]内径20mmのステンレス製
反応管に所定量の上記触媒を充填した。この反応管にジ
メチルエーテルと水蒸気を所定量供給して、所定の温度
で反応させた。
【0048】以上の操作により得られた反応生成物およ
び未反応物はガスクロマトグラフにより分析した。
【0049】[反応条件および実験結果]反応条件およ
び実験結果を表3、4に示す。
【0050】
【数3】
【0051】
【数4】
【0052】
【数5】 各速度の単位は全て [mol/g−cat・h]
【0053】
【表3】
【0054】
【表4】
【0055】触媒例15〜17 硝酸鉄(Fe(NO33・9H2O)405g、硝酸ク
ロム(Cr(NO32・3H2O)79g、および硝酸ア
ルミニウム(Al(NO33・9H2O)37gをイオ
ン交換水約2lに溶解した水溶液と、水酸化ナトリウム
約180gをイオン交換水約2lに溶解した水溶液と
を、約80℃に保温したイオン交換水約5lの入ったス
テンレス製容器中に、pHが8.0±0.5に保持され
るように調節しながら、約1時間かけて滴下した。滴下
終了後、そのまま約1時間保持して熟成を行った。な
お、この間にpHが8.0±0.5から外れるようであ
れば、約1mol/lの硝酸水溶液または約1mol/
lの水酸化ナトリウム水溶液を滴下して、pHを8.0
±0.5にあわせた。次に、生成した沈澱を濾過した
後、洗浄液に硝酸イオンが検出されなくなるまでイオン
交換水を用いて洗浄した。得られたケーキを120℃で
24時間乾燥した後、さらに空気中350℃で5時間焼
成した。さらにこのものを20〜40メッシュに分級し
て目的の触媒を得た。
【0056】得られた触媒の組成はFe23:Cr
23:Al23=80:15:5(重量比)であった。
【0057】触媒例18〜20 触媒例15〜17の方法において、硝酸クロムの代わり
に硝酸亜鉛(Zn(NO3)2・6H2O)55gを用いる
以外、実施例1〜3と同じ方法により触媒を調製した。
【0058】得られた触媒の組成はFe23:ZnO:
Al23=80:15:5(重量比)であった。
【0059】[反応方法]内径20mmのステンレス製
反応管に所定量の上記触媒を充填した。この反応管にジ
メチルエーテルと水蒸気を所定量供給して、所定の温度
で反応させた。
【0060】以上の操作により得られた反応生成物およ
び未反応物はガスクロマトグラフにより分析した。
【0061】[反応条件および実験結果]反応条件およ
び実験結果を表5、6に示す。
【0062】
【表5】
【0063】
【表6】
【0064】触媒例21〜28 酢酸コバルト(Co(NO3)2・6H2O)49.4gをイオ
ン交換水約300mlに溶解させ、さらにこの水溶液に
γ−アルミナ(日揮化学製、N612)90gを投入
し、蒸発乾固した。そして、このものを空気中、120
℃で24時間乾燥し、さらに空気中、500℃で3時間
焼成した。ついで水素気流中、500℃で3時間処理を
行って触媒を得た。
【0065】得られた触媒の組成は、Co:Al23
10:90(重量比)であった。
【0066】[反応方法]内径20mmのステンレス製
反応管に所定量の上記触媒を充填した。この反応管にジ
メチルエーテルと水蒸気および/または二酸化炭素を所
定量供給して、所定の温度で反応させた。
【0067】以上の操作により得られた反応生成物およ
び未反応物はガスクロマグラフにより分析した。
【0068】[反応条件および実験結果]反応条件およ
び実験結果を表7、8に示す。
【0069】
【数6】 各速度の単位は全て [mol/g−cat・h]
【0070】
【表7】
【0071】
【表8】
【0072】触媒例29、30 塩酸6mlおよび塩化パラジウム(PdCl2)8.3
3gをイオン交換水約500mlに溶解させた水溶液
に、酸化亜鉛(関東化学製,試薬特級)100gを投入
して、蒸発乾固した。これを、空気中120℃で24時
間乾燥し、さらに空気中、500℃で3時間焼成した。
ついで、このものを水酸化ナトリウム10gをイオン交
換水約1000mlに溶解した水溶液中に投入し、50
℃に加熱して、約1時間の処理を行った後、塩素イオン
が検出されなくなるまで洗浄し、120℃で24時間乾
燥した。さらに、このものを圧縮成型により、20〜4
0メッシュに整粒した後、水素気流中、500℃で3時
間処理を行って触媒を得た。
【0073】得られた触媒の組成は、Pd:ZnO=
5:100(重量比)であった。
【0074】触媒例31、32 触媒例29、30の方法において、酸化亜鉛の代わりに
酸化セリウム(関東化学製,試薬特級)を用いる以外、
触媒例29、30と同じ方法により触媒を調製した。
【0075】得られた触媒の組成は、Pd:CeO2
5:100(重量比)であった。
【0076】触媒例33、34 塩酸6mlおよび塩化パラジウム(PdCl2)8.3
3gをイオン交換水約500mlに溶解させた水溶液
に、γ−アルミナ(日揮化学製,N612)100gを投
入して、蒸発乾固した後、空気中120℃で24時間乾
燥し、さらに空気中、500℃で3時間焼成した。つい
でこのものを水酸化ナトリウム50gをイオン交換水約
1000mlに溶解した水溶液中に投入し、50℃に加
熱して、約1時間の処理を行った後、洗浄を行うことな
く、分離したのみで乾燥した。さらにこのものを圧縮成
型により、20〜40メッシュに整粒した後、水素気流
中、500℃で3時間処理を行って触媒を得た。
【0077】得られた触媒の組成は、Pd:Na2O:
Al23=5:0.4:100(重量比)であった。
【0078】触媒例35、36 塩酸6mlおよび塩化パラジウム(PdCl2)8.3
3gをイオン交換水約500mlに溶解させた水溶液
に、シリカゲル(富士ディヴィソン化学,ID)100
gを投入して、蒸発乾固した。これを、空気中120℃
で24時間乾燥し、さらに空気中、500℃で3時間焼
成した。ついで、このものを水酸化カルシウム10gを
イオン交換水約1000mlに溶解した水溶液中に投入
し、50℃に加熱して、約1時間の処理を行った後、洗
浄、乾燥を行った。さらにこのもの約80gを、水酸化
カルシウム6.6gをイオン交換水約200mlに溶解
した水溶液に投入し、蒸発乾固した後、乾燥した。この
ものを圧縮成型により、20〜40メッシュに整粒した
後、水素気流中、500℃で3時間処理を行って触媒を
得た。
【0079】得られた触媒の組成は、Pd:CaO:S
iO2=5:5:100(重量比)であった。
【0080】[反応方法]内径20mmのステンレス製
反応管に所定量の上記触媒を充填した。この反応管にジ
メチルエーテルと水蒸気および/または二酸化炭素を所
定量供給して、所定の温度で反応させた。
【0081】以上の操作により得られた反応生成物およ
び未反応物はガスクロマトグラフにより分析した。
【0082】[反応条件および実験結果]反応条件およ
び実験結果を表9、10に示す。
【0083】
【表9】
【0084】
【表10】
【0085】以下、図面に基づいて本発明の実施例を説
明する。図1は本発明のジメチルエーテル改質ガスを使
用する鉄鉱石の還元方法の一例を示す系統図である。
【0086】ジメチルエーテルは熱交換器1で、鉄鉱石
還元後の200〜500℃の排ガスにより予熱され、さ
らにブロワー2で供給される鉄鉱石還元後のスチームと
炭酸ガスとを主体とする排ガスと混合されて、ジメチル
エーテル改質反応器3に送られる。改質器では、その内
部に配置された複数の反応管に、ジメチルエーテル改質
用触媒が充填されており、また反応管の外部には、鉄鉱
石還元後の排ガスが、吸熱反応に対する熱の補給用に導
入されている。反応管内部の触媒に、ジメチルエーテル
および鉄鉱石還元後の排ガスとから成る混合ガスが接触
することにより、一酸化炭素と水素を主体とする改質ガ
スが生成する。改質反応器の内部温度は、充填される触
媒の種類により異なるが、概ね200〜500℃の温度
範囲である。得られた改質ガスは加熱炉4へ送られ、8
00〜1000℃に昇温されて、還元炉5に導入され
る。還元炉では、上部より鉄鉱石が装入され、中底部よ
り導入された改質ガスにより鉄鉱石が還元されて、下部
より還元鉄が排出される。
【0087】還元例1〜6 シャフト型還元炉に粒径5〜10mmの鉄鉱石ペレット
または塊鉱石を所定量充填し、これに所定の触媒例によ
り得たジメチルエーテル改質ガスを所定温度に昇温し
て、所定量、所定時間流通させて、鉄鉱石の還元を実施
した。
【0088】
【表11】
【0089】
【発明の効果】ジメチルエーテルの改質ガスは、水素ま
たは水素と一酸化炭素を主体としたクリーンなガスで、
硫黄化合物や窒素化合物を含まないことから、鉄鉱石の
還元に対して非常に適したガスといえる。
【0090】本発明によれば、ジメチルエーテルを鉄鉱
石還元炉の排ガス成分および排ガス顕熱を利用して改質
し、得られた改質ガスを用いて鉄鉱石の還元を行うよう
に構成したので、プロセスの大幅な簡略化が図れ、しか
も鉄鉱石還元炉の排ガスを有効に利用できるので、エネ
ルギ効率が向上するなど顕著な効果を有するものであ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明による鉄鉱石還元システムの一般構成
を示す系統図である。
【符号の説明】
1 熱交換器 2 ブロワー 3 ジメチルエーテル改質反応器 4 加熱炉 5 鉄鉱石還元炉
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI B01J 23/80 C01B 3/38 23/86 C07C 43/04 C01B 3/38 F27D 17/00 101Z C07C 43/04 B01J 23/56 301M F27D 17/00 101 23/74 311M (72)発明者 水口 雅嗣 東京都千代田区丸の内一丁目1番2号 日 本鋼管株式会社内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ジメチルエーテルに水蒸気または炭酸ガ
    スを加えて触媒反応させることによりジメチルエーテル
    を改質して合成ガスまたは水素ガスを得、このガスを使
    用して鉄鉱石を還元することを特徴とする還元鉄の製造
    方法
  2. 【請求項2】 ジメチルエーテルの改質反応を、鉄鉱石
    を還元した水蒸気および炭酸ガスを含む排ガスを使用し
    て行うことを特徴とする請求項1に記載の還元鉄の製造
    方法
  3. 【請求項3】 ジメチルエーテル改質反応の加熱に、鉄
    鉱石を還元した排ガスの顕熱を利用することを特徴とす
    る請求項1または2に記載の還元鉄の製造方法
  4. 【請求項4】 ジメチルエーテルと水蒸気または炭酸ガ
    スとを反応させて合成ガスまたは水素ガスを生成させる
    触媒を充填した改質反応器と、鉄鉱石を充填した還元炉
    よりなり、該改質反応器で生成した合成ガスまたは水素
    ガスが還元炉に供給されるよう接続されていることを特
    徴とする還元鉄の製造装置
JP9274115A 1997-10-07 1997-10-07 還元鉄の製造方法および装置 Pending JPH11106811A (ja)

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CNA031034446A CN1502546A (zh) 1997-10-07 1998-06-16 制造氢或合成气体用的催化剂及制造氢或合成气体的方法
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US09/319,530 US6361757B1 (en) 1997-10-07 1998-06-16 Catalyst for manufacturing hydrogen or synthesis gas and manufacturing method of hydrogen or synthesis gas
US10/015,879 US20020132155A1 (en) 1997-10-07 2001-10-30 Manufacturing method of hydrogen and synthesis gas
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