JP4488321B2 - 合成ガス製造用触媒及び合成ガスの製造方法 - Google Patents
合成ガス製造用触媒及び合成ガスの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4488321B2 JP4488321B2 JP10507099A JP10507099A JP4488321B2 JP 4488321 B2 JP4488321 B2 JP 4488321B2 JP 10507099 A JP10507099 A JP 10507099A JP 10507099 A JP10507099 A JP 10507099A JP 4488321 B2 JP4488321 B2 JP 4488321B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- catalyst
- synthesis gas
- rhodium
- iridium
- dimethyl ether
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、ジメチルエーテルと水蒸気が含まれる混合ガスから合成ガスを生成させる触媒及びそれを用いた合成ガスの製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
合成ガスは、一酸化炭素と水素からなるガスであり、直接、メタノール合成、オキソ合成、フィッシャートロプシュ合成等の原料ガスに用いられるほか、アンモニア合成や各種化学製品の原料として広い用途をもっている。
【0003】
従来、合成ガスを製造する方法はいくつか知られている。
例えば、(1)石炭のガス化による方法、(2)天然ガス、LPG、ナフサなどを原料とする炭化水素の水蒸気改質方法、(3)天然ガス、LPG、ナフサ、重質油などを原料とする炭化水素の部分酸化方法などがある。
【0004】
ジメチルエーテルと水蒸気から水素や一酸化炭素等を製造する触媒としては、銅またはニッケルからなりアルカリ金属を含まないものが知られている(特表平9−510178号公報)。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記(1)の石炭ガス化法においては、極めて複雑でかつ高価な石炭ガス化炉が必要であり、装置が大規模なプラントとなるなどの問題があった。また(2)の炭化水素の水蒸気改質方法においては、反応が大きな吸熱であり、反応の進行に700〜1200℃の高温を必要とするため、特殊な改質炉が必要であり、また使用する触媒に高い耐熱性が要求されるなどの問題があった。上記(3)の炭化水素の部分酸化方法においても、1200〜1500℃の高温を必要とするために特殊な部分酸化炉が必要であり、また反応に伴って大量のすすが生成するためその処理が問題となり、さらに触媒を使用する場合には触媒表面に炭素質物質が多量に析出して触媒が劣化するなどの問題があった。
【0006】
また、銅またはニッケルからなりアルカリ金属を含まない触媒は、生成するガスにおける二酸化炭素の収率が高くて一酸化炭素の収率が低く、合成ガス製造用触媒としては不満足なものであった。
【0007】
本発明は、上記従来の問題点を解決し、低温において高い収率で合成ガスを得ることができる触媒及び製造方法を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記課題を解決するべく鋭意検討の結果、原料ガスとしてジメチルエーテルに着目するに至った。そして、ジメチルエーテルと水蒸気を反応させて合成ガスを生成させる触媒として、イリジウム、白金、ロジウムおよびパラジウム担持金属酸化物と固体酸性化合物が極めて有効であり、低温で効率よく合成ガスを生成させうることを見出して本発明を完成することができた。
【0009】
すなわち、本発明は、活性成分として、少なくとも下記(a),(b)のいずれかを含有することを特徴とする、ジメチルエーテルと水蒸気から合成ガスを生成させる触媒(ただし、(c)ニッケル塩とアルミニウム塩とをアルカリ金属炭酸塩で共沈させたものの熱分解生成物の粒子および(d)アルカリ金属酸化物と酸性もしくは両性酸化物との不水溶性化合物を含む粒子の混合物を除く)と、ジメチルエーテルと水蒸気を含有する混合ガスに、活性成分として、少なくとも下記(a),(b)のいずれかを含有する触媒(ただし、(c)ニッケル塩とアルミニウム塩とをアルカリ金属炭酸塩で共沈させたものの熱分解生成物の粒子および(d)アルカリ金属酸化物と酸性もしくは両性酸化物との不水溶性化合物を含む粒子の混合物を除く)を接触させることを特徴とする合成ガスの製造方法に関するものである。
(a)イリジウムおよび/またはイリジウムの化合物
(b)ロジウムおよび/またはロジウムの化合物。
【0010】
【発明の実施の形態】
活性成分のイリジウム、白金およびロジウムはこれらの金属および/または化合物である。イリジウムの化合物としてはイリジウムの酸化物、塩化物が好ましく、イリジウムの酸化物はIrO2、塩化物はIrCl3である。白金の化合物としては白金の酸化物、塩化物が好ましい。白金の酸化物はPtOおよびPtO2であり、塩化物はPtCl2、PtCl3およびPtCl4である。ロジウムの化合物としてはロジウムの酸化物、塩化物が好ましい。ロジウムの酸化物はRh2O3であり、塩化物はRhCl3である。
【0011】
このイリジウム、白金およびロジウム触媒は、触媒担体に担持させて使用することができる。好ましい触媒担体としては、アルミナ、シリカゲル、シリカ・アルミナ、ゼオライト、チタニア、ジルコニア、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化ランタン、酸化セリウムなどの酸化物であるが、なかでもアルミナが合成ガス収率が高いので好ましい。触媒中のイリジウム、白金またはロジウムの含有率は約0.05〜10重量%、好ましくは0.1〜5重量%である。これらの含有率が約0.05重量%未満および10重量%以上であると、合成ガスの収率が低下する。イリジウム、白金、ロジウムはこれらの2種以上を組み合わせることができ、その場合、上記の含有率はその合計である。
【0012】
また、本発明の触媒には、イリジウム、白金、ロジウムの金属および/または化合物のほかに他の金属あるいは化合物を併せて用いることができる。他の金属および化合物の例としては銅、コバルト、ニッケル、鉄の金属及び/又は化合物を挙げることができる。また、これらの金属および化合物を単独で用いるほか2種以上を混合して用いることもできる。これらの第3成分の含有率は20重量%以下、特に10重量%以下であり、含有させる場合は、通常1〜5重量%程度である。
【0013】
これの触媒の製造には、この種の触媒の一般的な調製方法を適用できる。例えば触媒の製造用原料は、イリジウム、白金あるいはロジウムの化合物として、硝酸塩、炭酸塩、ハロゲン化物等の無機酸塩および酢酸塩、シュウ酸塩など有機酸塩が使用される。また、触媒担体への担持操作には、通常の沈殿法、混練法、含浸法およびイオン交換法などの技術が利用できる。このように調製された触媒組成物は、必要があれば常法により焼成する。焼成は、窒素中または空気中において、300〜700℃の温度で1〜10時間加熱して行うのが好ましい。
【0014】
また触媒は反応を行う前に活性化処理を行うのが一般的であり、水素雰囲気において、300〜600℃の温度で、1〜10時間処理するのが好ましい。
【0015】
パラジウム触媒は、金属酸化物にパラジウムを担持させたものと、固体酸性を有する化合物とを物理的に混合して成る触媒である。
【0016】
この触媒を構成する一方の触媒成分は、金属酸化物にパラジウムを担持させたものである。使用される金属酸化物は、シリカゲル、チタニア、アルミナ、シリカ・アルミナ、ジルコニア、酸化スズ、酸化亜鉛等であるが、なかでもシリカゲルおよびチタニアが合成ガスの収率が高いので好ましい。金属酸化物に担持させるパラジウムは、金属酸化物に対して約0.05〜30重量%、好ましくは0.1〜20重量%である。パラジウムの担持率が約0.05重量%未満および30重量%以上であると、合成ガスの収率が低下する。また本発明の触媒を構成する一方の触媒成分には、パラジウムのほかに他の金属あるいは化合物を併せて用いることができる。他の金属および化合物の例としては、Li2O、Na2O、K2O、Rb2O、Cs2O等のアルカリ金属の酸化物、BeO、MgO、CaO、SrO、BaO等のアルカリ土類金属の酸化物、Y2O3、La2O3、CeO2等の希土類元素の酸化物および前記の金属酸化物の2種以上の混合物である。これら第3成分の含有率は20重量%以下、特に10重量%以下であり、含有させる場合は、通常1〜5重量%程度である。
【0017】
パラジウム担持金属酸化物触媒の製造には、この種の触媒の一般的な調製方法を適用できる。例えば触媒の製造用原料は、パラジウムの化合物として硝酸塩、炭酸塩、ハロゲン化物等の無機酸塩および酢酸パラジウム、シュウ酸パラジウムなど有機酸塩が使用される。また、金属酸化物担体へのパラジウムの担持操作には、通常の沈殿法、混練法、含浸法およびイオン交換法などの技術が利用できる。このように調製された触媒組成物は、必要があれば常法により焼成する。焼成は、窒素中または空気中において、300〜600℃の温度で1〜10時間加熱して行うのが好ましい。
【0018】
次いで、水素雰囲気において、300〜600℃の温度で、1〜10時間処理するのが好ましい。
【0019】
パラジウムの触媒を構成するもう一方の触媒成分は、固体酸性を有する化合物である。固体酸性を有する化合物は、アルミナ、シリカ・アルミナ、シリカ・チタニア、ゼオライト、燐酸アルミニウム等であるが、なかでもアルミナが合成ガスの収率が高いので好ましい。
【0020】
上記2種類の触媒成分の混合方法は、両成分をそれぞれペレット化したのち物理的に混合してもよく、また、両成分を粉末にして物理的に混合したのち圧縮成形してペレット化してもよい。両成分の混合割合は、特に限定されることなく、各成分の種類あるいは反応条件等に応じて適宜選択すればよいが、通常は重量比で1:10〜10:1程度であり、好ましくは1:5〜5:1程度である。
【0021】
上記触媒においては、固体酸性を有する化合物の触媒作用により、ジメチルエーテルを加水分解してメタノールを生成させ((1)式)、ついで生成したメタノールを、金属酸化物にパラジウムを担持させた触媒に接触させ、メタノールを分解して合成ガスを生成させるものであり((2)式)、上記の2種類の触媒を物理的に混合して使用することにより、高収率で合成ガスを得ることができる。
CH3OCH3+H2O → 2CH3OH (1)
CH3OH → CO+2H2 (2)
【0022】
このようにして調製された触媒にジメチルエーテルと水蒸気の混合ガスを流通させることにより、合成ガスが高収率で得られる。
【0023】
本発明においては、原料のジメチルエーテルとともに水蒸気を供給する。供給する水蒸気は原料のジメチルエーテルに対し量論量以上あればよく、1〜20モル倍、好ましくは1〜10モル倍である。水蒸気の供給が1モル倍より少ないと、高いジメチルエーテル転化率が得られず、また20モル倍より多いと経済的でない。この原料ガスには、ジメチルエーテルと水蒸気以外の成分も含むことができる。その他の成分として反応に不活性なガス、例えば窒素、不活性ガス、等を含むことができる。これらの含有量は30容量%以下が適当であり、これより多くなると反応速度の低下が問題になる。一方、空気(酸素)はジメチルエーテルが燃焼してしまうのでなるべく排除したほうがよく、許容含有量は空気として5%以下である。
【0024】
反応温度は200〜600℃、好ましくは、イリジウム触媒とロジウム触媒が300〜500℃、白金触媒が250〜450℃、パラジウム触媒が250〜500℃である。反応温度が200℃より低いと高いジメチルエーテル転化率が得られず、かつ二酸化炭素の生成割合が増加して合成ガスの収率を低下させる。また、反応温度が600℃より高いとメタンを主体とする炭化水素の生成が顕著となり、生成物中の合成ガスの割合が低下して好ましくない。
【0025】
反応圧力は常圧〜10kg/cm2が好ましい。反応圧力が10kg/cm2より高いとジメチルエーテル転化率が低下する。
【0026】
空間速度(触媒1m3あたりの標準状態における混合ガスの供給速度m3/h)は、1000〜20000m3/m3・hが好ましい。空間速度が20000m3/m3・hより大きいとジメチルエーテル転化率が低くなり、また1000m3/m3・hより小さいと反応器が極端に大きくなって経済的でない。
【0027】
なお、本発明の方法においては、固定床、流動床のいずれの装置を用いてもよい。
【0028】
こうして、イリジウム触媒の場合には、ジメチルエーテル転化率60〜100%程度、通常70〜100%程度で、合成ガスを収率60〜95%程度、通常70〜95%程度で得ることができる。副生物については、メタノールは10%以下、通常5%以下、炭化水素は20%以下、通常10%以下である。
【0029】
白金触媒の場合には、ジメチルエーテル転化率60〜100%程度、通常70〜100%程度で、合成ガスを収率50〜90%程度、通常60〜80%程度で得ることができる。副生物については、メタノールは20%以下、通常10%以下、炭化水素は5%以下、通常1%以下である。
【0030】
ロジウム触媒の場合には、ジメチルエーテル転化率50〜100%程度、通常60〜90%程度で、合成ガスを収率50〜90%程度、通常60〜80%程度で得ることができる。副生物については、メタノールは10%以下、通常5%以下、炭化水素は20%以下、通常10%以下である。
【0031】
また、パラジウム触媒の場合には、ジメチルエーテル転化率50〜100%程度、通常60〜100%程度で、合成ガスを収率40〜90%程度、通常50〜90%程度で得ることができる。副生物については、メタノールは20%以下、通常5%以下、炭化水素は20%以下、通常5%以下である。
【0032】
【実施例】
[実施例1〜6]
I.触媒の調製
塩化イリジウム(IrCl3)0.777gをイオン交換水約300mlに溶解させ、さらにこの水溶液にγ−アルミナ(触媒学会,ALO−4)99.5gを投入し、蒸発乾固した。そして、このものを空気中、120℃で24時間乾燥し、さらに空気中、500℃で3時間焼成した。ついで水素気流中、500℃で3時間処理を行って触媒を得た。
得られた触媒の組成は、Ir:Al2O3=0.5:99.5(重量比)であった。
【0033】
II.反応方法
内径20mmのステンレス製反応管に所定量の上記触媒を充填した。この反応管にジメチルエーテルと水蒸気を所定量供給して、所定の温度で反応させた。
以上の操作により得られた反応生成物および未反応物はガスクロマトグラフにより分析した。
【0034】
III.反応条件および実験結果
反応条件および実験結果を表1、2に示す。
【0035】
【数1】
【0036】
【数2】
【0037】
【数3】
【0038】
【数4】
各速度の単位は全て [mol/g−cat・h]
【0039】
【表1】
【0040】
【表2】
【0041】
[参考例1〜6]
I.触媒の調製
塩化白金(PtCl4)0.863gを10wt%の塩酸水溶液約300mlに溶解させ、さらにこの水溶液にγ−アルミナ(触媒学会,ALO−4)99.5gを投入し、蒸発乾固した。そして、このものを空気中、120℃で24時間乾燥し、さらに空気中、500℃で3時間焼成した。ついで水素気流中、500℃で3時間処理を行って触媒を得た。
得られた触媒の組成は、Pt:Al2O3=0.5:99.5(重量比)であった。
【0042】
II.反応方法
実施例1〜6と同様に行った。
【0043】
III.反応条件および実験結果
反応条件および実験結果を表3、4に示す。
【0044】
【表3】
【0045】
【表4】
【0046】
[実施例7〜12]
I.触媒の調製
硝酸ロジウム(Rh(NO3)3)1.40gをイオン交換水約300mlに溶解させ、さらにこの水溶液にγ−アルミナ(触媒学会,ALO−4)99.5gを投入し、蒸発乾固した。そして、このものを空気中、120℃で24時間乾燥し、さらに空気中、500℃で3時間焼成した。ついで水素気流中、500℃で3時間処理を行って触媒を得た。
得られた触媒の組成は、Rh:Al2O3=0.5:99.5(重量比)であった。
【0047】
II.反応方法
実施例1〜6と同様に行った。
【0048】
III.反応条件および実験結果
反応条件および実験結果を表5、6に示す。
【0049】
【表5】
【0050】
【表6】
【0051】
[参考例7〜11]
I.触媒の調製
塩酸5mlに塩化パラジウム(PdCl2)0.833gを溶解させ、さらにこれにイオン交換水を加えて約500mlとした水溶液に、シリカゲル(触媒学会,SIO−4)99.5gを投入し、蒸発乾固した。そして、このものを空気中、120℃で24時間乾燥し、さらに空気中、500℃で3時間焼成した。ついで、このものを20〜40メッシュに整粒した後、水素気流中、500℃で3時間処理を行った。このものの組成は、Pd:SiO2=0.5:99.5(重量比)であった。さらに、このものと、20〜40メッシュに整粒したγ−アルミナ(触媒学会,ALO−4)とを、重量比で1:1に物理的に混合して触媒を得た。
【0052】
[参考例12〜16]
塩酸5mlに塩化パラジウム(PdCl2)0.833gを溶解させ、さらにこれにイオン交換水を加えて約500mlとした水溶液に、シリカゲル(触媒学会,SIO−4)98.5gを投入し、蒸発乾固した。そして、このものを空気中、120℃で24時間乾燥し、さらに空気中、500℃で3時間焼成した。ついで、このものを、約500mlのイオン交換水に炭酸カリウム(K2CO3)1.46gを溶解した水溶液に投入して、蒸発乾固した。そして、このものを空気中、120℃で24時間乾燥し、さらに空気中500℃で3時間焼成した。さらに、このものを20〜40メッシュに整粒した後、水素気流中、500℃で3時間処理を行った。このものの組成は、Pd:K2O:Al2O3=0.5:1.0:98.5(重量比)であった。さらにまた、このものと、20〜40メッシュに整粒したγ−アルミナ(触媒学会,ALO−4)とを、重量比で1:1に物理的に混合して触媒を得た。
【0053】
[参考例17〜21]
参考例7〜11の方法において、シリカゲルの代わりにチタニア(触媒学会,TIO−4)を用いる以外、参考例7〜11と同じ方法により触媒を調製した。
【0054】
II.反応方法
内径20mmのステンレス製反応管に所定量の上記触媒を充填した。この反応管にジメチルエーテルと水蒸気および/または二酸化炭素を所定量供給して、所定の温度で反応させた。
以上の操作により得られた反応生成物および未反応物はガスクロマトグラフにより分析した。
【0055】
III.反応条件および実験結果
反応条件および実験結果を表7〜9に示す。
【0056】
【表7】
【0057】
【表8】
【0058】
【表9】
【0059】
【発明の効果】
本発明の合成ガス製造用触媒は、ジメチルエーテルと水蒸気との混合ガスを、200〜600℃の低温で高い合成ガス収率を得ることができる。
Claims (2)
- 活性成分として、少なくとも下記(a),(b)のいずれかを含有することを特徴とする、ジメチルエーテルと水蒸気から合成ガスを生成させる触媒(ただし、(c)ニッケル塩とアルミニウム塩とをアルカリ金属炭酸塩で共沈させたものの熱分解生成物の粒子および(d)アルカリ金属酸化物と酸性もしくは両性酸化物との不水溶性化合物を含む粒子の混合物を除く)。
(a)イリジウムおよび/またはイリジウムの化合物
(b)ロジウムおよび/またはロジウムの化合物。 - ジメチルエーテルと水蒸気を含有する混合ガスに、活性成分として、少なくとも下記(a),(b)のいずれかを含有する触媒(ただし、(c)ニッケル塩とアルミニウム塩とをアルカリ金属炭酸塩で共沈させたものの熱分解生成物の粒子および(d)アルカリ金属酸化物と酸性もしくは両性酸化物との不水溶性化合物を含む粒子の混合物を除く)を接触させることを特徴とする合成ガスの製造方法。
(a)イリジウムおよび/またはイリジウムの化合物
(b)ロジウムおよび/またはロジウムの化合物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10507099A JP4488321B2 (ja) | 1998-04-17 | 1999-04-13 | 合成ガス製造用触媒及び合成ガスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (9)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10-106831 | 1998-04-17 | ||
JP10-106830 | 1998-04-17 | ||
JP10-106829 | 1998-04-17 | ||
JP10683298 | 1998-04-17 | ||
JP10683098 | 1998-04-17 | ||
JP10683198 | 1998-04-17 | ||
JP10682998 | 1998-04-17 | ||
JP10-106832 | 1998-04-17 | ||
JP10507099A JP4488321B2 (ja) | 1998-04-17 | 1999-04-13 | 合成ガス製造用触媒及び合成ガスの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000000466A JP2000000466A (ja) | 2000-01-07 |
JP4488321B2 true JP4488321B2 (ja) | 2010-06-23 |
Family
ID=27526204
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10507099A Expired - Fee Related JP4488321B2 (ja) | 1998-04-17 | 1999-04-13 | 合成ガス製造用触媒及び合成ガスの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4488321B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB9806199D0 (en) * | 1998-03-24 | 1998-05-20 | Johnson Matthey Plc | Catalytic generation of hydrogen |
JP4831800B2 (ja) * | 2001-08-07 | 2011-12-07 | 三菱重工業株式会社 | ジメチルエーテル改質触媒およびジメチルエーテル改質方法 |
JP3870783B2 (ja) | 2001-12-27 | 2007-01-24 | 日産自動車株式会社 | 燃料電池自動車用排ガス浄化システムおよび燃料電池自動車の排ガスの浄化方法 |
JP4801939B2 (ja) * | 2005-06-22 | 2011-10-26 | 関西電力株式会社 | ジメチルエーテル改質システムおよびその運転方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57150439A (en) * | 1980-10-07 | 1982-09-17 | Ici Ltd | Method of reacting hydrocarbon and steam or carbon dioxide |
US5498370A (en) * | 1994-12-15 | 1996-03-12 | Amoco Corporation | Process for hydroshifting dimethyl ether |
DK173416B1 (da) * | 1995-07-21 | 2000-10-02 | Topsoe Haldor As | Fremgangsmåde til fremstilling af hydrogenrig gas |
JPH10174871A (ja) * | 1996-12-18 | 1998-06-30 | Nkk Corp | 合成ガス製造触媒及び合成ガスの製造方法 |
JPH10174873A (ja) * | 1996-12-18 | 1998-06-30 | Nkk Corp | 水素製造触媒及び水素の製造方法 |
JPH10174870A (ja) * | 1996-12-18 | 1998-06-30 | Nkk Corp | 水素製造触媒及び水素の製造方法 |
JP3613539B2 (ja) * | 1996-12-19 | 2005-01-26 | ジェイエフイーホールディングス株式会社 | 合成ガス製造用触媒およびその製造方法ならびに合成ガスの製造方法 |
TW474895B (en) * | 1998-01-21 | 2002-02-01 | Haldor Topsoe As | Process for preparation of hydrogen-rich gas |
-
1999
- 1999-04-13 JP JP10507099A patent/JP4488321B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2000000466A (ja) | 2000-01-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3345784B2 (ja) | オートサーマルリフォーミング法による合成ガスの製造方法 | |
JP4414951B2 (ja) | 炭化水素の接触部分酸化用の触媒及び合成ガスの製造方法 | |
KR101164024B1 (ko) | 메탄의 이산화탄소 개질용 코발트계 촉매 및 이를 이용한 합성가스의 제조방법 | |
US20040122115A1 (en) | Iron-based fischer-tropsch catalysts and methods of making and using | |
CN102105222A (zh) | 用于从合成气合成甲醇的催化剂及其制备方法 | |
KR101437072B1 (ko) | 효율적인 이산화탄소 전환 촉매 및 이의 제조 방법 | |
EP0101645B1 (en) | Catalytic process for the production of methanol | |
JP4713895B2 (ja) | ヨウ化物の製造方法 | |
JPH11106770A (ja) | ジメチルエーテル改質ガスを使用する発電方法および装置 | |
JP4724973B2 (ja) | ジメチルエーテル改質触媒および該触媒を用いる水素含有ガス製造方法 | |
JP4488321B2 (ja) | 合成ガス製造用触媒及び合成ガスの製造方法 | |
JP4226684B2 (ja) | 部分酸化法による合成ガスの製造方法 | |
JPH09168740A (ja) | 二酸化炭素改質化触媒及びこれを用いた改質化法 | |
KR20140028400A (ko) | 개선된 이산화탄소 전환촉매 | |
JP3613539B2 (ja) | 合成ガス製造用触媒およびその製造方法ならびに合成ガスの製造方法 | |
EP0133778B1 (en) | Methanol conversion process | |
JPH0419901B2 (ja) | ||
KR20010046300A (ko) | 수식된 지르코니아 담지 니켈계 개질촉매 및 이를 이용한천연가스로부터 합성가스의 제조방법 | |
JP4133432B2 (ja) | メタノールの水蒸気改質触媒および該触媒を用いるメタノールの水蒸気改質による水素の製造方法 | |
KR101440193B1 (ko) | 천연가스의 혼합개질용 촉매, 이의 제조방법 및 상기 촉매를 이용한 천연가스의 혼합개질방법 | |
JPH0347894B2 (ja) | ||
US20040147619A1 (en) | Chlorine-containing synthesis gas catalyst | |
JPH1024235A (ja) | 高カロリーガス製造用触媒およびその製造方法 | |
JPH10174871A (ja) | 合成ガス製造触媒及び合成ガスの製造方法 | |
JP2003033656A (ja) | 合成ガス製造触媒および合成ガスの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060317 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080123 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080324 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20080508 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20080508 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080702 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080821 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081017 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20090519 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20091002 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091218 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100122 |
|
A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20100216 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100324 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100325 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130409 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130409 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140409 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |