JP2007093593A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2007093593A5
JP2007093593A5 JP2006231713A JP2006231713A JP2007093593A5 JP 2007093593 A5 JP2007093593 A5 JP 2007093593A5 JP 2006231713 A JP2006231713 A JP 2006231713A JP 2006231713 A JP2006231713 A JP 2006231713A JP 2007093593 A5 JP2007093593 A5 JP 2007093593A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ray
sample
total reflection
primary
rays
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2006231713A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2007093593A (ja
JP5159068B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2006231713A priority Critical patent/JP5159068B2/ja
Priority claimed from JP2006231713A external-priority patent/JP5159068B2/ja
Publication of JP2007093593A publication Critical patent/JP2007093593A/ja
Publication of JP2007093593A5 publication Critical patent/JP2007093593A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5159068B2 publication Critical patent/JP5159068B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2006231713A 2005-09-01 2006-08-29 全反射蛍光ｘ線分析装置 Expired - Fee Related JP5159068B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006231713A JP5159068B2 (ja) 2005-09-01 2006-08-29 全反射蛍光ｘ線分析装置

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005254037 2005-09-01
JP2005254037 2005-09-01
JP2006231713A JP5159068B2 (ja) 2005-09-01 2006-08-29 全反射蛍光ｘ線分析装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2007093593A JP2007093593A (ja) 2007-04-12
JP2007093593A5 true JP2007093593A5 (enExample) 2009-08-20
JP5159068B2 JP5159068B2 (ja) 2013-03-06

Family

ID=37979468

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006231713A Expired - Fee Related JP5159068B2 (ja) 2005-09-01 2006-08-29 全反射蛍光ｘ線分析装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5159068B2 (enExample)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5646147B2 (ja) * 2008-03-28 2014-12-24 公立大学法人大阪市立大学 二次元分布を測定する方法及び装置
JP2010019584A (ja) * 2008-07-08 2010-01-28 Central Japan Railway Co 蛍光ｘ線分析装置
JP5846469B2 (ja) * 2008-09-02 2016-01-20 国立大学法人京都大学 全反射蛍光ｘ線分析装置及び全反射蛍光ｘ線分析方法
JP2010197229A (ja) * 2009-02-25 2010-09-09 Osaka City Univ 蛍光ｘ線分析装置
JP5407075B2 (ja) * 2009-04-23 2014-02-05 公立大学法人兵庫県立大学 Ｘ線分析装置
JP5964705B2 (ja) * 2012-09-14 2016-08-03 浜松ホトニクス株式会社 ポリキャピラリレンズ
EP2762862B1 (en) * 2013-01-30 2017-03-08 Bruker AXS GmbH XRF measurement apparatus for detecting contaminations on the bevel of a wafer
JP6501230B2 (ja) * 2016-03-08 2019-04-17 株式会社リガク 多元素同時型蛍光ｘ線分析装置および多元素同時蛍光ｘ線分析方法
US11391680B2 (en) * 2018-06-08 2022-07-19 Shimadzu Corporation X-ray fluorescence analyzer and X-ray fluorescence analysis method
CN114878614B (zh) * 2022-04-28 2025-10-21 度微检测技术(杭州)有限公司 X射线光片共聚焦三维荧光显微成像系统和方法
CN115389538B (zh) * 2022-08-09 2023-12-29 深圳市埃芯半导体科技有限公司 X射线分析装置及方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0740080B2 (ja) * 1986-06-19 1995-05-01 株式会社島津製作所 Ｘ線ビ−ム収束装置
JP2675737B2 (ja) * 1993-05-06 1997-11-12 理学電機工業株式会社 全反射蛍光ｘ線分析方法および分析装置
JPH0961382A (ja) * 1995-08-24 1997-03-07 Hitachi Ltd 全反射蛍光ｘ線分析装置
JPH10227749A (ja) * 1997-02-14 1998-08-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd Ｘ線検査装置及びｘ線検査方法
ES2271277T3 (es) * 2001-06-19 2007-04-16 X-Ray Optical Systems, Inc. Sistema xrf dispersivo de longitud de onda que usa optica de enfoque para la excitacion y un monocromador de enfoque para la recogida.
JP2003202306A (ja) * 2002-01-08 2003-07-18 Japan Science & Technology Corp 試料基板と反射板を用いてｘ線が多重全反射して収束する構成にした全反射蛍光ｘ線分析法および該分析装置
JP4421327B2 (ja) * 2004-02-25 2010-02-24 浜松ホトニクス株式会社 Ｘ線コリメータ及びｘ線撮像装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2008021807A3 (en) X-ray inspection with contemporaneous and proximal transmission and backscatter imaging
JP2008278955A5 (enExample)
JP2007093593A5 (enExample)
US20080056442A1 (en) X-ray analysis apparatus
JPWO2020202730A1 (ja) Ｘ線分析装置
WO2007006042A3 (en) Methods and apparatus for e-beam scanning
US20160041110A1 (en) X-ray transmission inspection apparatus and extraneous substance detecting method
JP2013221745A (ja) Ｘ線検出装置
JP6124024B2 (ja) 缶体のピンホール検査装置
CN105008905A (zh) 光学镜、x射线荧光分析装置以及x射线荧光分析方法
JP2008058014A5 (enExample)
JP6952055B2 (ja) 放射線検出装置
JP5081556B2 (ja) デバイシェラー光学系を備えたｘ線回折測定装置とそのためのｘ線回折測定方法
JP4492507B2 (ja) Ｘ線集束装置
JP5403728B2 (ja) 中性子回折装置
JP3902048B2 (ja) 放射線検査装置
CN101093201B (zh) 荧光x射线分析设备
JP5492173B2 (ja) 回折ｘ線検出方法およびｘ線回折装置
JP2008256587A (ja) Ｘ線検査装置およびｘ線検査方法
JP6506629B2 (ja) Ｘ線受光装置およびこれを備えたｘ線検査装置
JP5695589B2 (ja) Ｘ線強度補正方法およびｘ線回折装置
JP2010197229A (ja) 蛍光ｘ線分析装置
JP2011022299A5 (enExample)
JP2007093315A (ja) Ｘ線集束装置
KR102332578B1 (ko) 엑스선 집속광학계를 이용한 가변형 엑스선 발생장치