JP2007090298A - 圧力波発生装置及び圧力波発生装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
設計通りに動作する高い高品質な圧力波発生装置及び圧力波発生装置の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】
本発明に係る圧力波発生装置は、圧力波を発生させる圧力波発生装置1であって、シリコン基板11と、当該シリコン基板11に配設されたナノ結晶層13と、当該ナノ結晶層13上に配設された発熱電極14とを備え、ナノ結晶層13は、多孔度の高い多孔質材料から構成された高多孔度層132と、当高多孔度層13上に配設され、多孔度の低い多孔質材料から構成された低多孔度層131とを有するものである。
【選択図】 図6
Description
まず、図1を用いて、本発明に係る圧力波発生装置の構成について説明する。図1(a)は、本発明に係る圧力波発生装置の一構成例を示す上面模式図、図1(b)は、図1(a)におけるA−A'断面を示している。また、図1では、本発明に係る圧力波発生装置の主たる構成が示されている。
実施形態1では、絶縁膜層12にSiCを用いたが、本実施形態1では絶縁膜層12にSiNxを用いている。
上述の通り、発明の実施の形態1や発明の実施の形態2による製造方法によって、ドライエッチングによるシリコン基板表面の荒れを抑制することができるが、さらに高品質の圧力波発生装置を製造するためには、さらなる改良が求められる。本実施形態3では、ナノ結晶層の構成を改良することによって、圧力波発生装置の高品質化を実現することができた。
12...絶縁膜層、120...開口窓、13...ナノ結晶層、
131...高多孔度層、132...低多孔度層、14...発熱電極、151,152...パッド
21...プロテクト層、22...マスク
32...絶縁膜層、320...開口窓
Claims (10)
- 圧力波を発生させる圧力波発生装置を製造する方法であって、
基板上にプロテクト層を形成するステップと、
前記基板及び前記プロテクト層上に絶縁膜層を形成するステップと、
当該形成された絶縁膜層をエッチングによって、前記プロテクト層が形成された部分を開口させるステップと、
前記プロテクト層を除去して、前記開口された部分から前記基板を露出させるステップと、
当該露出した基板に多孔質層を形成するステップと、
当該多孔質層上に発熱電極を形成するステップとを備えることを特徴とする圧力波発生装置の製造方法。 - 前記プロテクト層は、Alであり、
前記エッチングはドライエッチングであることを特徴とする請求項1記載の圧力波発生装置の製造方法。 - 前記絶縁膜層は、SiCであることを特徴とする請求項1又は2記載の圧力波発生装置の製造方法。
- 圧力波を発生させる圧力波発生装置を製造する方法であって、
基板上に絶縁膜層を形成するステップと、
当該形成された絶縁膜層をウェットエッチングによって開口させ、当該開口した開口窓から前記基板を露出させるステップと、
当該露出した基板に多孔質層を形成するステップと、
当該多孔質層上に発熱電極を形成するステップとを備え、
前記絶縁膜層は、SiNxから構成され、
前記ウェットエッチングは、熱リン酸を用いて行われる圧力波発生装置の製造方法。 - 前記多孔質層は、発熱電極と接する面近傍の多孔度がその他の領域の多孔度よりも低いことを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の圧力波発生装置の製造方法。
- 前記多孔質層は、高多孔度層と、当該高多孔度層よりも低い多孔度を有し前記高多孔度層よりも基板表面側に形成された低多孔度層を有することを特徴とする請求項5記載の圧力波発生装置の製造方法。
- 前記基板に多孔質層を形成するステップでは、陽極酸化のために当該基板に流す電流の電流密度を変化させることによって、多孔度を変化させることを特徴とする請求項5記載の圧力波発生装置の製造方法。
- 圧力波を発生させる圧力波発生装置であって、
基板と、
当該基板に形成された多孔質層と、
当該多孔質層上に配設された発熱電極とを備え、
前記多孔質層は、前記発熱電極と接する面近傍の多孔度がその他の領域の多孔度よりも低い圧力波発生装置。 - 前記多孔質層は、高多孔度層と、当該高多孔度層よりも低い多孔度を有し前記高多孔度層よりも基板表面側に形成された低多孔度層を有することを特徴とする請求項8記載の圧力波発生装置。
- 前記低多孔度層は、前記高多孔度層よりも薄いことを特徴とする請求項9記載の圧力波発生装置。
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