JP5409251B2 - 電気機械変換装置およびその製造方法 - Google Patents
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Description
図2は、本発明に係る電気機械変換装置の製造方法の第1実施例の工程を説明する断面図である。以下の説明を簡潔にするため、パターニング工程は、基板上のフォトレジストの塗布、乾燥、露光、現像などのフォトリソグラフィ工程から、エッチング工程、フォトレジストの除去、基板の洗浄、乾燥工程の順に行なわれる全工程を意味するものとする。また、本実施例の基板4はSiを例として説明するが、他の材料の基板を使用することもできる。例えば、SiO2、サファイアなどの絶縁性の基板も使用可能である。なお、図2には、隣接する二つ素子を形成する断面図を示しているが、素子数はこれに限られず、何個の場合でも同じ工程によって形成することが出来る。
本実施例では、第1実施例と同じように図2の工程まで作製し、その後、図5の上面図で示されるように保護膜をパターニングする。保護膜は、感光性ポリイミド(例えば、東レ社製の感光性ポリイミド、製品名:フォトニース)を用いることとする。このような材料を用いることにより、直接、精密なリソグラフィによって保護膜のパターニングが可能なため、第1実施例のエッチング法より簡便に作成することができる。
本実施例では、第1実施例と同じように、図2の工程まで作製し、その後、図6の上面図で示されるように保護膜をパターニングする。図6(b)は図6(a)の保護膜12を透視した透視図である。
3 振動膜(絶縁体)
4 基板
6 絶縁層
7 上部電極の配線
8 下部電極
9 隣接する素子の中央線
10 キャビティ(間隙)
11 犠牲層
12 保護膜
13 エッチング液の入口
14 振動膜支持部
20 封止部
32 電流源
33 電気配線
34 保護膜12のない領域(溝)
51 素子1
52 素子2
Claims (4)
- 第1の電極と、前記第1の電極との間に間隙を挟んで形成された振動膜と、前記振動膜に形成された第2の電極と、を備えた素子の前記振動膜側の表面に絶縁性の保護膜が形成された電気機械変換装置であって、
前記第2の電極表面と前記第2の電極の配線表面は前記保護膜に覆われており、
前記振動膜表面の少なくとも一部に保護膜が形成されていない領域を有することを特徴とする電気機械変換装置。 - 前記素子が複数形成されており、前記保護膜が形成されていない領域が、隣り合う素子の前記第2の電極間に存在することを特徴とする請求項1に記載の電気機械変換装置。
- 前記第2の電極近傍と前記第2の電極の配線近傍以外の前記振動膜表面には保護膜が形成されていないことを特徴とする請求項1に記載の電気機械変換装置。
- 第1の電極を形成する工程と、前記第1の電極との間に間隙を挟んで振動膜を形成する工程と、前記振動膜に第2の電極を形成する工程と、を含む電気機械変換装置の製造方法であって、
前記電気機械変換装置の前記振動膜側の表面に絶縁性の保護膜を形成した後、前記第2の電極表面と前記第2の電極の配線表面に形成された前記保護膜は残し、前記振動膜表面に形成された前記保護膜の少なくとも一部を除去する工程を有することを特徴とする電気機械変換装置の製造方法。
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