JP2007086715A - パターンダミーを持つ半導体素子及びパターンダミーを用いた半導体素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】パターンダミー(pattern dummy)340を持つ半導体素子は、素子分離領域300により囲まれるアクティブ領域310と重なるように配置される主パターン320と、素子分離領域300上でアクティブ領域310と一定間隔だけ離れて配置されるパターンダミー341とを備える。パターンダミー341とアクティブ領域310との間隔は、特性化したデザインルール(design rule)により決定され、特に、連結用パターンダミー350や補助パターンダミーを共に備えることによって強固なパターンダミーとすることができる。
【選択図】図3
Description
Claims (19)
- 素子分離領域により囲まれるアクティブ領域と重なるように配置される主パターンと、
前記素子分離領域上で、前記アクティブ領域と一定間隔だけ離れて配置されるパターンダミーと、
を備えることを特徴とする半導体素子。 - 前記パターンダミーと前記アクティブ領域間の間隔は、前記パターンダミーにより素子の動作が影響を受けるのを抑制する範囲内で決定されることを特徴とする請求項1に記載の半導体素子。
- 前記パターンダミーと前記アクティブ領域間の間隔は、寄生キャパシタンス、インプラントシャドウ効果及び接合領域形成を考慮して決定されるようにすることを特徴とする請求項2に記載の半導体素子。
- 前記パターンダミーは、前記主パターンに並んで配置されるストライプ形状を有することを特徴とする請求項1に記載の半導体素子。
- 前記ストライプ形状のパターンダミーの幅は、寄生キャパシタンスの抑制、フォトリソグラフィ工程の余裕度増大、及び最小化したエッチングバイアスが得られる範囲内で決定されることを特徴とする請求項4に記載の半導体素子。
- 前記ストライプ形状のパターンダミーは、複数個が相互に離れて配置されることを特徴とする請求項4に記載の半導体素子。
- 前記隣接するストライプ形状のパターンダミーの端部を互いに連結させる連結用パターンダミーをさらに備えることを特徴とする請求項6に記載の半導体素子。
- 前記ストライプ形状のパターンダミーの両端において前記パターンダミーよりも大きい幅で配置される補助パターンダミーをさらに備えることを特徴とする請求項4に記載の半導体素子。
- 素子分離領域により相互に離間される第1アクティブ領域及び第2アクティブ領域と各々重なるように配置される第1主パターン及び第2主パターンと、
前記素子分離領域上で、前記第1アクティブ領域及び第2アクティブ領域と一定間隔だけ離れて配置されるものの、素子の動作に影響を与えるのを最大限に抑えられるように決定される第1アクティブ領域との間隔及び第2アクティブ領域との間隔を維持する範囲内で最大限の幅を持つパターンダミーと、
を備えることを特徴とする半導体素子。 - 前記パターンダミーと前記第1及び第2アクティブ領域間の各間隔は、寄生キャパシタンス、インプラントシャドウ効果及び接合領域形成を考慮して決定されるようにすることを特徴とする請求項9に記載の半導体素子。
- 素子分離領域により囲まれるアクティブ領域を持つ半導体基板上に、パターニングしようとする物質膜を蒸着する段階と、
前記物質膜上にフォトレジスト膜を蒸着する段階と、
前記アクティブ領域と重なるように形成される物質膜パターンに対応する光遮断パターンと、前記素子分離領域上で前記アクティブ領域と一定間隔だけ離れて形成されるパターンダミーに対応する第2光遮断パターンとを有するフォトマスクを用いた露光及び現像により、フォトレジスト膜パターンを形成する段階と、
前記フォトレジスト膜パターンをエッチングマスクとしたエッチングにより、前記物質膜パターン及びパターンダミーを形成する段階と、
前記フォトレジスト膜パターンを除去する段階と、
を備えることを特徴とする半導体素子の製造方法。 - 前記パターンダミーと前記アクティブ領域間の間隔は、前記パターンダミーにより素子の動作が影響を受けるのを抑制する範囲内で決定されることを特徴とする請求項11に記載の半導体素子の製造方法。
- 前記パターンダミーと前記アクティブ領域間の間隔は、寄生キャパシタンス、インプラントシャドウ効果及び接合領域形成を考慮して決定されるようにすることを特徴とする請求項12に記載の半導体素子の製造方法。
- 前記パターンダミーは、前記物質膜パターンに並んで配置されるストライプ形状に形成することを特徴とする請求項11に記載の半導体素子の製造方法。
- 前記ストライプ形状のパターンダミーの幅は、寄生キャパシタンスの抑制、フォトリソグラフィ工程の余裕度増大、及び最小化したエッチングバイアスが得られる範囲内で決定されることを特徴とする請求項14に記載の半導体素子の製造方法。
- 前記ストライプ形態のパターンダミーは、複数個が相互に離間されるように形成することを特徴とする請求項14に記載の半導体素子の製造方法。
- 素子分離領域により囲まれるアクティブ領域を持つ半導体基板上に、パターニングしようとする物質膜を蒸着する段階と、
前記物質膜上にフォトレジスト膜を蒸着する段階と、
前記アクティブ領域と重なるように形成される物質膜パターンに対応する第1光遮断パターンと、前記素子分離領域において前記アクティブ領域と一定間隔だけ離れて形成される複数個のパターンダミーに対応する第2光遮断パターンと、前記隣接するパターンダミーの端部を連結する連結用パターンダミーに対応する第3光遮断パターンとを有するフォトマスクを用いた露光及び現像により、フォトレジスト膜パターンを形成する段階と、
前記フォトレジスト膜パターンをエッチングマスクとしたエッチングにより、前記物質膜パターン、パターンダミー及び連結用パターンダミーを形成する段階と、
前記フォトレジスト膜パターンを除去する段階と、
を備えることを特徴とする半導体素子の製造方法。 - 素子分離領域により囲まれるアクティブ領域を持つ半導体基板上に、パターニングしようとする物質膜を蒸着する段階と、
前記物質膜上にフォトレジスト膜を蒸着する段階と、
前記アクティブ領域と重なるように形成される物質膜パターンに対応する第1光遮断パターンと、前記素子分離領域で前記アクティブ領域と一定間隔だけ離れて形成されるパターンダミーに対応する第2光遮断パターンと、前記パターンダミーの両端において前記パターンダミーよりも大きい幅で形成される補助パターンダミーに対応する第3光遮断パターンとを有するフォトマスクを用いた露光及び現像により、フォトレジスト膜パターンを形成する段階と、
前記フォトレジスト膜パターンをエッチングマスクとしたエッチングにより、前記物質膜パターン、パターンダミー及び補助パターンダミーを形成する段階と、
前記フォトレジスト膜パターンを除去する段階と、
を備えることを特徴とする半導体素子の製造方法。 - 素子分離領域により相互に離間される第1アクティブ領域及び第2アクティブ領域を持つ半導体基板上に、パターニングしようとする物質膜を蒸着する段階と、
前記物質膜上にフォトレジスト膜を蒸着する段階と、
前記第1アクティブ領域及び第2アクティブ領域と各々重なるように形成される第1物質膜パターン及び第2物質膜パターンに各々対応する第1光遮断パターンと、前記素子分離領域上で前記第1アクティブ領域及び第2アクティブ領域と一定間隔だけ離れて配置されるものの、素子の動作に影響を与えるのが最大限に抑えられるように決定される第1アクティブ領域との間隔及び第2アクティブ領域との間隔を維持する範囲内で最大限の幅を持つパターンダミーに対応する第2光遮断パターンとを有するフォトマスクを用いた露光及び現像により、フォトレジスト膜パターンを形成する段階と、
前記フォトレジスト膜パターンをエッチングマスクとしたエッチングにより、前記第1物質膜パターン、第2物質膜パターン及びパターンダミーを形成する段階と、
前記フォトレジスト膜パターンを除去する段階と、
を備えることを特徴とする半導体素子の製造方法。
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