JP2007073984A

JP2007073984A - 照明光源装置、露光装置及び露光方法

Info

Publication number: JP2007073984A
Application number: JP2006299992A
Authority: JP
Inventors: Motoo Koyama; 元夫小山; Kenji Udagawa; 賢司宇田川
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 2003-01-16
Filing date: 2006-11-06
Publication date: 2007-03-22

Abstract

【課題】静電気による破損を防止することができる照明光源装置を提供する。
【解決手段】複数の単位固体光源を有し当該複数の単位固体光源からの照明光によって擬似面光源を形成する光源ユニット２１と、前記光源ユニットを収納する格納容器２４とを備え、前記格納容器は、アースされている。
【選択図】図１7

Description

この発明は、半導体素子、液晶表示素子、撮像素子、薄膜磁気ヘッド、その他のマイクロデバイスの製造工程において用いられる照明光源装置、露光装置及び露光方法に関するものである。

半導体素子や液晶基板等を製造するためのリソグラフィ工程において、レチクルあるいはフォトマスク等（以下単に「レチクル」という）のパターン像を投影光学系を介して感光基板上に露光する投影露光装置が使用されている。このような投影露光装置は、基本的には、光源の光でレチクルを均一に照明するための照明光学系と、レチクルに形成された回路パターンをウェハー等の基板上に結像するための投影光学系と、基板を支持しつつ適宜移動させて位置決めするためのステージ装置とからなる（例えば特許文献１等参照）。
特開平１１−１５４６４３号公報

ところで、上述のような投影露光装置の光源としては、波長約３６０ｎｍ程度の紫外領域においては主に水銀ランプなどが用いられていた。この水銀ランプの寿命は、概ね５００ｈ〜１０００ｈ程度であることから、定期的にランプ交換が必要となり露光装置ユーザには大きな負担となっていた。また、高照度確保のために高電力が必要であり、またそれに伴う発熱対策などが必要になるなど、高いランニングコストの問題や、経時劣化などの要因に伴う破裂の危険性を有していた。

これに対して発光ダイオードは、水銀ランプなどに比べて発光効率が高く、そのため省電力、小発熱という特長を持ち、大幅なランニングコストの低減を実現できる。また、寿命も３０００ｈ程度のものもあるため、交換にかかる負担も少なく、経時劣化などの要因に伴う破裂の危険性もない。さらに最近では、波長３６５ｎｍで１００ｍＷ程度の高い光出力を達成したＵＶ−ＬＥＤなども開発されている。

一方、発光ダイオードは、ランプ等の従来の光源に比べると静電気による破損が生じやすい。

本発明は、静電気による破損を防止することができる照明光源装置、該照明光源装置を備える露光装置及び該露光装置を用いた露光方法を提供することを目的とする。

本発明の照明光源装置は、複数の単位固体光源を有し当該複数の単位固体光源からの照明光によって擬似面光源を形成する光源ユニット（２１）と、前記光源ユニットを収納する格納容器（２４）とを備え、前記格納容器は、アースされていることを特徴とする。

また、本発明の露光装置は、複数の単位固体光源からの照明光によって擬似面光源を形成する光源ユニット（２１）と、該光源ユニットを収納する格納容器（２４）とを備える照明光源装置（２）と、前記照明光源装置から射出された光を用いてマスク（ＭＡ）のパターンを感光性基板（ＰＬ）上に転写する露光装置本体と、該露光装置本体を収納するチャンバ（１２）とを備え、前記格納容器および前記チャンバに帯電防止手段が設けられていることを特徴とする。

また、本発明の露光方法は、本発明の露光装置を用いた露光方法であって、被照射面又は被照射面と光学的に共役な位置に配置された前記マスク（ＭＡ）を照明する照明工程と、前記マスクの前記パターンを前記感光性基板（ＰＬ）上に転写する転写工程とを含むことを特徴とする。

本発明の照明光源装置は、照明光源ユニットが静電気により破損するのを防止することができる。また、本発明の露光装置は、照明光源装置が備える照明光源ユニットが静電気により破損するのを防止することができる。また、本発明の露光方法は、照明光源装置が備える照明光源ユニットが静電気により破損するのを防止することができる露光装置を用いるため、良好な露光を行なうことができる。

〔第１実施形態〕
図１は、第１実施形態に係る露光装置の概略構成を示す図である。この露光装置１０は、照明光源装置２と、照明光学系４と、マスクステージ５と、投影光学系６と、プレートステージ７と、主制御系８とを備え、プレート（感光性基板）ＰＬ上にマスクＭＡの像を投影することによって露光処理を行う。

ここで、照明光源装置２は、固体光源ユニット２１と、電源装置２２と、コリメートレンズ２３と、格納容器２４と、給排気装置２５とを備える。このうち、固体光源ユニット２１は、従来の高圧水銀ランプに代わる光源装置であり、発光ダイオード（ＬＥＤ）のパッケージである単位固体光源をアレイ状に配列した発光ダイオードアレイからなる。このような構造を有することから、固体光源ユニット２１は、基準光軸ＡＸ方向に垂直な方向に一定の面状の広がりを有する擬似面光源を形成する。固体光源ユニット２１は、電源装置２２から供給される駆動電流によって適当な輝度で発光し、固体光源ユニット２１の各発光部から射出される所定波長の単色の照明光は、コリメートレンズ２３に入射して平行光束とされる。なお、電源装置２２は、固体光源ユニット２１から射出される照明光の全体的強度を段階的に或いは連続的に調整することができ、固体光源ユニット２１から射出される擬似面光源内での２次元的強度分布を調整することもできる。

固体光源ユニット２１は、格納容器２４中に収納されており、外気から遮断されている。この格納容器２４は、溶融石英等の平板ガラスからなる光学窓２４ａを有し、交換ユニットとして図１に示す露光装置１０のチャンバ１２に対して着脱自在となっている。格納容器２４には、吐出部である給気ポート２６ａと吸引部である排気ポート２６ｂとがそれぞれ形成されている。給排気装置２５からの冷却ガスは、給気ポート２６ａを介して格納容器２４内に導入され、格納容器２４内のガスは、導入された冷却ガスと置換されて排気ポート２６ｂを介して格納容器２４外に排出される。これらの給排気装置２５、給排気ポート２６ａ、２６ｂ等は、気流形成手段若しくはクモリ防止手段を構成する。

なお、固体光源ユニット２１が紫外域の照明光を発生し、格納容器２４中に導入される冷却ガスが酸素を含むものである場合、固体光源ユニット２１、格納容器２４、光学窓２４ａ、これらの固定・シール部材等をオゾン耐性のある材料で形成することが望ましい。つまり、紫外光の存在下で酸素ガスから有機物質等を分解するオゾンガスが発するが、固体光源ユニット２１、格納容器２４、光学窓２４ａ、これらの固定・シール部材等をオゾン耐性のある材料で形成するならば、照明光源装置の寿命を長くすることができる。

図２は、照明光源装置２の冷却機構の構成を主に説明する図である。照明光源装置２に設けた給排気装置２５は、冷却ガス送出装置２５ａと、ケミカルフィルタ２５ｂと、冷却ガス吸引装置２５ｃと、ガス流路切替装置２５ｄと、温度調節装置２５ｅと、給排気制御装置２５ｆとを備える。

ここで、冷却ガス送出装置２５ａは、温度調節装置２５ｅで適当な温度に調節された冷却ガスをケミカルフィルタ２５ｂに送り出す。この冷却ガス送出装置２５ａは、送風用のファン２５ｋとこのファン２５ｋを駆動するための電動機２５ｊとを備えており、ケミカルフィルタ２５ｂを介して給気ポート２６ａに必要な流量の冷却ガスを供給する。なお、冷却ガス送出装置２５ａは、給気ポート２６ａとともに気体供給手段を構成する。

ケミカルフィルタ２５ｂは、主として冷却ガス中の無機物質を物理吸着または化学吸着によって除去する第１フィルタ２５ｍと、主として冷却ガス中の有機物質を物理吸着によって除去する第２フィルタ２５ｎとを備える。第１フィルタ２５ｍは、例えばセラミックスと適当な無機材料とを焼成して形成したセラミックハニカムフィルタとすることができ、第２フィルタ２５ｎは、例えば活性炭等とすることができる。ケミカルフィルタ２５ｂを経た冷却ガスは、不純物濃度が極めて低減されたものとなっている。具体的には、冷却ガスに含まれる有機物の総量が１ｍｇ／ｍ^３以下となっている。また、冷却ガスに含まれるＮＨ_３又はＮＨ_４ ^＋基を含む化合物の総量が０．０１ｍｇ／ｍ^３以下となっており、冷却ガスに含まれるＳＯ_Ｘ又はＳＯ_Ｘ基を含む化合物の総量が０．０１ｍｇ／ｍ^３以下となっており、冷却ガスに含まれるＮＯ_Ｘ又はＮＯ_Ｘ基を含む化合物の総量が０．０１ｍｇ／ｍ^３以下となっている。さらに、冷却ガスに含まれる気体に含まれるＣｌ_２又はＣｌ⁻基を含む化合物の総量が０．０１ｍｇ／ｍ^３以下となっており、冷却ガスに含まれるＢｒ_２又はＢｒ⁻基を含む化合物の総量が、０．０１ｍｇ／ｍ^３以下となっている。

以上において、冷却ガス中の有機物の総量を１ｍｇ／ｍ^３以下とすることにより、固体光源ユニット２１の光源面すなわち擬似面光源に付着するクモリ物質を抑制することができるので、照射対象の照度が低下して露光において解像度等が低下することを防止できる。なお、特にフタル酸エステル類や有機シリコン類の総量が０．０１ｍｇ／ｍ^３以下であることがクモリ発生防止の観点からは好ましい。

同様に、ＮＨ_３又はＮＨ_４ ^＋基を含む化合物の総量を０．０１ｍｇ／ｍ^３以下とすることにより、ＮＨ_３、ＮＨ_４ ^＋イオン濃度が十分低いので、硫酸アンモニウム（（ＮＨ_４）_２ＳＯ_４）やその他のアンモニウムイオンを含む化合物などの曇り物質の発生を抑制することができ、ひいては固体光源ユニット２１の擬似面光源に付着する曇り物質を抑制できるので、照射対象の照度が低下して露光において解像度等が低下することを防止できる。

また、冷却ガス中のＳＯ_Ｘ又はＳＯ_Ｘ基を含む化合物の総量を０．０１ｍｇ／ｍ^３以下とすることにより、ＳＯ_Ｘ、ＳＯ_Ｘイオン濃度が十分に低いので、硫酸アンモニウム（（ＮＨ_４）_２ＳＯ_４）等の曇り物質の発生を抑制することができ、ひいては固体光源ユニット２１の擬似面光源に付着する曇り物質を抑制することができるので、照射対象の照度が低下して露光において解像度等が低下することを防止できる。

また、冷却ガス中のＮＯ_Ｘ又はＮＯ_Ｘ基を含む化合物の総量を０．０１ｍｇ／ｍ^３以下とすることにより、ＮＯ_Ｘ、ＮＯ_Ｘイオン濃度が十分に低いため、硫酸アンモニウム（ＮＨ_４ＮＯ_３）等の曇り物質の発生を抑制することができ、ひいては固体光源ユニット２１の擬似面光源に付着する曇り物質を抑制することができるので、照射対象の照度が低下して露光において解像度等が低下することを防止できる。

また、冷却ガス中のＣｌ_２、Ｃｌ⁻基、Ｂｒ_２、又はＢｒ⁻基を含む化合物の総量を０．０１ｍｇ／ｍ^３以下とすることにより、Ｃｌ_２、Ｃｌ⁻イオン濃度やＢｒ_２、Ｂｒ⁻イオン濃度が十分に低いため、塩化アンモニウム（ＮＨ_４Ｃｌ）や臭化アンモニウム（ＮＨ_４Ｂｒ）等の曇り物質の発生を抑制することができ、ひいては固体光源ユニット２１の擬似面光源に付着する曇り物質を抑制することができるので、照射対象の照度が低下して露光において解像度等が低下することを防止できる。

冷却ガス吸引装置２５ｃは、格納容器２４内に導入されて使用済みとなった冷却ガスを格納容器２４外に吸引する。冷却ガス吸引装置２５ｃは、送風用のファン２５ｐとこのファン２５ｐを駆動するための電動機２５ｑとを備えており、排気ポート２６ｂを介して冷却ガス送出装置２５ａからの冷却ガス導入量に対応する排気を行う。なお、冷却ガス吸引装置２５ｃは、排気ポート２６ｂとともに気体排出手段を構成する。

給気ポート２６ａは、格納容器２４内に冷却ガスを噴出して格納容器２４内に冷却ガスの気流を形成する。排気ポート２６ｂも、格納容器２４内の冷却ガスを吸引して格納容器２４内に冷却ガスの気流を形成する。ここで、給気ポート２６ａと排気ポート２６ｂとは、光路を避けつつ固体光源ユニット２１を挟んで互いに対向する位置に配置されている。これにより、固体光源ユニット２１の周囲には、冷却ガスが通過する一定方向の安定した冷却気体路が形成され、固体光源ユニット２１の周囲で冷却ガスが滞留することが防止される。

図３は、固体光源ユニット２１の部分拡大断面図である。図面では一部のみを図示するが、固体光源ユニット２１は、全体として矩形又は円形状の基板２１ａ上に発光ダイオード（固体光源）２１ｂを複数個、２次元アレイ状に配列した構造となっている。なお、発光ダイオード２１ｂの個数や密度は、後述する図１のマスクＭＡやプレートＰＬ上での照度の値が適当な値となるように適度に調節される。また、発光ダイオード２１ｂの配列は、マスクＭＡの輪郭等を含む露光装置の仕様に応じて適宜変更される。

各発光ダイオード２１ｂは、横方向に空隙ＧＡが形成された状態で、適当な配列で基板２１ａ上に固定されている。また、基板２１ａには、発光ダイオード２１ｂの支持位置を避けて孔２１ｃが形成されている。つまり、各発光ダイオード２１ｂ間にその軸方向に延びる空隙ＧＡが形成されており、この空隙ＧＡが基板２１ａに形成された孔２１ｃと連通して、軸方向に延びる空間である冷却気体路ＣＰが形成される。この冷却気体路ＣＰは、固体光源ユニット２１によって形成される擬似面光源を横切るように延びており、冷却ガスをすべての発光ダイオード２１ｂに並行して効率的に供給することができ、固体光源ユニット２１の効率的冷却が可能になる。

図２に戻って、ガス流路切替装置２５ｄは、給排気装置２５で使用する冷却ガスを用途等に応じて変更したり、給排気装置２５における冷却ガスの流路を大気中等の外部に放出する開放型とするか、再利用する循環型とするかの切り替えを行うことができる。例えば、冷却ガスの流路を開放型とする場合、給排気制御装置２５ｆから適当な駆動信号を出力することによって必要なバルブ２５ｓを動作させて、空気、窒素ガス、ヘリウムガスのいずれか、又はこれらの混合ガスを冷却ガスとしてガス流路切替装置２５ｄに供給する。ガス流路切替装置２５ｄは、ガス流路切替装置２５ｄから供給された冷却ガスを温度調節装置２５ｅに供給するとともに、冷却ガス吸引装置２５ｃを経て格納容器２４外に排気された使用済みの冷却ガスをそのまま或いは適当に処理して大気中又は外部に排出する。

一方、冷却ガスの流路を循環型とする場合、当初給排気制御装置２５ｆからの駆動信号によってバルブ２５ｓを開動作させて、空気、窒素ガス、ヘリウムガスのいずれか、又はこれらの混合ガスを冷却ガスとしてガス流路切替装置２５ｄに供給する。その後、冷却ガスが格納容器２４中に十分供給された段階で、バルブ２５ｓを閉動作させて新規冷却ガスの供給を停止するとともに、冷却ガス吸引装置２５ｃを経て格納容器２４外に排気された使用済みの冷却ガスを再度温度調節装置２５ｅに戻すことによって、冷却ガスの循環を行う。この際、ガス流路切替装置２５ｄは、再度温度調節装置２５ｅすなわち格納容器２４に供給すべき冷却ガスの量と追加的に置換する新たな冷却ガスの量を適宜調節する。このように、冷却ガスを循環させて再利用する場合、ケミカルフィルタ２５ｂの負担が軽減され、ケミカルフィルタ２５ｂの寿命を大幅に延ばすことができる。ここで、格納容器２４に供給される冷却ガスの供給量をＶ（ｌ／ｍｉｎ）とし、発光ダイオード２１ｂの総数をｎとし、発光ダイオード２１ｂの出力をＩ（Ｗ）とするとき、
Ｖ／（Ｉ・ｎ）＞０．０５ … （１）
の関係が満たされる。上記（１）の条件が満たされる場合、各発光ダイオード２１ｂをその数量及び出力に応じて好ましい状態に冷却することができる。

なお、空気、窒素ガス、ヘリウムガス等のガスは、露光装置を設置する工場設備に付属するものを利用することができる。つまり、工場配管を直接分岐してガス流路切替装置２５ｄに導くことができる。特に空気については、高度のクリーンルームであればＨＥＰＡ等から吐出されたものをそのまま使用することができる。なお、冷却ガスとしてヘリウムを含有するガスを用いる場合、空気に比較して熱伝導率や定圧比熱が大きく擬似面光源を構成する発光ダイオード２１ｂ等を効率よく冷却することができ、擬似面光源等の温度管理が容易になる。

また、温度調節装置２５ｅは不可欠のものではない。特に、冷却ガスの流路を開放型とする場合、工場の付属設備から供給される空気、窒素ガス等のガスは、通常温度管理されているので、冷却ガスの温度制御は不要となる。一方、冷却ガスの流路を循環型とする場合であっても、固体光源ユニット２１における発熱は、水銀ランプ等に比較して極めて小さいので、使用済みの冷却ガスを温度調節装置２５ｅを特に設けないで自然に冷却して直接ケミカルフィルタ２５ｂに導くシステムも可能である。

図１に戻って、照明光学系４は、フライアイレンズ４１と、開口絞り４２と、ミラー４３と、コンデンサーレンズ系４４、インテグレータセンサ４５とを備え、マスクＭＡに対して波面分割重畳型のケーラー照明を可能にする。なお、この照明光学系４と上述の照明光源装置２とを組み合わせることによって照明装置となる。

フライアイレンズ４１は、正の屈折力を有する多数のレンズエレメントをその光軸が基準光軸ＡＸと平行になるように縦横に且つ稠密に配列することによって構成されている。フライアイレンズ４１を構成する各レンズエレメントは、マスクＭＡ上において形成すべき照野の形状、ひいてはプレートＰＬ上において形成すべき露光領域の形状と相似な矩形状の断面を有する。また、フライアイレンズ４１を構成する各レンズエレメントの入射側の光学面は入射側に凸面を向けた球面状に形成され、射出側の光学面は射出側に凸面を向けた球面状に形成されている。

したがって、フライアイレンズ４１に入射した光束は、多数のレンズエレメントにより波面分割され、各レンズエレメントの後側焦点面には、固体光源ユニット２１の一組の発光部に対応する擬似面状の光源像がそれぞれ形成される。すなわち、フライアイレンズ４１の後側焦点面には、多数の擬似面光源像を２次元的に配列した多重の面光源すなわち２次光源像が形成される。

フライアイレンズ４１の後側焦点面に形成された２次光源像からの光束は、その近傍に配置されたσ絞りとも呼ばれる開口絞り４２を通過する。開口絞り４２は、後述する投影光学系６の入射瞳面と光学的にほぼ共役な位置に配置され、２次光源像のうち照明に寄与する範囲を規定するための可変開口部を有する。この可変開口部の開口径を変化させることにより、照明条件を決定する重要なファクタであるσ値（投影光学系６の瞳面の開口ＥＰの径に対するその瞳面上での２次光源像の口径の比）を所望の値に設定することができる。

なお、フライアイレンズ４１には、固体光源ユニット２１からコリメートレンズ２３を経た照明光が入射するが、この際、照明光を効率的にフライアイレンズ４１に取り込むべく、フライアイレンズ４１の入射側光学面の全体形状を照明光のビーム形状に一致させることが望ましい。

コンデンサ光学系４４は、フライアイレンズ４１の各レンズエレメントの後側焦点面に形成された２次光源像から射出される照明光を、それぞれ平行光束としてプレートＰＬ上に入射させる。つまり、フライアイレンズ４１の各レンズエレメントの射出面に形成された多数の２次光源によって、プレートＰＬ上に重畳してケーラー照明が行われるので、プレートＰＬが照明光によって極めて均一に照明される。

インテグレータセンサ４５は、露光中における照明光の強度を検出するためのものであり、フライアイレンズ４１を出射してハーフミラー４５ａで部分的に反射された照明光の光量を検出して、主制御系８に出力する。なお、インテグレータセンサ４５は、結像レンズを追加することによりプレートＰＬと光学的共役位置の照度を検出するものとすることもできる。

マスクステージ５は、マスク駆動部５１に駆動されて基準光軸ＡＸに垂直な面内で２次元的に移動する。マスクステージ５の位置は、マスク駆動部５１に設けたレーザ干渉計等によって計測され、主制御系８に出力される。主制御系８は、この位置情報に基づいてマスク駆動部５１に設けたモータを駆動してマスクＭＡを目標位置に所望の速度で移動させることができる。

投影光学系６は、屈折レンズ等の光学素子で構成されており、照明光によって照明されたマスクＭＡの像を適当な倍率でプレートＰＬ上に投影する。なお、この投影光学系６の瞳面に設けた可変の開口ＥＰは、照明光学系４に設けた開口絞り４２と光学的に共役な配置となっている。

プレートステージ７は、プレート駆動部７１に駆動されて基準光軸ＡＸに垂直な面内及び基準光軸ＡＸに沿って３次元的に移動する。プレートステージ７の位置は、プレート駆動部７１に設けたレーザ干渉計やフォーカスセンサ等によって計測され、主制御系８に出力される。主制御系８は、この位置情報に基づいてプレート駆動部７１に設けたモータを駆動してプレートＰＬを目標位置に所望の速度で移動させることができ、プレートＰＬ上に投影されるマスクＭＡの像の結像位置や結像状態を調節することができる。なお、プレートステージ７上には、照度センサ７２が配置されている。この照度センサ７２による検出信号は、後述する露光量制御のため主制御系８に対して出力される。

主制御系８は、照明光源装置２、マスクステージ５、プレートステージ７等を適当なタイミングで動作させて、プレートＰＬ上の適所にマスクＭＡの像を投影するとともに投影位置を変更しながら露光を繰り返す、いわゆるステップ・アンド・リピート型の露光処理を行う。なお、主制御系８にはハードディスク等の記憶装置が内臓されており、この記憶装置内には露光データファイルが格納されている。露光データファイルには、プレートＰＬの露光を行う上で必要となる処理及びその処理順が記憶されており、この処理毎に、プレートＰＬ上に塗布されているレジストに関する情報（例えば、レジストの分光特性）、必要となる解像度、使用するマスクＭＡ、照明光学系の補正量（照明光学特性情報）、投影光学系の補正量（投影光学特性情報）、及び基板の平坦性に関する情報等（所謂、レシピデータ）が含まれている。

以下、図１に示す第１実施形態に係る露光装置１０の動作について説明する。所定温度に保たれた固体光源ユニット２１の擬似面光源からは、発光ダイオード２１ｂに固有の単色の照明光が出力される。固体光源ユニット２１からの光束は、コリメートレンズ２３によりほぼ平行な光束に変換された後、オプティカルインテグレータとしてのフライアイレンズ４１に入射する。フライアイレンズ４１に入射した光束は波面分割され、各レンズエレメントの後側焦点面には２次光源像が形成される。各２次光源からの光束は、その近傍に配置された開口絞り４２を通過し、ミラー４３を介してコンデンサ光学系４４の集光作用を受けた後、所定のパターンが形成されたマスクＭＡを重畳的に均一照明する。マスクＭＡのパターンを透過した光束は、投影光学系６を介して、感光性基板であるプレートＰＬ上にマスクパターンの像を形成する。そして、投影光学系６の光軸すなわち基準光軸ＡＸと直交する平面内においてプレートＰＬを二次元的に駆動制御しながら一括露光を行うことにより、プレートＰＬの各露光領域にマスクＭＡのパターンが逐次露光される。この際、主制御系８は、インテグレータセンサ４５や照度センサ７２からの出力に基づいて、固体光源ユニット２１の出力を制御し、適正な照度すなわち露光量が確保されるようにする。

上記第１実施形態の露光装置１０では、発光ダイオード２１ｂをアレイ状に配置した擬似面光源を備える固体光源ユニット２１を用いるので、十分な照明強度を確保しつつ、長い発光寿命と高い発光効率とを達成することができる。また、発光ダイオード２１ｂは、その組成を調整するバンド構造の変更によって可視から紫外域にかけて多様な波長の光を発生させることができるので、照明光の波長の任意性を極めて高めることができる。さらに、給排気装置２５、給排気ポート２６ａ、２６ｂ等によって、冷却ガスが通過する冷却気体路ＣＰを固体光源ユニット２１の擬似面光源の周囲に形成するので、比較的少量の冷却ガスを所望の流速で擬似面光源の周囲に供給し通過させることができる。これにより、冷却ガスを比較的少ない流量で無駄なく使用することができるので、コストを抑えつつ効率的な冷却を達成することができ、照明光を安定して出力させることができる。

〔第２実施形態〕
以下、第２実施形態に係る露光装置について説明する。この露光装置は、第１実施形態の露光装置に部分的に変更を加えたものであり、同一部分には同一の符号を付し、重複説明を省略する。

図４は、第２実施形態の露光装置に組み込まれる照明光源装置１０２の要部構成を説明する図である。この照明光源装置１０２においても、光学窓２４ａを有する格納容器１２４中に光学窓２４ａと対向するように固体光源ユニット１２１を収納している。この固体光源ユニット１２１中において、基板１２１ａ上に固定された発光ダイオード２１ｂは、横方向に空隙ＧＡが形成された状態で、２次元アレイ状に配列されている。ただし、基板１２１ａには、冷却ガスを通すための孔は形成されていない。その代わりに、基板１２１ａに沿って延びる発光ダイオード２１ｂ間の空隙ＧＡ用い、固体光源ユニット１２１によって形成される擬似面光源に沿った冷却気体路を形成することで固体光源ユニット２１を冷却する。このような冷却気体路を形成するため、格納容器１２４には、吐出部である給気ポート１２６ａと吸引部である排気ポート１２６ｂとが固体光源ユニット１２１を挟んで対向するように形成されている。図２に示す給排気装置２５と同様の給排気装置に設けたケミカルフィルタ１２５ｂを通過した冷却ガスは、給気ポート１２６ａを介して格納容器１２４内に導入され、格納容器１２４内のガスは、導入された冷却ガスと置換されて排気ポート１２６ｂを介して格納容器１２４外に排出される。この際、冷却ガスは、基板１２１ａに沿って延びる発光ダイオード２１ｂ間の空隙ＧＡだけでなく、基板１２１ａの裏面側にも流される。

図５は、固体光源ユニット１２１の正面構造を概念的に説明する図である。基板１２１ａ上には、発光ダイオード２１ｂが適当な密度で２次元的に配列されている。これらの発光ダイオード２１ｂ間には、十分な幅の空隙ＧＡが形成されており、固体光源ユニット１２１の擬似面光源に沿って空隙ＧＡに対応する網目状の冷却気体路ＣＰが形成されているので、この冷却気体路ＣＰに沿って冷却ガスが滞留することなく通過する。

図６は、固体光源ユニット１２１と光学窓２４ａとの間隔等に関する条件を説明する図である。擬似面光源に垂直な方向に関する空隙ＧＡの長さをｄ１とし、発光ダイオード２１ｂの頂点から光学窓２４ａまでの距離をｄ２とするとき、
ｄ１＞ｄ２ … （２）
の条件を満足するようにする。この場合、冷却ガスの通路を十分に確保しつつ、各発光ダイオード２１ｂ間の空隙ＧＡに十分な流速で冷却ガスを流すことができる。

図７は、図５等に示す固体光源ユニット１２１を変形した固体光源ユニット２２１を示す。この固体光源ユニット２２１は、基板１２１ａ上に固定した第１層の発光ダイオード２１ｂ上に、第１層の発光ダイオード２１ｂの空隙ＧＡを部分的に埋めるように第２層の発光ダイオード２２１ｂを設けている。結果的に第２層の発光ダイオード２２１ｂ間にも空隙ＧＡが形成される。この場合、第１層の発光ダイオード２１ｂと第２層の発光ダイオード２２１ｂとを併せた空隙ＧＡの長さをｄ１とし、上述の式（２）が満たされるように、光学窓２４ａまでの距離ｄ２を設定する。

〔第３実施形態〕
以下、第３実施形態に係る露光装置について説明する。この露光装置も、第２実施形態と同様に第１実施形態の露光装置に部分的に変更を加えたものである。

図８は、第３実施形態の露光装置に組み込まれる照明光源装置３０２の要部構成を説明する図である。この照明光源装置３０２においても、光学窓２４ａを有する格納容器３２４中に光学窓２４ａと対向するように固体光源ユニット２１を収納している。この場合、工場設備として設けられたガス供給システムの配管から延びるノズル３２６ａを格納容器３２４中に延びるよう設けて吐出部とする。この際、ノズル３２６ａの先端が固体光源ユニット２１から射出する照明光の光路をさえぎらないように射出側に配置する。一方、固体光源ユニット２１の裏面側における格納容器３２４の端部には、吸引部である排気ポート３２６ｂが形成されている。ノズル３２６ａから吐出された冷却ガスは、格納容器３２４内において固体光源ユニット２１の正面側に供給される。固体光源ユニット２１を通過して固体光源ユニット２１を冷却した冷却ガスは、排気ポート３２６ｂを介して格納容器３２４外に排出される。

〔第４実施形態〕
以下、第４実施形態に係る露光装置について説明する。この露光装置は、第１実施形態を変形した、ステップ・アンド・スキャン方式の露光装置であり、基本的な構造は図１のものと同様である。

この場合、図１に示すフライアイレンズ４１の後側焦点面に形成された２次光源像からの光束が、不図示のリレーレンズを経て矩形スリット状の開口を有する視野絞りに入射する。この視野絞りは、フライアイレンズ４１の入射面及びマスクＭＡと光学的に共役な位置に配置されており、マスクＭＡ上には、視野絞りの開口の形状に対応して、矩形スリット状の照明領域が形成される。

このように、スリット状の照明光でマスクＭＡを照明することにより、マスクＭＡを介したスリット状の光が投影光学系６を介してプレートＰＬに照射された状態となる。この状態で、マスク駆動部５１及びプレート駆動部７１を同期動作させることにより、マスクＭＡとプレートＰＬとを投影光学系６に対して矩形スリット状の照明領域の短手方向に関して相対的に移動させて走査し、マスクＭＡに形成されたパターンの一部を順次プレートＰＬに設定された１つのショットに転写し、このような走査型の転写後にプレートＰＬをステップ移動させて他のショット領域に対する露光を同様にして行う。

なお、この際用いる照明光源装置２は、図１及び図２のものに限らず、第２及び３実施形態として図４〜８に例示した各種照明光源装置１０２，３０２に置き換えることができる。

このような露光装置においても、照明光源装置２，１０２，３０２を組み込むことにより、十分な照明強度を確保しつつ、長い発光寿命と高い発光効率とを達成することができるとともに、照明光の波長の任意性を高めることができる。さらに、給排気装置２５、給排気ポート２６ａ、２６ｂ等によって、冷却ガスが通過する冷却気体路ＣＰを固体光源ユニット２１等の擬似面光源の周囲に形成するので、比較的少量の冷却ガスを所望の流速で擬似面光源の周囲に供給し通過させることができ、コストを抑えつつ効率的な冷却を達成することができ、照明光を安定して出力させることができる。

〔第５実施形態〕
以下、第５実施形態に係る露光装置について説明する。この露光装置は、ステップ・アンド・スキャン方式に加え、露光領域の拡大を図るため、所謂マルチレンズ方式の投影光学系（不図示）を備える。つまり、この投影光学系は、１つの大型の投影光学系を用いるのではなく、小型の部分投影光学系を走査方向に直交する方向（非走査方向）に所定間隔をもって複数配列した第１の配列と、これらの部分投影光学系の配列の間に部分光学系が配置されている第２の配列とを走査方向に配置した構造をとる。具体的な装置構成は、照明光源装置を除き、特開平７−５７９８６号公報に開示されたものと同様であり詳細な説明を省略する。なお、照明光源装置は、同公報の図２に示す水銀ランプ、楕円鏡等からなる光源に代えて、第１〜３実施形態に例示するような照明光源装置２，１０２，３０２を備える。

〔第６実施形態〕
以下、第６実施形態に係る露光装置について説明する。この露光装置は、前述の第２実施形態や第３実施形態と同様に、第１実施形態または第２実施形態の露光装置に部分的に変更を加えたものである。

図９は、第６実施形態の露光装置に組み込まれる照明光源装置４０２の要部構成を説明する図である。この照明光源装置４０２においても、光学窓２４ａを有する格納容器４２４中に光学窓２４ａと対向するように固体光源ユニット４２１を収納している。この固体光源ユニット４２１中において、基板４２１ａ上に工程された発光ダイオード２１ｂは、２次元アレイ状に配列されている。そして、固体光源ユニット４２１によって形成される擬似面光源の光射出側とは反対側から光射出側へ向けて冷却気体路を形成することで固体光源ユニット４２１を冷却する。このような冷却気体路を形成するため、吐出部であるノズル４２６ａと吸引部である排気ポート４２６ｂとを備えており、ノズル４２６ａは２次元アレイ状に配列されている発光ダイオード２１ｂのそれぞれに対応して配置された吐出口を備えている。図２で示した給排気装置２５と同様の給排気装置に設けたケミカルフィルタ４２５ａを通過した冷却ガスは、ノズル４２６ａを介して各々の発光ダイオード２１ｂの裏面側（光射出側とは反対側）から格納容器４２４内に導入され、格納容器４２４内のガスは、導入された冷却ガスと置換されて排気ポート１２６ｂを介して格納容器４２４外へ排出される。この際、ノズル４２６ａからの冷却ガスは、擬似面光源の裏面側から光射出側へ向けて冷却気体路を形成する。

〔第１〜６実施形態の変形例〕
上述の各実施形態において、固体光源ユニット２１の擬似面光源を構成する発光ダイオード２１ｂの密度や配置は適宜変更することができる。

例えば図１０に示すように、固体光源ユニット２１の射出面２１ｇである擬似面光源の輪郭形状を、フライアイレンズ４１の１つのエレメント４１ａの輪郭形状と相似形になるようにすることができる。これにより、フライアイレンズ４１の射出面にほぼ一様に分布する２次光源を形成することができ、マスクの照明の均一性を高めることができる。

図１１は、固体光源ユニット２１の射出面２１ｇからフライアイレンズ４１までの一構成例を示す図である。また、図１２は、図フライアイレンズ４１の１つのエレメント４１ａにおける入射面の形状を示す図、図１３は固体光源ユニット２１の射出面２１ｇの形状を示す図である。ここで、フライアイレンズ４１の１つのエレメント４１ａの入射面の一方の長さをａ、他方の長さをｂ、複数個の光ファイバ２１ｄを束ね合わせた射出端２１ｇの形状において一方の長さをＡ、他方の長さをＢとする。さらに、コリメートレンズ２２の焦点距離をｆ１、フライアイレンズ４１の焦点距離をｆ２としたとき、
Ａ×ｆ２／ｆ１≦ａ
及び
Ｂ×ｆ２／ｆ１≦ｂ
の関係が成り立つようにする。これにより、光源の射出端２１ｇからの照明光を各フライアイレンズ４１に無駄なく取り込むことができるようになり、照明光のパワー（照明効率）を高めることができる。

また、固体光源ユニット２１においては、特定の固体光源２１ａから射出される照明光の時間的に変化する光量の最大値をＰｍａｘ、最小値をＰｍｉｎとしたとき、その固体光源から射出される照明光の光量の平均リップル幅ΔＰは、
ΔＰ＝（Ｐｍａｘ−Ｐｍｉｎ）／（Ｐｍａｘ＋Ｐｍｉｎ）
により算出される。ここで、フライアイレンズ４１の入射端において要求される光量のリップル幅をΔＷとしたとき、固体光源２１ａの数ｎは
ｎ≧（ΔＰ／ΔＷ）^２
の条件を満たすものとできる。この条件を満足することにより、つまり、固体光源２１ａの数ｎを（ΔＰ／ΔＷ）^２より多くすることにより、固体光源ユニット２１を構成する個々の固体光源２１ａから射出される光出力のばらつきが平均化され、その平均化効果によって安定した光出力を有する固体光源ユニット２１を提供することができる。

また、固体光源ユニット２１を構成する固体光源２１ａの波長、光量等の出力特性に固有のばらつきがある場合、それら出力特性の異なる複数個の固体光源２１ａを光源として用いることにより、光源の出力特性のばらつきが均一化される。このように均一化された照明光は、さらにフライアイレンズ４１を経て均一化される。図１４は、各固体光源２１ａの出力特性のばらつきを均一化した状態をグラフ化した図である。それぞれ異なった出力特性を持つ固体光源２１ａを均一化して、グラフ化したものが波長特性ＡＶＥである。このように、出力特性の異なる複数個の固体光源２１ａを組み合わせたものを固体光源ユニット２１に使用した場合において、均一化効果により安定した光出力を有する照明光を得ることができる。

また、露光装置が走査型露光装置である場合に、同期ブラインドを備えてもよい。図１５は、走査型露光装置の構成図である。この露光装置は、投影光学系に対して、マスクステージ５及びプレートステージ７が移動しつつ、マスクＭＡのパターンをプレート上に転写する走査型露光装置であり、同期ブラインド（可動ブラインド機構）９１を有する。その他の点においては、第１実施形態に係る露光装置と同一の構成を有する。

図１５に示すように、マスクＭＡの近傍には、固定ブラインドＢＬ０と、可動ブラインド機構９１とが配置されており、図１６に示すように、この可動ブラインド機構９１は、４枚の可動ブレードＢＬ１，ＢＬ２，ＢＬ３，ＢＬ４からなる。可動ブレードＢＬ１，ＢＬ２のエッジによって走査露光方向（Ｘ方向）の開口ＡＰの幅が決定され、可動ブレードＢＬ３，ＢＬ４のエッジによって非走査方向の開口ＡＰの長さが決定される。また、４枚の可動ブレードＢＬ１〜ＢＬ４の各エッジで規定された開口ＡＰの形状は、投影レンズ６の円形イメージフィールドＩＦ内に包含されるように定められる。

固定ブラインドＢＬ０の開口と可動ブラインド機構９１の開口ＡＰとを通過した照明光は図１５に示すようにマスクＭＡを照射する。つまり、各可動ブレードＢＬ１〜ＢＬ４によって形成される開口ＡＰと固定ブラインドＢＬ０の開口とが重なっている領域についてのみ、マスクＭＡの照明が行われることになる。通常の露光状態においては、固定ブラインドＢＬ０の開口の像がマスクＭＡのパターン面に結像されるが、マスクＭＡ上の特定走査露光領域の周辺すなわち遮光部分の近傍領域の露光が行われる場合、４枚のブレードＢＬ１〜ＢＬ４によって遮光部分の外側に照明光が入射することが防止される。すなわち、マスクステージ５の走査に際して、照明光源装置２から射出される光束とマスクＭＡとの相対位置に関する情報が監視される。この監視情報に基づいて、マスクＭＡ上の特定走査露光領域の露光開始時や露光終了時において遮光部分の近傍領域について露光が始まると判断した場合、ブレードＢＬ１，ＢＬ２のエッジ位置を移動させ、走査露光方向の開口ＡＰの幅を制御する。これにより、不要なパターン等がプレートに対して転写されるのを防止することができる。なお、この露光装置においては、マスクＭＡ近傍に可動ブラインド機構９１を設けているが、マスクＭＡと共役な位置であれば他の位置に可動ブラインド機構を設けても良い。

また、露光装置に帯電防止手段を設けるようにしても良い。図１７は、帯電防止手段を備えた露光装置の構成例である。その他の点においては、第１実施形態にかかる露光装置と同一の構成を有する。この露光装置においては、照明光源装置２のうち固体光源ユニット２１の格納容器２４と、投影光学系６等の露光装置本体を収容するチャンバ１２とが仕切られた状態で設けられており、格納容器２４とチャンバ１２とが互いに電気的に接続され、さらにアースされている。すなわち、格納容器２４とチャンバ１２とが同電位に保たれている。また、固体光源ユニット２１に電力を供給する電源装置２２とプレート駆動部７１等を含む露光装置本体に電力を供給する電源装置９６とが別々に設けられており、それぞれアースされている。したがって、両電源装置２２，９６が互いに独立して相互の干渉を防止できるだけでなく、露光装置本体側からの静電気による固体光源ユニット２１の破損を防止することができる。

〔第７実施形態〕
以下、本発明の第７実施形態に係る投影露光方法について説明する。この投影露光方法は、第１〜６実施形態及びそれらの変形例の露光装置をリソグラフィ工程で使用したマイクロデバイスの製造方法である。この場合、ウェハ上に所定のパターン（回路パターン、電極パターン等）を形成することによって、マイクロデバイスとしての半導体デバイスを得る。

図１８は、マイクロデバイスとしての半導体デバイスの製造方法を説明するためのフローチャートである。まず、図１８のステップＳ４０において、１ロットのウェハ上に金属膜が蒸着される。次のステップＳ４２において、その１ロットのウェハ上の金属膜上にフォトレジストが塗布され、プレートＰＬである感光性基板が準備される。その後、ステップＳ４４において、上記実施形態に係る露光装置を用いて、マスクＭＡ上のパターンの像がその投影光学系６を介して、その１ロットのウェハ上の各ショット領域に順次露光転写される。即ち、照明光源装置２，１０２，３０２、照明光学系４等を用いてマスクＭＡを照明することで、投影光学系６を介してマスクＭＡ上のパターンの像がウェハ上に投影され露光転写される。

その後、ステップＳ４６において、その１ロットのウェハ上のフォトレジストの現像が行われた後、ステップＳ４８において、その１ロットのウェハ上でレジストパターンをマスクとしてエッチングを行うことによって、マスク上のパターンに対応する回路パターンが、各ウェハ上の各ショット領域に形成される。その後、更に上のレイヤの回路パターンの形成等を行うことによって、半導体素子等のデバイスが製造される。上述の半導体デバイス製造方法によれば、極めて微細な回路パターンを有する半導体デバイスをスループット良く得ることができる。

〔第８実施形態〕
以下、本発明の第８実施形態に係る投影露光方法について説明する。図１９は、第１〜６実施形態及びそれらの変形例の露光装置を用いて、マイクロデバイスとしての液晶表示素子を製造する方法を説明するためのフローチャートである。この場合、ガラス基板上に所定のパターンを形成することによって、マイクロデバイスとしての液晶表示素子を得る。

図１９のパターン形成工程（ステップＳ５０）では、この実施の形態の露光装置を用いてマスクのパターンをプレートＰＬである感光性基板（レジストが塗布されたガラス基板等）に転写露光する、所謂光リソグラフィ工程が実行される。この光リソグラフィ工程によって、基板上には多数の電極等を含む所定パターンが形成される。その後、露光された基板は、現像工程、エッチング工程、レジスト剥離工程等の各工程を経ることによって、基板上に所定のパターンが形成され、次のカラーフィルタ形成工程（ステップＳ５２）へ移行する。

次のカラーフィルタ形成工程Ｓ５２では、Ｒ（Ｒｅｄ）、Ｇ（Ｇｒｅｅｎ）、Ｂ（Ｂｌｕｅ）に対応した３つのドットの組がマトリックス状に多数配列され、或いはＲ、Ｇ、Ｂの３本からなるストライプのフィルタの組を複数水平走査線方向に配列したカラーフィルタを形成する。そして、カラーフィルタ形成工程（ステップＳ５２）の後に、セル組み立て工程（ステップＳ５４）が実行される。このセル組み立て工程では、パターン形成工程（ステップＳ５０）にて得られた所定パターンを有する基板、及びカラーフィルタ形成工程（ステップＳ５２）にて得られたカラーフィルタ等を用いて液晶パネルすなわち液晶セルを組み立てる。

セル組み立て工程（ステップＳ５４）では、例えば、パターン形成工程（ステップＳ５０）にて得られた所定パターンを有する基板とカラーフィルタ形成工程（ステップＳ５２）にて得られたカラーフィルタとの間に液晶を注入して、液晶パネルを製造する。その後、モジュール組立工程（ステップＳ５６）にて、組み立てられた液晶パネルの表示動作を行わせる電気回路、バックライト等の各部品を取り付けて液晶表示素子として完成させる。上述の液晶表示素子の製造方法によれば、極めて微細な回路パターンを有する液晶表示素子をスループット良く得ることができる。

なお、以上のようなマイクロデバイスの製造方法によれば、コストを抑えつつ効率的な冷却を達成することができ、照明光を安定して出力させることができる。

以上、実施形態に即して本発明を説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。例えば、冷却ガス送出装置２５ａと冷却ガス吸引装置２５ｃとは双方不可欠というものではなく、いずれか一方のみでもある程度の冷却気体路を形成することができる。

また、格納容器２４は不可欠のものではなく、図８に例示されるノズル３２６ａ等を活用することにより、固体光源ユニット２１，１２１の周囲に冷却ガスの滑らかな気流を形成することができ、これによっても固体光源ユニット２１，１２１を効率的に冷却することができる。

また、固体光源ユニット２１，１２１は、射出側及び裏面側の双方で冷却される必要はなく、例えば射出側、或いは裏面側のいずれかのみを冷却することもできる。

また、上記第１〜第３実施形態及び変形例では、照明光源装置２，１０２，３０２及び照明光学系４をケーラー照明型の構成としているが、これらをクリティカル照明型の照明系とすることもできる。この場合、固体光源ユニット２１によって形成される擬似面光源の像を、例えばコリメートレンズ２３に代わる適当な結像レンズによってフライアイレンズ４１の入射側の光学面全体に投影する。この際、フライアイレンズ４１を構成する各レンズエレメントの入射側の各光学面は、マスクＭＡと光学的に共役な位置若しくはその近傍となる。

また、上記第１〜第３実施形態及び変形例では、露光装置が基本的に屈折光学系で構成される場合について説明したが、照明光源装置２，１０２，３０２、照明光学系４、投影光学系６等は、すべて等価若しくは類似の機能を有する反射光学系又は反射屈折光学系に置き換え得ることはいうまでもない。

また、上記第１〜第３実施形態及び変形例では、照明装置にオプティカルインテグレータとしてのフライアイレンズ等を用いているが、これに代えて、反射型のフライアイ・インテグレータや、ロッド型又はシリンダ型のインテグレータを用いてもよい。なお、ロッド型のインテグレータを用いる場合には、擬似面光源（発光ダイオードアレイ）の形状とロッドの断面形状を相似形とすることが好ましい。また、例えば特開２００２−７５８２４号公報や特開２００２−３５３０９０号に開示されるような２組以上の１次元シリンダレンズアレイを備えるシリンダ型インテグレータを用いる場合には、シリンダ型のインテグレータを構成する一方のシリンダレンズアレイのピッチとこれに直交して配置される他方のシリンダレンズアレイのピッチとで形成される矩形領域（オプティカルインテグレータの射出面側の光学面の有効領域と、擬似面光源光源（発光ダイオードアレイ）の形状とを相似形にすることが好ましい。

また、上記第１〜第６実施形態及び変形例では、ステップ・アンド・リピート型又はステップ・アンド・スキャン型の露光装置を例として説明したが、プロキシミティ方式の露光装置に本発明に係る照明装置若しくは露光装置を適用してもよい。この場合には、投影光学系が存在しないことから像面照度を高くすることができる。

また、上記第１〜第３実施形態等では、固体光源として発光ダイオードを用いているが、レーザダイオードその他の各種の固体光源を用いるこができる。

また、上記第１〜第３実施形態等では、マスクＭＡを固定的なものとして説明したが、マスクＭＡは、周期的に配列された複数のスイッチ素子等によって投影すべきパターンを生成する可変パターン生成装置とすることができる。ここで、「可変パターン生成装置」とは、非発光型画像表示素子を意味し、空間光変調器（ｓｐａｔｉａｌｌｉｇｈｔｍｏｄｕｌａｔｏｒ）とも呼ばれ、光の振幅、位相あるいは偏光の状態を空間的に変調する素子であり、透過型空間光変調器と反射型空間光変調器とに分けられる。透過型空間光変調器には、透過型液晶表示素子（ＬＣＤ：ｌｉｑｕｉｄｃｒｙｓｔａｌｄｉｓｐｌａｙ）、エレクトロクロミックディスプレイ（ＥＣＤ）等が含まれる。また、反射型空間光変調器には、ＤＭＤ（ｄｉｇｉｔａｌｍｉｒｒｏｒｄｅｖｉｃｅ，ｏｒｄｉｇｉｔａｌｍｉｃｒｏ−ｍｉｒｒｏｒｄｅｖｉｃｅ）、反射ミラーアレイ、反射型液晶表示素子、電気泳動ディスプレイ（ＥＰＤ：ｅｌｅｃｔｒｏｐｈｏｒｅｔｉｃｄｉｓｐｌａｙ）、電子ペーパ（又は電子インク）、光回折ライトバルブ（ｇｒａｔｉｎｇｌｉｇｈｔｖａｌｖｅ）等が含まれる。このような可変パターン生成装置を用いた場合、可変パターン生成装置に形成された任意かつ可変のパターンをプレートＰＬ上に投射することができる。

第１実施形態に係る露光装置の全体の概略構成を示すブロック図である。第１実施形態に係る照明光源装置の構成を示すブロック図である。固体光源ユニットの部分拡大断面図である。第２実施形態に係る照明光源装置の構成を示す正面図である。図４の照明光源装置における空気の流れを例示する正面図である。図４の照明光源装置における光源ユニットの配置を示す側面図である。図6の光源ユニットの変形例を示す側面図である。第３実施形態に係る照明光源装置の構成を示すブロック図である。第６実施形態に係る照明光源装置の構成を示すブロック図である。固体光源ファイバの射出面の外形をフライアイレンズのレンズエレメントの外形に対して相似にする場合を説明する図である。固体光源ファイバの射出面の外形とフライアイレンズのレンズエレメントの外形との関係を説明する図である。固体光源ファイバの射出面の外形とフライアイレンズのレンズエレメントの外形との関係を説明する図である。固体光源ファイバの射出面の外形とフライアイレンズのレンズエレメントの外形との関係を説明する図である。複数の固体光源からの照明光の合波による均一化の効果を説明する図である。可動ブラインドを用いた走査を行う露光装置について説明する図である。可動ブラインドの構造を説明する図である。帯電防止機能を設けた露光装置について説明する図である。第７実施形態に係るマイクロデバイスとしての半導体デバイスを製造する方法のフローチャートである。第８実施形態に係るマイクロデバイスとしての液晶表示素子を製造する方法のフローチャートである。

符号の説明

２，１０２，３０２…照明光源装置、４…照明光学系、５…マスクステージ、６…投影光学系、７…プレートステージ、８…主制御系、１０…露光装置、２１，２２１…固体光源ユニット、２１ｂ…発光ダイオード、２３…コリメートレンズ、２４…格納容器、４１…フライアイレンズ、４２…開口絞り、４４…コンデンサ光学系、５１…マスク駆動部、７１…プレート駆動部、ＡＸ…基準光軸、ＭＡ…マスク、ＰＬ…プレート

Claims

複数の単位固体光源を有し当該複数の単位固体光源からの照明光によって擬似面光源を形成する光源ユニットと、
前記光源ユニットを収納する格納容器とを備え、
前記格納容器は、アースされていることを特徴とする照明光源装置。
前記擬似面光源の周囲に冷却用の気体が通過する冷却気体路を形成する気流形成手段をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の照明光源装置。
前記気流形成手段は、気体供給手段と気体排出手段とを備え、
前記気体供給手段は、前記格納容器の内部に前記冷却用の気体を供給し、
前記気体排出手段は、前記擬似面光源の周囲の気体を前記格納容器の外部へ排出することを特徴とする請求項２に記載の照明光源装置。
前記擬似面光源にクモリ物質が付着することを防止するクモリ防止手段をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の照明光源装置。
前記クモリ防止手段は、前記擬似面光源の周囲に気体が通過する気体路を形成することを特徴とする請求項４に記載の照明光源装置。
前記クモリ防止手段は、前記擬似面光源の周囲に有機物質の総量が所定未満の気体を供給することを特徴とする請求項５に記載の照明光源装置。
前記気体に含まれる有機物質の総量が、１ｍｇ／ｍ^３以下であることを特徴とする請求項６に記載の照明光源装置。
前記クモリ防止手段は、気体供給手段と気体排出手段とを備え、
前記気体供給手段は、前記格納容器の内部に前記気体を供給し、
前記気体排出手段は、前記擬似面光源の周囲の気体を前記格納容器の外部へ排出することを特徴とする請求項４乃至７のいずれか一項に記載の照明光源装置。
マスクのパターンを感光性基板上に転写する露光装置であって、
前記マスクを照明するために、請求項１乃至８のいずれか一項に記載の照明光源装置を備えることを特徴とする露光装置。
請求項９に記載の露光装置を用いた露光方法であって、
前記マスクを照明する照明工程と、
被照射面又は被照射面と光学的に共役な位置に配置された前記マスクのパターンを前記感光性基板上に転写する転写工程と
を含むことを特徴とする露光方法。
複数の単位固体光源からの照明光によって擬似面光源を形成する光源ユニットと、該光源ユニットを収納する格納容器とを備える照明光源装置と、
前記照明光源装置から射出された光を用いてマスクのパターンを感光性基板上に転写する露光装置本体と、該露光装置本体を収納するチャンバとを備え、
前記格納容器および前記チャンバに帯電防止手段が設けられていることを特徴とする露光装置。
前記格納容器及び前記チャンバは、電気的に接続されていることを特徴とする請求項１１に記載の露光装置。
前記帯電防止手段は、前記格納容器及び前記チャンバをアースすることを特徴とする請求項１１または１２に記載の露光装置。
前記格納容器及び前記チャンバにはそれぞれ独立の電源装置が設けられていることを特徴とする請求項１１乃至１３のいずれか一項に記載の露光装置。
前記各電源装置は、それぞれアースされていることを特徴とする請求項１４に記載の露光装置。
前記照明光源装置は、前記擬似面光源の周囲に冷却用の気体が通過する冷却気体路を形成する気流形成手段をさらに備えることを特徴とする請求項１１乃至１５のいずれか一項に記載の露光装置。
前記照明光源装置は、前記擬似面光源にクモリ物質が付着することを防止するクモリ防止手段をさらに備えることを特徴とする請求項１１乃至１５のいずれか一項に記載の露光装置。
請求項１１乃至請求項１７の何れか一項に記載の露光装置を用いた露光方法であって、
被照射面又は被照射面と光学的に共役な位置に配置された前記マスクを照明する照明工程と、
前記マスクの前記パターンを前記感光性基板上に転写する転写工程と
を含むことを特徴とする露光方法。