WO2021065753A1

WO2021065753A1 - 露光方法

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Publication number: WO2021065753A1
Application number: PCT/JP2020/036465
Authority: WO
Inventors: 道生河野
Original assignee: キヤノン株式会社
Priority date: 2019-10-02
Filing date: 2020-09-25
Publication date: 2021-04-08
Also published as: JP2021056472A; TW202115772A; JP7381279B2

Abstract

高精度に複数のショット領域を繋ぎ合わせると共に、用いる装置も小型化することができる露光方法を提供するために、本発明に係る露光方法は、基板上の第１のショット領域に含まれる第１の繋ぎ領域が照明領域を通過する際の所定の時間における照明領域の照度が、第１のショット領域に含まれる第１の非繋ぎ領域が照明領域を通過する際の照度とは異なるように、第１のショット領域を露光する工程と、第１のショット領域に対して走査方向に配列される第２のショット領域に含まれると共に第１の繋ぎ領域に重なる第２の繋ぎ領域が照明領域を通過する際の所定の時間における照度が、第２のショット領域に含まれる第２の非繋ぎ領域が照明領域を通過する際の照度とは異なるように、第２のショット領域を露光する工程とを含むことを特徴とする。

Description

露光方法

　本発明は、露光方法に関する。

　従来、半導体デバイスや液晶表示装置等の製造工程として、原版のパターンを投影光学系を介して感光性の基板に転写する露光方法（リソグラフィ工程）が知られている。
　また近年、製造する物品の大型化に伴って露光領域を広げるために、基板上において複数のショット領域の各々の一部の領域を互いに重ね合わせるように露光を行うことによって、複数のショット領域を繋ぎ合わせる露光方法が用いられている。
　特許文献１は、繋ぎ領域及びそれ以外の非繋ぎ領域それぞれの積算露光量を互いに等しくするために、繋ぎ領域を露光する際にメカブレードを移動させて露光光の幅を調整することによって積算露光量を制御する露光方法を開示している。

特開２０１７－３２６５５号公報

　特許文献１に開示されている露光方法では、メカブレードの移動精度が低いと、繋ぎ領域における積算露光量に誤差が生じ、非繋ぎ領域の積算露光量に対して異なってしまう虞がある。また、メカブレードを用いる場合には、メカブレード及びそれを駆動する機構を配置するスペースも必要となり、装置の大型化に繋がる。
　そこで本発明は、高精度に複数のショット領域を繋ぎ合わせると共に、用いる装置も小型化することができる露光方法を提供することを目的とする。

　本発明に係る露光方法は、原版及び基板を走査方向に走査しながら、原版に描画されたパターンを基板に転写するように基板を露光する露光方法であって、基板上の第１のショット領域に含まれる第１の繋ぎ領域が照明領域を通過する際の所定の時間における照明領域の照度が、第１のショット領域に含まれる第１の非繋ぎ領域が照明領域を通過する際の照度とは異なるように、第１のショット領域を露光する工程と、第１のショット領域に対して走査方向に配列される第２のショット領域に含まれると共に第１の繋ぎ領域に重なる第２の繋ぎ領域が照明領域を通過する際の所定の時間における照度が、第２のショット領域に含まれる第２の非繋ぎ領域が照明領域を通過する際の照度とは異なるように、第２のショット領域を露光する工程とを含むことを特徴とする。

　本発明によれば、高精度に複数のショット領域を繋ぎ合わせると共に、用いる装置も小型化することができる露光方法を提供することができる。

第一実施形態に係る露光方法に用いられる露光装置の概略図。第一実施形態に係る露光方法に用いられる露光装置における投影光学系の模式図。第一実施形態に係る露光方法に用いられる露光装置における露光スリットの模式図。第一実施形態に係る露光方法における第１のショット領域及び第２のショット領域の上面図。第一実施形態に係る露光方法における第１のショット領域及び第２のショット領域を繋ぎ合わせて示した上面図。第一実施形態に係る露光方法における第一走査露光の様子を示した図。第一実施形態に係る露光方法における第一走査露光の際の照度の時間変化を示した図。第一実施形態に係る露光方法における第一走査露光及び第二走査露光それぞれにおける積算露光量分布及びそれらの合算を示した図。第一実施形態に係る露光方法における第二走査露光の様子を示した図。第一実施形態に係る露光方法における第二走査露光の際の照度の時間変化を示した図。第二実施形態に係る露光方法に用いられる露光装置の概略図。第三実施形態に係る露光方法に用いられる露光装置の概略図。第四実施形態に係る露光方法における第一走査露光の様子を示した図。第四実施形態に係る露光方法における第一走査露光の際の照度の時間変化を示した図。第四実施形態に係る露光方法における第一走査露光及び第二走査露光それぞれにおける積算露光量分布及びそれらの合算を示した図。第四実施形態に係る露光方法における第二走査露光の様子を示した図。第四実施形態に係る露光方法における第二走査露光の際の照度の時間変化を示した図。第五実施形態に係る露光方法における第一走査露光の様子を示した図。第五実施形態に係る露光方法における第一走査露光の際の照度の時間変化を示した図。第五実施形態に係る露光方法における第一走査露光及び第二走査露光それぞれにおける積算露光量分布及びそれらの合算を示した図。第五実施形態に係る露光方法における第二走査露光の様子を示した図。第五実施形態に係る露光方法における第二走査露光の際の照度の時間変化を示した図。第六実施形態に係る露光方法における第一走査露光の様子を示した図。第六実施形態に係る露光方法における第一走査露光の際の照度の時間変化を示した図。第六実施形態に係る露光方法における第一走査露光及び第二走査露光それぞれにおける積算露光量分布及びそれらの合算を示した図。第六実施形態に係る露光方法における第二走査露光の様子を示した図。第六実施形態に係る露光方法における第二走査露光の際の照度の時間変化を示した図。

　以下に、本実施形態に係る露光方法を添付の図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下に示す図面は、本実施形態を容易に理解できるようにするために、実際とは異なる縮尺で描かれている。
　また、以下の説明では、マスクＭ及びプレートＰそれぞれの表面に垂直な方向をｚ方向、マスクＭ及びプレートＰそれぞれが走査される方向をｙ方向、そしてｚ方向及びｙ方向に垂直な方向をｘ方向としている。

［第一実施形態］
　図１Ａ、図１Ｂ及び図１Ｃは、第一実施形態に係る露光方法に用いられる走査型露光装置である露光装置５０の概略図を示している。

　露光装置５０では、照明ユニット１００で形成された照明光束が、マスクＭ（原版）を照明する。そして、マスクＭを照明した光束は、マスクＭの下面に形成されたパターン（不図示）によって回折され、投影光学系２００へ進行する。
　投影光学系２００には光束絞り１０が設けられており、光束絞り１０を通過した光束はプレートＰ（基板）上に集光される。

　プレートＰ上には、感光剤（感光性レジスト）が塗布されており、プレートＰ上に光束が集光されることによって、マスクＭに描画されたパターンの像が感光剤に形成（転写）される。
　露光装置５０では、マスクＭが載置されるマスクステージ２０（原版ステージ）とプレートＰが載置されるプレートステージ３０（基板ステージ）とがそれぞれ図１Ａ中のｓｍ方向及びｓｐ方向に沿って、互いに同期して走査される。
　その結果、ｘ方向における所定の露光幅及びｙ方向における所定のスキャン長に応じたショットサイズのパネル（以下、ショット領域と称する。）がプレートＰ上に露光される。
　また、露光装置５０では、照明ユニット１００、マスクステージ２０及びプレートステージ３０それぞれの駆動が制御部４０によって制御される。

　図１Ａに示されているように、照明ユニット１００は、ＬＥＤ光源ユニット１、第一コンデンサーレンズ２、ハエの目ユニット３及び第二コンデンサーレンズ４を備えている。
　また、照明ユニット１００は、露光スリット６、第一マスキング結像レンズ７、折り曲げミラー８及び第二マスキング結像レンズ９を備えている。

　露光装置５０では、ＬＥＤ光源ユニット１は、マトリックス状に配列された複数のＬＥＤ発光素子（固体発光素子）と、発する光束の発散角を押さえるためのマイクロレンズ群とを備えている。なお、光量的に余裕がある場合には、マイクロレンズ群を設けなくても構わない。
　そして、ＬＥＤ光源ユニット１から出射した照明光束は、第一コンデンサーレンズ２の作用によって平行光束に変換された後、ハエの目ユニット３を照明する。
　このため、ＬＥＤ光源ユニット１の出射面及びハエの目ユニット３の入射面はそれぞれ、第一コンデンサーレンズ２の前側焦点面近傍及び後側焦点面近傍に配置されている。

　ハエの目ユニット３は、光束を均一化する手段としての代表的なインテグレーターである。なお、これに限らず、光ロッド等のインテグレーターを用いても構わない。
　そして、ハエの目ユニット３を通過した光束は、第二コンデンサーレンズ４の作用によって平行光束に変換された後、露光スリット６を照明する。
　このため、ハエの目ユニット３の出射面及び露光スリット６の露光スリット面５はそれぞれ、第二コンデンサーレンズ４の前側焦点面近傍及び後側焦点面近傍に配置されている。

　上記のように、露光装置５０では、いわゆるケーラー照明法の構成が採用されているため、ハエの目ユニット３の上流部（光源側）において変動が発生しても、照射面である露光スリット面５は、均一に照明されることになる。
　そして、露光スリット６は、マスクＭ上の照明領域が後続する投影光学系２００の良像域だけになるように、光束を制限する機能を有している。

　露光スリット６を通過した光束は、第一マスキング結像レンズ７、折り曲げミラー８及び第二マスキング結像レンズ９の作用によって、所定の倍率で結像されるように、マスクＭ上に集光される。
　露光装置５０では、以上の構成により、マスクＭ上の露光に必要な領域だけが均一且つ選択的に照明される。

　図１Ｂは、露光装置５０における投影光学系２００の模式図を示している。図１Ｂに示されているように、露光装置５０における投影光学系２００は、液晶製造装置に用いられるような大型のミラー系で構成されている。そして、照明ユニット１００から出射し、マスクＭを通過した光束は、台形鏡Ｔｒ、凹面鏡ＣＣ１、凸面鏡ＣＶ、凹面鏡ＣＣ２、そして台形鏡Ｔｒによって計５回反射される。
　そして、反射した光束はプレートＰ上に到達し、マスクＭ上のパターンがプレートＰ上に結像される。

　この場合、投影光学系２００の良像域は、光軸外の輪帯領域に限られるため、露光スリット６としては、図１Ｃに示されるような円弧状開口部を有する遮光板が用いられる。
　また、マスクＭからプレートＰへの結像倍率は、等倍、拡大、縮小のいずれもが含まれる。

　なお、投影光学系２００としては、上記に限らず、半導体製造装置に用いられるような多数のレンズ群から構成されていてもよい。
　また、露光装置５０では、光源としてＬＥＤ素子群からなるＬＥＤ光源ユニット１を用いているが、これに限られず、同様な小型の半導体レーザー（ＬＤ）群からなる光源ユニットを用いても構わない。
　また、光源として後述するような水銀ランプを用いて、その出力を直接変更させても構わない。しかしながら、光源として水銀ランプを用い、ランプ出力を短時間に変更する場合には、その電気特性や寿命の観点から実用性に課題が残ることに注意すべきである。

　図２Ａは、本実施形態に係る露光方法における第１のショット領域８０及び第２のショット領域９０を示した上面図である。
　また、図２Ｂは、本実施形態に係る露光方法における第１のショット領域８０及び第２のショット領域９０を繋ぎ合わせて示した上面図である。
　なおここで、ショット領域とは、露光装置５０における１回の走査露光で露光されるプレートＰ上の領域のことを指す。

　図２Ａ及び図２Ｂに示されているように、第１のショット領域８０は、繋ぎ領域８０ａ（第１の繋ぎ領域）とそれ以外の非繋ぎ領域８０ｂ（第１の非繋ぎ領域）からなる。そして、第２のショット領域９０は、繋ぎ領域９０ａ（第２の繋ぎ領域）とそれ以外の非繋ぎ領域９０ｂ（第２の非繋ぎ領域）とからなる。
　そして、プレートＰ上において走査方向（ｙ方向）に沿って配列されている第１のショット領域８０及び第２のショット領域９０は、繋ぎ領域８０ａ及び繋ぎ領域９０ａが互いに重なるように繋ぎ合わされる。

　このとき、本実施形態に係る露光方法では、非繋ぎ領域８０ｂの積算露光量、非繋ぎ領域９０ｂの積算露光量、及び繋ぎ領域８０ａの積算露光量と繋ぎ領域９０ａの積算露光量との和を互いに等しくする。これにより、第１のショット領域８０及び第２のショット領域９０からなる露光領域における積算露光量を均一にすることができる。

　ここで、特許文献１に開示されているような従来の繋ぎ方式では、プレートＰに略共役な位置に配置されたメカブレードが、例えば走行中に右端が所定の位置より前に進行したり、逆に左端が所定の位置より後退する等、走行精度が低い場合がある。
　そのようにメカブレードの移動誤差が大きい場合には、露光光の幅の調整誤差が大きくなる。すなわち繋ぎ領域８０ａの積算露光量と繋ぎ領域９０ａの積算露光量との和が非繋ぎ領域８０ｂ又は９０ｂの積算露光量とは異なるように露光が行われ、それにより露光線幅の異常が引き起こされる虞がある。

　また、従来の繋ぎ方式のように、プレートＰに略共役なマスクＭの位置、若しくは照明ユニット１００の露光スリット面５の位置に走行機構を有するメカブレードを配置する事は、設計において大きな制約となる。
　これは、そのような位置には露光シャッターに加えて、露光領域を二次元的に設定するＸＹマスキング機構等も設けられているからである。
　そして、それらの複数の機構を露光装置内の所定の箇所に集中して配置する事は、互いの空間的干渉や互いに対する発熱の影響等の問題を引き起こし、露光装置全体の性能低下に繋がる。

　また、繋ぎ領域８０ａ及び９０ａの走査方向における幅が長すぎると、マスクステージ２０及びプレートステージ３０の走査距離が増加するため、生産性が低下してしまう。
　一方、繋ぎ領域８０ａ及び９０ａの走査方向における幅が短すぎると、プロセスによっては積算露光量のむら等が発生しやすくなり、像性能が低下する虞がある。
　このように、繋ぎ領域８０ａ及び９０ａの走査方向における幅を可変にすることで最適化できる事が求められるが、メカブレードの機構や設定精度に限界があるため、従来の繋ぎ方式では困難である。

　また、第１のショット領域８０及び第２のショット領域９０を繋ぎ合わせる際には、プロセスに対応することも重要となる。
　すなわち、プレートＰ上に塗布される感光剤の感光特性が非線形である場合には、繋ぎ領域８０ａの積算露光量と繋ぎ領域９０ａの積算露光量との和が非繋ぎ領域８０ｂ又は９０ｂの積算露光量に対して異なるように意図的に露光を行う。それにより、繋ぎ領域８０ａ（９０ａ）と非繋ぎ領域８０ｂ及び９０ｂとで露光線幅を互いに等しくできる場合がある。
　このとき、従来の繋ぎ方式では、繋ぎ領域８０ａ及び９０ａを露光する際にメカブレードの走行速度を変更する必要が生じるが、それに伴って走行速度にむら等が発生し、それにより積算露光量の誤差が生じる虞がある。

　一方、従来の露光装置の光源としては水銀ランプが多く用いられているが、近年は地球環境を考慮して、水銀ランプの代わりにＬＥＤ光源を用いることによって省エネルギー化することが期待されている。
　ＬＥＤは、発光を制御する基板回路に電流を流してから発光出力が安定するまでの時間が水銀ランプに比べて短く、また水銀ランプのように常時発光させる必要がないため、長寿命でもある。
　また、ＬＥＤの１個当たりの発光出力は水銀ランプと比べて極めて小さいが、複数のＬＥＤを配列させて総出力を十分に大きくすることもできる。

　以上を鑑みて、本実施形態に係る露光方法では、以下に示すような繋ぎ方式を用いて、高精度に複数のショット領域を繋ぎ合わせることができる。

　図３Ａ及び図３Ｂはそれぞれ、本実施形態に係る露光方法における第一走査露光の様子及びその際の照度（静止照度）の時間変化を示している。また、図３Ｃは、本実施形態に係る露光方法の第一走査露光及び第二走査露光それぞれにおける積算露光量分布及びそれらの合算を示している。

　図３Ａ乃至図３Ｃにおいて、Ｐ１、Ｐ２、…、Ｐ１５はそれぞれ、プレートＰ上のｙ方向（走査方向）における所定の位置を示しており、Ｔ１、Ｔ２、…、Ｔ９はそれぞれ、第一走査露光における所定の時刻を示している。
　そして、図３Ａにおける矩形の網掛け領域は、露光スリット６によって決定されるプレートＰ上の照明領域Ｓを示しており、例えば時刻Ｔ１では、プレートＰ上の位置Ｐ１０乃至Ｐ１４が照明されることを意味している。

　すなわち、図３Ａ及び図３Ｂは、本実施形態に係る露光方法での第一走査露光において時間が時刻Ｔ１から時刻Ｔ９に変化するにつれて、プレートＰ上の照明領域Ｓの照度が１００から０に低下していく様子を示している。より具体的には、本実施形態に係る露光方法での第一走査露光では、時刻Ｔ１から時刻Ｔ５までプレートＰ上の照明領域Ｓの照度が１００で維持された後、時刻Ｔ５から時刻Ｔ９にかけて、線形的に１００から０に低下している（単調変化する、単調減少する）。

　なおここで、照度とは単位時間、単位面積当たりの露光量ということもできる。また、プレートＰ上の照度は正規化されており、時刻Ｔ１より前の時刻では、プレートＰ上の照明領域Ｓの照度は１００で固定されており、一方で時刻Ｔ９より後の時刻では、プレートＰ上の照明領域Ｓの照度は０で固定されているとする。

　そして、本実施形態に係る露光方法では、第一走査露光として図３Ａに示されるようにプレートＰを＋ｙ方向に走査することにより、プレートＰ上の位置Ｐ１乃至Ｐ１５の少なくとも一部における積算露光量は、互いに異なることとなる。

　例えば、位置Ｐ６に着目すると、位置Ｐ６は、時刻Ｔ５において露光スリット６による照明領域Ｓに進入し、時刻Ｔ９において露光スリット６による照明領域Ｓから退出する。
　従って、時刻Ｔ１乃至Ｔ９それぞれでの位置Ｐ６における照度は、以下の表１のように表され、時刻Ｔ１から時刻Ｔ９までの位置Ｐ６における積算露光量は、１００＋７５＋５０＋２５＝２５０となる。

　一方、位置Ｐ１０に着目すると、位置Ｐ１０は、時刻Ｔ１には照明領域Ｓ内にあり、時刻Ｔ５において露光スリット６による照明領域Ｓから退出する。
　従って、時刻Ｔ１乃至Ｔ９それぞれでの位置Ｐ１０における照度は、上記の表１のように表され、時刻Ｔ１から時刻Ｔ９までの位置Ｐ１０における積算露光量は、１００＋１００＋１００＋１００＋１００＝５００となる。

　また、位置Ｐ２に着目すると、時刻Ｔ９において露光スリット６による照明領域Ｓに進入するが、時刻Ｔ９では照明領域Ｓの照度が０まで減衰しているため、時刻Ｔ１から時刻Ｔ９までの位置Ｐ２における積算露光量は０となる。

　上記の要領で、第一走査露光において時刻Ｔ１から時刻Ｔ９までの位置Ｐ１乃至Ｐ１５それぞれにおける積算露光量を計算し、変化曲線として図示したものが図３Ｃに示されている。
　なお、図３Ｃには、プレートＰ上における繋ぎ領域Ｃも示されている。すなわち、繋ぎ領域Ｃは、第１のショット領域８０の繋ぎ領域８０ａ及び第２のショット領域９０の繋ぎ領域９０ａに対応する。
　本実施形態に係る露光方法では、繋ぎ領域Ｃは、位置Ｐ２と位置Ｐ１０との間であり、繋ぎ領域Ｃ内の位置では、第一走査露光及び第二走査露光それぞれにおいて、積算露光量は０より大きく５００より小さい値となる。

　本実施形態に係る露光方法では、繋ぎ領域Ｃの積算露光量を均一にするために、上記に示した第一走査露光に加えて、以下に示すような第二走査露光を行う。

　図４Ａ及び図４Ｂはそれぞれ、本実施形態に係る露光方法における第二走査露光の様子及びその際の照度の時間変化を示している。

　図４Ａ及び図４Ｂにおいて、Ｐ１、Ｐ２、…、Ｐ１５はそれぞれ、プレートＰ上のｙ方向（走査方向）における所定の位置を示しており、Ｔ１’、Ｔ２’、…、Ｔ９’はそれぞれ、第二走査露光における所定の時刻を示している。
　そして、図４Ａにおける矩形の網掛け領域は、露光スリット６によって決定されるプレートＰ上の照明領域Ｓを示しており、例えば時刻Ｔ１’では、プレートＰ上の位置Ｐ１及びＰ２が照明されることを意味している。

　すなわち、図４Ａ及び図４Ｂは、本実施形態に係る露光方法での第二走査露光において時間が時刻Ｔ１’から時刻Ｔ９’に変化するにつれて、プレートＰ上の照明領域Ｓの照度が１００から０に低下していく様子を示している。より具体的には、本実施形態に係る露光方法での第二走査露光では、時刻Ｔ１’から時刻Ｔ５’までプレートＰ上の照明領域Ｓの照度が１００で維持された後、時刻Ｔ５’から時刻Ｔ９’にかけて、線形的に１００から０に低下している。
　なおここで、プレートＰ上の照度は正規化されており、時刻Ｔ１’より前の時刻では、プレートＰ上の照明領域Ｓの照度は１００で固定されている一方で、時刻Ｔ９’より後の時刻では、プレートＰ上の照明領域Ｓの照度は０で固定されているとする。

　第二走査露光では、図４Ａに示されるように、時刻Ｔ１’から時刻Ｔ９’にかけてプレートＰを第一走査露光とは逆の－ｙ方向に走査する。

　そのとき、位置Ｐ６に着目すると、位置Ｐ６は、時刻Ｔ５’において露光スリット６による照明領域Ｓに進入し、時刻Ｔ９’において露光スリット６による照明領域Ｓから退出する。
　従って、時刻Ｔ１’乃至Ｔ９’それぞれでの位置Ｐ６における照度は、以下の表２のように表され、時刻Ｔ１’から時刻Ｔ９’までの位置Ｐ６における積算露光量は、１００＋７５＋５０＋２５＝２５０となる。

　一方、位置Ｐ１０に着目すると、時刻Ｔ９’において露光スリット６による照明領域Ｓに進入するが、時刻Ｔ９’では照明領域Ｓの照度が０まで減衰しているため、時刻Ｔ１’から時刻Ｔ９’までの位置Ｐ１０における積算露光量は０となる。

　そして、位置Ｐ２に着目すると、位置Ｐ２は、時刻Ｔ１’には照明領域Ｓ内にあり、時刻Ｔ５’において露光スリット６による照明領域Ｓから退出する。
　従って、時刻Ｔ１’乃至Ｔ９’それぞれでの位置Ｐ２における照度は、上記の表２のように表され、時刻Ｔ１’から時刻Ｔ９’までの位置Ｐ２における積算露光量は、１００＋１００＋１００＋１００＋１００＝５００となる。

　上記の要領で、第二走査露光において時刻Ｔ１’から時刻Ｔ９’までの位置Ｐ１乃至Ｐ１５それぞれにおける積算露光量を計算し、変化曲線として図示したものが図３Ｃに示されている。
　そして、第一走査露光及び第二走査露光それぞれの積算露光量の合算も図３Ｃに示されており、位置Ｐ１乃至Ｐ１５のいずれにおいても積算露光量が５００となっていることがわかる。

　以上のように、本実施形態に係る露光方法では、上記の要領でプレートＰを走査方向の第１の向きに移動させながら露光する第一走査露光とプレートＰを第一走査露光とは逆向きに移動させながら露光する第二走査露光との往復２回の走査露光を行なっている。
　そして第一走査露光の際には、繋ぎ領域８０ａが照明領域Ｓを通過する際の所定の時間における照明領域Ｓの照度が、非繋ぎ領域８０ｂが照明領域Ｓを通過する際の照度とは異なるように、第１のショット領域８０を露光する。
　また第二走査露光の際には、繋ぎ領域８０ａに重なる繋ぎ領域９０ａが照明領域Ｓを通過する際の所定の時間における照度が、非繋ぎ領域９０ｂが照明領域Ｓを通過する際の照度とは異なるように、第２のショット領域９０を露光する。
　このようにして、繋ぎ領域Ｃとそれ以外の非繋ぎ領域とで積算露光量を互いに等しくすることができる。

　なお第二走査露光では、上記に限らず、照度を０から１００まで増加させながらプレートＰを第一走査露光と同じ＋ｙ方向に走査することによっても、同様の積算露光量分布を得ることができる。

　また、本実施形態に係る露光方法では、プレートＰ上における照度は、ＬＥＤ光源ユニット１内に設けられている複数のＬＥＤ素子の少なくとも一つ以上をＯＮ／ＯＦＦさせる事により、変更することができる。
　また、それに限らず、ＬＥＤ光源ユニット１内に設けられている複数のＬＥＤ素子の少なくとも一つ以上の電流値を変更する事により、プレートＰ上における照度を変更してもよい。
　また、ＬＥＤ光源ユニット１の代わりにレーザーダイオード（ＬＤ）のような固体発光素子を有する光源を用いて、プレートＰ上における照度を変更してもよい。

　また、本実施形態に係る露光方法では、照明ユニット１００を簡略化するために、いわゆるクリチカル照明と呼ばれる、ハエの目ユニット３を用いずに露光スリット面５上に直接ＬＥＤ素子を置くこともできる。
　その場合、露光スリット６の開口形状に対応した領域に複数のＬＥＤ素子の発光面が配列される。例えば、図１Ｂに示されるような投影光学系２００を設けた場合には、図１Ｃに示されるような露光スリット６の円弧状開口の開口面にＬＥＤ素子群が配置されることになる。

　また、上記の説明では、マスクステージ２０及びプレートステージ３０の移動速度（マスクＭ及びプレートＰの走査速度）は一定としているが、これに限らず、移動速度（走査速度）を時間に応じて変化させてもよい。

　従来の露光方法では、プレートＰ上における照度は時間変化させずに、走行ブレード等を用いてプレートＰ上の照明領域Ｓの大きさ（すなわち、図３Ａにおける照明領域Ｓの幅）を時間変化させることによって、繋ぎ領域Ｃの積算露光量を調整している。
　一方、本実施形態に係る露光方法では、プレートＰ上の照明領域Ｓの幅は時間変化させずに、プレートＰ上における照度（すなわち、図３Ａにおける照明領域Ｓの高さ）を時間変化させることによって、繋ぎ領域Ｃの積算露光量を調整している。

　以上のように、本実施形態に係る露光方法では、従来の露光装置に設けられているようなメカブレードが不要となるため、メカブレードの走行性能の誤差に伴う積算露光量の変動は生じず、また、他の部材の配置自由度が向上する。
　そして、光源としてＬＥＤ光源ユニット１を用いることによって、発光量を電気的に制御することができ、これにより、照度を高精度かつ自在に設定することが可能である。

　さらに、本実施形態に係る露光方法では、インテグレーターであるハエの目ユニット３の上流部において発光量を変更することができるため、画面全体にわたって一様に照度を変更することができる。
　これにより、従来の露光装置におけるメカブレードの駆動誤差に伴う像性能への影響と比べて、像性能も向上させることができる。

　以上のように、本実施形態に係る露光方法では、高精度に複数のショット領域を繋ぎ合わせると共に、用いる装置も小型化することができる。

［第二実施形態］
　図５は、第二実施形態に係る露光方法に用いられる露光装置６０の概略図を示している。
　なお、露光装置６０は、ＬＥＤ光源ユニット１の代わりに水銀ランプユニット２５を用いると共に、水銀ランプユニット２５の焦点面ｓ１の近傍に可変虹彩絞りＶＩを設けている以外は、露光装置５０と同一の構成である。そのため、同一の部材には同一の符番を付して、説明を省略する。

　露光装置６０では、水銀ランプユニット２５から出射した照明光束は、可変虹彩絞りＶＩ（減光部材）を通過した後、第一コンデンサーレンズ２の作用によって平行光束に変換され、ハエの目ユニット３を照明する。

　このとき、可変虹彩絞りＶＩの開口部を狭めていくと、可変虹彩絞りＶＩを通過する光束の光量が減少する。
　これにより、ハエの目ユニット３を照明する光束の光量は減衰するが、ハエの目ユニット３は露光スリット面５を均一に照明する機能を有しているため、露光スリット面５の照度分布は均一に保たれたまま、露光スリット面５全体の照度が低下することになる。

　その結果、マスクＭ上における照度を低下させる事ができ、ひいては第一実施形態に係る露光方法と同様に、プレートＰ上における照度を低下させることができる。

　なお、可変虹彩絞りＶＩを配置する場所は、水銀ランプユニット２５の焦点面ｓ１に限らず、第一コンデンサーレンズ２の下流側の所定の位置ｓ２でも構わない。
　位置ｓ２では、光束が広がっているため、可変虹彩絞りＶＩを絞っていく際の駆動量は大きくなるが、一方、その分駆動敏感度が低くなるため、光量の制御を高精度で行なうことができる。
　さらに、可変虹彩絞りＶＩを位置ｓ２に配置すると、水銀ランプユニット２５の焦点面ｓ１に配置した場合と比べて、可変虹彩絞りＶＩが水銀ランプユニット２５から離れる分、水銀ランプユニット２５の発熱の影響を受けにくくなるという利点もある。

　さらに、可変虹彩絞りＶＩを配置する場所は、上述の位置に限らず、ハエの目ユニット３より上流側に設ければよい。このとき、ハエの目ユニット３の上記の機能により、露光スリット面５における照度の均一性を維持したまま、プレートＰ上における照度を変化させることができる。
　また、可変虹彩絞りＶＩに用いられる遮光部材としては、メカブレードに限らず、誘電体反射膜が塗布された硝子部材でも構わない。そのような硝子部材を用いた場合には、熱の吸収が小さくなるため、耐久性が向上する。

　以上のように、本実施形態に係る露光方法に用いられる露光装置６０では、ハエの目ユニット３の上流部に減光機能を有する可変虹彩絞りＶＩを設けることによって、マスクＭ上の全体にわたって一様に照度を変化させることができる。従って、従来の露光装置と比べて、メカブレードの駆動誤差に伴う像性能の低下を抑制することができる。

　これにより、本実施形態に係る露光方法においても、高精度に複数のショット領域を繋ぎ合わせると共に、用いる装置も小型化することができる。

［第三実施形態］
　図６は、第三実施形態に係る露光方法に用いられる露光装置７０の概略図を示している。
　なお、露光装置７０は、可変虹彩絞りＶＩの代わりに走行シャッター部材ＲＳを用いている以外は、露光装置６０と同一の構成であるため、同一の部材には同一の符番を付して、説明を省略する。

　露光装置７０では、水銀ランプユニット２５から出射した照明光束は、走行シャッター部材ＲＳ（減光部材、遮光ブレード）を通過した後、第一コンデンサーレンズ２の作用によって平行光束に変換され、ハエの目ユニット３を照明する。

　このとき、走行シャッター部材ＲＳが直線移動することによって照明光束を部分的に遮蔽していくことで、走行シャッター部材ＲＳを通過する光束の光量が減少する。
　これにより、ハエの目ユニット３を照明する光束の光量は減衰するが、ハエの目ユニット３は露光スリット面５を均一に照明する機能を有しているため、露光スリット面５の照度分布は均一に保たれたまま、露光スリット面５全体の照度が低下することになる。

　その結果、マスクＭ上における照度を低下させる事ができ、ひいては第一及び第二実施形態に係る露光方法と同様に、プレートＰ上における照度を低下させることができる。

　なお、走行シャッター部材ＲＳは、水銀ランプユニット２５の焦点面ｓ１、または第一コンデンサーレンズ２の下流側の所定の位置ｓ２、若しくはハエの目ユニット３の上流側の位置に配置して構わない。
　また、走行シャッター部材ＲＳに用いられる遮光部材としては、メカブレードに限らず、誘電体反射膜が塗布された硝子部材でも構わない。そのような硝子部材を用いた場合には、熱の吸収が小さくなるため、耐久性が向上する。

［第四実施形態］
　図７Ａ及び図７Ｂはそれぞれ、第四実施形態に係る露光方法における第一走査露光の様子及びその際の照度の時間変化を示している。また、図７Ｃは、第四実施形態に係る露光方法の第一走査露光及び第二走査露光それぞれにおける積算露光量分布及びそれらの合算を示している。
　なお、本実施形態に係る露光方法に用いられる露光装置は、第一乃至第三実施形態のいずれかに係る露光方法に用いられる露光装置と同一の構成であるため、同一の部材には同一の符番を付して、説明を省略する。

　図７Ａ乃至図７Ｃにおいて、Ｐ１、Ｐ２、…、Ｐ１５はそれぞれ、プレートＰ上のｙ方向（走査方向）における所定の位置を示しており、Ｔ１、Ｔ２、…、Ｔ９はそれぞれ、第一走査露光における所定の時刻を示している。
　そして、図７Ａにおける矩形の網掛け領域は、露光スリット６によって決定されるプレートＰ上の照明領域Ｓを示しており、例えば時刻Ｔ１では、プレートＰ上の位置Ｐ１０乃至Ｐ１４が照明されることを意味している。

　すなわち、図７Ａ及び図７Ｂは、本実施形態に係る露光方法での第一走査露光において時間が時刻Ｔ１から時刻Ｔ９に変化するにつれて、プレートＰ上の照明領域Ｓの照度が１００から０に低下していく様子を示している。より具体的には、本実施形態に係る露光方法での第一走査露光では、時刻Ｔ１から時刻Ｔ５までプレートＰ上の照明領域Ｓの照度が１００で維持された後、時刻Ｔ５から時刻Ｔ９にかけて、非線形的に１００から０に低下している（単調変化する、単調減少する）。
　なおここで、プレートＰ上の照度は正規化されており、時刻Ｔ１より前の時刻では、プレートＰ上の照明領域Ｓの照度は１００で固定されている一方で、時刻Ｔ９より後の時刻では、プレートＰ上の照明領域Ｓの照度は０で固定されているとする。

　そして、本実施形態に係る露光方法では、第一走査露光として図７Ａに示されるようにプレートＰを＋ｙ方向に走査することにより、プレートＰ上の位置Ｐ１乃至Ｐ１５の少なくとも一部における積算露光量は、互いに異なることとなる。

　例えば、位置Ｐ６に着目すると、位置Ｐ６は、時刻Ｔ５において露光スリット６による照明領域Ｓに進入し、時刻Ｔ９において露光スリット６による照明領域Ｓから退出する。
　従って、時刻Ｔ１乃至Ｔ９それぞれでの位置Ｐ６における照度は、以下の表３のように表され、時刻Ｔ１から時刻Ｔ９までの位置Ｐ６における積算露光量は、１００＋８５＋３５＋５＝２２５となる。

　一方、位置Ｐ１０に着目すると、位置Ｐ１０は、時刻Ｔ１には照明領域Ｓ内にあり、時刻Ｔ５において露光スリット６による照明領域Ｓから退出する。
　従って、時刻Ｔ１乃至Ｔ９それぞれでの位置Ｐ１０における照度は、上記の表３のように表され、時刻Ｔ１から時刻Ｔ９までの位置Ｐ１０における積算露光量は、１００＋１００＋１００＋１００＋１００＝５００となる。

　上記の要領で、第一走査露光において時刻Ｔ１から時刻Ｔ９までの位置Ｐ１乃至Ｐ１５それぞれにおける積算露光量を計算し、変化曲線として図示したものが図７Ｃに示されている。
　なお、図７Ｃには、プレートＰ上における繋ぎ領域Ｃも示されている。すなわち、繋ぎ領域Ｃは、第１のショット領域８０の繋ぎ領域８０ａ及び第２のショット領域９０の繋ぎ領域９０ａに対応する。
　本実施形態に係る露光方法では、繋ぎ領域Ｃは、位置Ｐ２と位置Ｐ１０との間であり、繋ぎ領域Ｃ内の位置では、第一走査露光及び第二走査露光それぞれにおいて、積算露光量は０より大きく５００より小さい値となる。

　本実施形態に係る露光方法では、上記に示した第一走査露光に加えて、以下に示すような第二走査露光を行う。

　図８Ａ及び図８Ｂはそれぞれ、本実施形態に係る露光方法における第二走査露光の様子及びその際の照度の時間変化を示している。

　図８Ａ及び図８Ｂにおいて、Ｐ１、Ｐ２、…、Ｐ１５はそれぞれ、プレートＰ上のｙ方向（走査方向）における所定の位置を示しており、Ｔ１’、Ｔ２’、…、Ｔ９’はそれぞれ、第二走査露光における所定の時刻を示している。
　そして、図８Ａにおける矩形の網掛け領域は、露光スリット６によって決定されるプレートＰ上の照明領域Ｓを示しており、例えば時刻Ｔ１’では、プレートＰ上の位置Ｐ１及びＰ２が照明されることを意味している。

　すなわち、図８Ａ及び図８Ｂは、本実施形態に係る露光方法での第二走査露光において時間が時刻Ｔ１’から時刻Ｔ９’に変化するにつれて、プレートＰ上の照明領域Ｓの照度が１００から０に低下していく様子を示している。より具体的には、本実施形態に係る露光方法での第二走査露光では、時刻Ｔ１’から時刻Ｔ５’までプレートＰ上の照明領域Ｓの照度が１００で維持された後、時刻Ｔ５’から時刻Ｔ９’にかけて、非線形的に１００から０に低下している。
　なおここで、プレートＰ上の照度は正規化されており、時刻Ｔ１’より前の時刻では、プレートＰ上の照明領域Ｓの照度は１００で固定されている一方で、時刻Ｔ９’より後の時刻では、プレートＰ上の照明領域Ｓの照度は０で固定されているとする。

　第二走査露光では、図８Ａに示されるように、時刻Ｔ１’から時刻Ｔ９’にかけてプレートＰを第一走査露光とは逆の－ｙ方向に走査する。

　そのとき、位置Ｐ６に着目すると、位置Ｐ６は、時刻Ｔ５’において露光スリット６による照明領域Ｓに進入し、時刻Ｔ９’において露光スリット６による照明領域Ｓから退出する。
　従って、時刻Ｔ１’乃至Ｔ９’それぞれでの位置Ｐ６における照度は、以下の表４のように表され、時刻Ｔ１’から時刻Ｔ９’までの位置Ｐ６における積算露光量は、１００＋８５＋３５＋５＝２２５となる。

　そして、位置Ｐ２に着目すると、位置Ｐ２は、時刻Ｔ１’には照明領域Ｓ内にあり、時刻Ｔ５’において露光スリット６による照明領域Ｓから退出する。
　従って、時刻Ｔ１’乃至Ｔ９’それぞれでの位置Ｐ２における照度は、上記の表４のように表され、時刻Ｔ１’から時刻Ｔ９’までの位置Ｐ２における積算露光量は、１００＋１００＋１００＋１００＋１００＝５００となる。

　上記の要領で、第二走査露光において時刻Ｔ１’から時刻Ｔ９’までの位置Ｐ１乃至Ｐ１５それぞれにおける積算露光量を計算し、変化曲線として図示したものが図７Ｃに示されている。
　そして、第一走査露光及び第二走査露光それぞれの積算露光量の合算も図７Ｃに示されている。

　第一乃至第三実施形態に係る露光方法では、プレートＰ上の照度を、直線状、すなわち線形的に１００から０まで減少させていた。
　その結果、第一走査露光及び第二走査露光の往復２回の走査露光による積算露光量は、繋ぎ領域Ｃとそれ以外の非繋ぎ領域とで互いに等しくしている。

　これに対して、本実施形態に係る露光方法では、プレートＰ上の照度を、曲線状、すなわち非線形的に１００から０まで減少させている。
　例えば、照度が変化している間の時刻Ｔ７におけるプレートＰ上の照明領域Ｓの照度は、第一乃至第三実施形態に係る露光方法では５０であったのに対し、本実施形態に係る露光方法では３５と小さくなっている。

　その結果、図７Ｃに示されているように、本実施形態に係る露光方法による繋ぎ領域Ｃの積算露光量は、第一乃至第三実施形態に係る露光方法の場合と比べて減少している。
　そのため、本実施形態に係る露光方法では、繋ぎ領域Ｃの積算露光量がそれ以外の非繋ぎ領域の積算露光量に比べて小さくなる。

　これは、以下の理由によるためである。すなわち、マスクＭ上のパターンが転写されるプレートＰ上の感光性レジストには、複数回にわたって露光されると、後の各露光において積算露光量が一回露光と同じであっても、実際の感光量は大きくなる化学特性を有するものがある。
　換言すると、マスクＭ上のパターンが転写されるプレートＰ上の感光性レジストには、一回露光されると、その後の露光に対する敏感度が大きくなる化学特性を有するものがある。

　本実施形態に係る露光方法では、上記のように繋ぎ領域Ｃ以外の非繋ぎ領域では露光は１回のみ行われるのに対して、繋ぎ領域Ｃの露光は往復２回行われる。
　そのため、そのような感光性レジストを用いた場合には、繋ぎ領域Ｃとそれ以外の非繋ぎ領域とで露光線幅が互いに異なってしまう。

　そこで、本実施形態に係る露光方法では、図７Ｃに示されているように、意図的に繋ぎ領域Ｃの積算露光量を非繋ぎ領域よりも小さくする事によって、繋ぎ領域と非繋ぎ領域とで露光線幅を互いに等しくする事ができる。

　なお第二走査露光では、上記に限らず、照度を０から１００まで非線形的に増加させながらプレートＰを第一走査露光と同じ＋ｙ方向に走査することによっても、同様の積算露光量分布を得ることができる。

　以上のように、本実施形態に係る露光方法においても、高精度に複数のショット領域を繋ぎ合わせると共に、用いる装置も小型化することができる。

［第五実施形態］
　図９Ａ及び図９Ｂはそれぞれ、第五実施形態に係る露光方法における第一走査露光の様子及びその際の照度の時間変化を示している。また、図９Ｃは、第五実施形態に係る露光方法の第一走査露光及び第二走査露光それぞれにおける積算露光量分布及びそれらの合算を示している。
　なお、本実施形態に係る露光方法に用いられる露光装置は、第一乃至第三実施形態のいずれかに係る露光方法に用いられる露光装置と同一の構成であるため、同一の部材には同一の符番を付して、説明を省略する。

　図９Ａ乃至図９Ｃにおいて、Ｐ１、Ｐ２、…、Ｐ１５はそれぞれ、プレートＰ上のｙ方向（走査方向）における所定の位置を示しており、Ｔ１、Ｔ２、…、Ｔ９はそれぞれ、第一走査露光における所定の時刻を示している。
　そして、図９Ａにおける矩形の網掛け領域は、露光スリット６によって決定されるプレートＰ上の照明領域Ｓを示しており、例えば時刻Ｔ１では、プレートＰ上の位置Ｐ１０乃至Ｐ１４が照明されることを意味している。

　すなわち、図９Ａ及び図９Ｂは、本実施形態に係る露光方法での第一走査露光において時間が時刻Ｔ１から時刻Ｔ９に変化するにつれて、プレートＰ上の照明領域Ｓの照度が１００から０に低下していく様子を示している。より具体的には、本実施形態に係る露光方法での第一走査露光では、時刻Ｔ１から時刻Ｔ５までプレートＰ上の照明領域Ｓの照度が１００で維持された後、時刻Ｔ５から時刻Ｔ９にかけて、非線形的に１００から０に低下している（単調変化する、単調減少する）。
　なおここで、プレートＰ上の照度は正規化されており、時刻Ｔ１より前の時刻では、プレートＰ上の照明領域Ｓの照度は１００で固定されている一方で、時刻Ｔ９より後の時刻では、プレートＰ上の照明領域Ｓの照度は０で固定されているとする。

　そして、本実施形態に係る露光方法では、第一走査露光として図９Ａに示されるようにプレートＰを＋ｙ方向に走査することにより、プレートＰ上の位置Ｐ１乃至Ｐ１５それぞれにおける積算露光量は、互いに異なることとなる。

　例えば、位置Ｐ６に着目すると、位置Ｐ６は、時刻Ｔ５において露光スリット６による照明領域Ｓに進入し、時刻Ｔ９において露光スリット６による照明領域Ｓから退出する。
　従って、時刻Ｔ１乃至Ｔ９それぞれでの位置Ｐ６における照度は、以下の表５のように表され、時刻Ｔ１から時刻Ｔ９までの位置Ｐ６における積算露光量は、１００＋９５＋６０＋２０＝２７５となる。

　一方、位置Ｐ１０に着目すると、位置Ｐ１０は、時刻Ｔ１には照明領域Ｓ内にあり、時刻Ｔ５において露光スリット６による照明領域Ｓから退出する。
　従って、時刻Ｔ１乃至Ｔ９それぞれでの位置Ｐ１０における照度は、上記の表５のように表され、時刻Ｔ１から時刻Ｔ９までの位置Ｐ１０における積算露光量は、１００＋１００＋１００＋１００＋１００＝５００となる。

　上記の要領で、第一走査露光において時刻Ｔ１から時刻Ｔ９までの位置Ｐ１乃至Ｐ１５それぞれにおける積算露光量を計算し、変化曲線として図示したものが図９Ｃに示されている。
　なお、図９Ｃには、プレートＰ上における繋ぎ領域Ｃも示されている。すなわち、繋ぎ領域Ｃは、第１のショット領域８０の繋ぎ領域８０ａ及び第２のショット領域９０の繋ぎ領域９０ａに対応する。
　本実施形態に係る露光方法では、繋ぎ領域Ｃは、位置Ｐ２と位置Ｐ１０との間であり、繋ぎ領域Ｃ内の位置では、第一走査露光及び第二走査露光それぞれにおいて、積算露光量は０より大きく５００より小さい値となる。

　図１０Ａ及び図１０Ｂはそれぞれ、本実施形態に係る露光方法における第二走査露光の様子及びその際の照度の時間変化を示している。

　図１０Ａ及び図１０Ｂにおいて、Ｐ１、Ｐ２、…、Ｐ１５はそれぞれ、プレートＰ上のｙ方向（走査方向）における所定の位置を示しており、Ｔ１’、Ｔ２’、…、Ｔ９’はそれぞれ、第二走査露光における所定の時刻を示している。
　そして、図１０Ａにおける矩形の網掛け領域は、露光スリット６によって決定されるプレートＰ上の照明領域Ｓを示しており、例えば時刻Ｔ１’では、プレートＰ上の位置Ｐ１及びＰ２が照明されることを意味している。

　すなわち、図１０Ａ及び図１０Ｂは、本実施形態に係る露光方法での第二走査露光において時間が時刻Ｔ１’から時刻Ｔ９’に変化するにつれて、プレートＰ上の照明領域Ｓの照度が１００から０に低下していく様子を示している。より具体的には、本実施形態に係る露光方法での第二走査露光では、時刻Ｔ１’から時刻Ｔ５’までプレートＰ上の照明領域Ｓの照度が１００で維持された後、時刻Ｔ５’から時刻Ｔ９’にかけて、非線形的に１００から０に低下している。
　なおここで、プレートＰ上の照度は正規化されており、時刻Ｔ１’より前の時刻では、プレートＰ上の照明領域Ｓの照度は１００で固定されている一方で、時刻Ｔ９’より後の時刻では、プレートＰ上の照明領域Ｓの照度は０で固定されているとする。

　第二走査露光では、図１０Ａに示されるように、時刻Ｔ１’から時刻Ｔ９’にかけてプレートＰを第一走査露光とは逆の－ｙ方向に走査する。

　そのとき、位置Ｐ６に着目すると、位置Ｐ６は、時刻Ｔ５’において露光スリット６による照明領域Ｓに進入し、時刻Ｔ９’において露光スリット６による照明領域Ｓから退出する。
　従って、時刻Ｔ１’乃至Ｔ９’それぞれでの位置Ｐ６における照度は、以下の表６のように表され、時刻Ｔ１’から時刻Ｔ９’までの位置Ｐ６における積算露光量は、１００＋９５＋６０＋２０＝２７５となる。

　そして、位置Ｐ２に着目すると、位置Ｐ２は、時刻Ｔ１’には照明領域Ｓ内にあり、時刻Ｔ５’において露光スリット６による照明領域Ｓから退出する。
　従って、時刻Ｔ１’乃至Ｔ９’それぞれでの位置Ｐ２における照度は、上記の表６のように表され、時刻Ｔ１’から時刻Ｔ９’までの位置Ｐ２における積算露光量は、１００＋１００＋１００＋１００＋１００＝５００となる。

　上記の要領で、第二走査露光において時刻Ｔ１’から時刻Ｔ９’までの位置Ｐ１乃至Ｐ１５それぞれにおける積算露光量を計算し、変化曲線として図示したものが図９Ｃに示されている。
　そして、第一走査露光及び第二走査露光それぞれの積算露光量の合算も図９Ｃに示されている。

　これに対して、本実施形態に係る露光方法では、プレートＰ上の照度を、曲線状、すなわち非線形的に１００から０まで減少させている。
　例えば、照度が変化している間の時刻Ｔ７におけるプレートＰ上の照明領域Ｓの照度は、第一乃至第三実施形態に係る露光方法では５０であったのに対し、本実施形態に係る露光方法では６０と大きくなっている。

　その結果、図９Ｃに示されているように、本実施形態に係る露光方法による繋ぎ領域Ｃの積算露光量は、第一乃至第三実施形態に係る露光方法の場合と比べて増加している。
　そのため、本実施形態に係る露光方法では、繋ぎ領域Ｃの積算露光量がそれ以外の非繋ぎ領域の積算露光量に比べて大きくなる。

　これは、以下の理由によるためである。すなわち、マスクＭ上のパターンが転写されるプレートＰ上の感光性レジストには、複数回にわたって露光されると、後の各露光において積算露光量が一回露光と同じであっても、実際の感光量は小さくなる化学特性を有するものがある。
　換言すると、マスクＭ上のパターンが転写されるプレートＰ上の感光性レジストには、一回露光されると、その後の露光に対する敏感度が小さくなる化学特性を有するものがある。

　そこで、本実施形態に係る露光方法では、図９Ｃに示されているように、意図的に繋ぎ領域Ｃの積算露光量を非繋ぎ領域よりも大きくする事によって、繋ぎ領域と非繋ぎ領域とで露光線幅を互いに等しくする事ができる。

［第六実施形態］
　図１１Ａ及び図１１Ｂはそれぞれ、第六実施形態に係る露光方法における第一走査露光の様子及びその際の照度の時間変化を示している。また、図１１Ｃは、第六実施形態に係る露光方法の第一走査露光及び第二走査露光それぞれにおける積算露光量分布及びそれらの合算を示している。
　なお、本実施形態に係る露光方法に用いられる露光装置は、第一乃至第三実施形態のいずれかに係る露光方法に用いられる露光装置と同一の構成であるため、同一の部材には同一の符番を付して、説明を省略する。

　図１１Ａ乃至図１１Ｃにおいて、Ｐ１、Ｐ２、…、Ｐ１５はそれぞれ、プレートＰ上のｙ方向（走査方向）における所定の位置を示しており、Ｔ１、Ｔ２、…、Ｔ９はそれぞれ、第一走査露光における所定の時刻を示している。
　そして、図１１Ａにおける矩形の網掛け領域は、露光スリット６によって決定されるプレートＰ上の照明領域Ｓを示しており、例えば時刻Ｔ１では、プレートＰ上の位置Ｐ１０乃至Ｐ１４が照明されることを意味している。

　すなわち、図１１Ａ及び図１１Ｂは、本実施形態に係る露光方法での第一走査露光において時間が時刻Ｔ１から時刻Ｔ９に変化するにつれて、プレートＰ上の照明領域Ｓの照度が１００から０に低下していく様子を示している。より具体的には、本実施形態に係る露光方法での第一走査露光では、時刻Ｔ１から時刻Ｔ６までプレートＰ上の照明領域Ｓの照度が１００で維持された後、時刻Ｔ６から時刻Ｔ８にかけて、線形的に１００から０に低下している（単調変化する、単調減少する）。
　なおここで、プレートＰ上の照度は正規化されており、時刻Ｔ１より前の時刻では、プレートＰ上の照明領域Ｓの照度は１００で固定されている一方で、時刻Ｔ８より後の時刻では、プレートＰ上の照明領域Ｓの照度は０で固定されているとする。

　そして、本実施形態に係る露光方法では、第一走査露光として図１１Ａに示されるようにプレートＰを＋ｙ方向に走査することにより、プレートＰ上の位置Ｐ１乃至Ｐ１５の少なくとも一部における積算露光量は、互いに異なることとなる。

　例えば、位置Ｐ６に着目すると、位置Ｐ６は、時刻Ｔ５において露光スリット６による照明領域Ｓに進入し、時刻Ｔ９において露光スリット６による照明領域Ｓから退出する。
　従って、時刻Ｔ１乃至Ｔ９それぞれでの位置Ｐ６における照度は、以下の表７のように表され、時刻Ｔ１から時刻Ｔ９までの位置Ｐ６における積算露光量は、１００＋１００＋５０＝２５０となる。

　一方、位置Ｐ１０に着目すると、位置Ｐ１０は、時刻Ｔ１には照明領域Ｓ内にあり、時刻Ｔ５において露光スリット６による照明領域Ｓから退出する。
　従って、時刻Ｔ１乃至Ｔ９それぞれでの位置Ｐ１０における照度は、上記の表７のように表され、時刻Ｔ１から時刻Ｔ９までの位置Ｐ１０における積算露光量は、１００＋１００＋１００＋１００＋１００＝５００となる。

　上記の要領で、第一走査露光において時刻Ｔ１から時刻Ｔ９までの位置Ｐ１乃至Ｐ１５それぞれにおける積算露光量を計算し、変化曲線として図示したものが図１１Ｃに示されている。
　なお、図１１Ｃには、プレートＰ上における繋ぎ領域Ｃも示されている。すなわち、繋ぎ領域Ｃは、第１のショット領域８０の繋ぎ領域８０ａ及び第２のショット領域９０の繋ぎ領域９０ａに対応する。
　本実施形態に係る露光方法では、繋ぎ領域Ｃは、位置Ｐ３と位置Ｐ９との間であり、繋ぎ領域Ｃ内の位置では、第一走査露光及び第二走査露光それぞれにおいて、積算露光量は０より大きく５００より小さい値となる。

　図１２Ａ及び図１２Ｂはそれぞれ、本実施形態に係る露光方法における第二走査露光の様子及びその際の照度の時間変化を示している。

　図１２Ａ及び図１２Ｂにおいて、Ｐ１、Ｐ２、…、Ｐ１５はそれぞれ、プレートＰ上のｙ方向（走査方向）における所定の位置を示しており、Ｔ１’、Ｔ２’、…、Ｔ９’はそれぞれ、第二走査露光における所定の時刻を示している。
　そして、図１２Ａにおける矩形の網掛け領域は、露光スリット６によって決定されるプレートＰ上の照明領域Ｓを示しており、例えば時刻Ｔ１’では、プレートＰ上の位置Ｐ１及びＰ２が照明されることを意味している。

　すなわち、図１２Ａ及び図１２Ｂは、本実施形態に係る露光方法での第二走査露光において時間が時刻Ｔ１’から時刻Ｔ９’に変化するにつれて、プレートＰ上の照明領域Ｓの照度が１００から０に低下していく様子を示している。より具体的には、本実施形態に係る露光方法での第二走査露光では、時刻Ｔ１’から時刻Ｔ６’までプレートＰ上の照明領域Ｓの照度が１００で維持された後、時刻Ｔ６’から時刻Ｔ８’にかけて、線形的に１００から０に低下している。
　なおここで、プレートＰ上の照度は正規化されており、時刻Ｔ１’より前の時刻では、プレートＰ上の照明領域Ｓの照度は１００で固定されている一方で、時刻Ｔ８’より後の時刻では、プレートＰ上の照明領域Ｓの照度は０で固定されているとする。

　第二走査露光では、図１２Ａに示されるように、時刻Ｔ１’から時刻Ｔ９’にかけてプレートＰを第一走査露光とは逆の－ｙ方向に走査する。

　そのとき、位置Ｐ６に着目すると、位置Ｐ６は、時刻Ｔ５’において露光スリット６による照明領域Ｓに進入し、時刻Ｔ９’において露光スリット６による照明領域Ｓから退出する。
　従って、時刻Ｔ１’乃至Ｔ９’それぞれでの位置Ｐ６における照度は、以下の表８のように表され、時刻Ｔ１’から時刻Ｔ９’までの位置Ｐ６における積算露光量は、１００＋１００＋５０＝２５０となる。

　そして、位置Ｐ２に着目すると、位置Ｐ２は、時刻Ｔ１’には照明領域Ｓ内にあり、時刻Ｔ５’において露光スリット６による照明領域Ｓから退出する。
　従って、時刻Ｔ１’乃至Ｔ９’それぞれでの位置Ｐ２における照度は、上記の表８のように表され、時刻Ｔ１’から時刻Ｔ９’までの位置Ｐ２における積算露光量は、１００＋１００＋１００＋１００＋１００＝５００となる。

　上記の要領で、第二走査露光において時刻Ｔ１’から時刻Ｔ９’までの位置Ｐ１乃至Ｐ１５それぞれにおける積算露光量を計算し、変化曲線として図示したものが図１１Ｃに示されている。
　そして、第一走査露光及び第二走査露光それぞれの積算露光量の合算も図１１Ｃに示されている。

　第一乃至第三実施形態に係る露光方法での第一走査露光では、時刻Ｔ１から時刻Ｔ５までプレートＰ上の照明領域Ｓの照度が１００で維持された後、時刻Ｔ５から時刻Ｔ９にかけて、１００から０に低下させている。
　その結果、第一乃至第三実施形態に係る露光方法では、走査方向においてプレートＰ上の位置Ｐ２と位置Ｐ１０との間の領域を繋ぎ領域Ｃとして設ける必要があった。

　これに対して、本実施形態に係る露光方法での第一走査露光では、時刻Ｔ１から時刻Ｔ６までプレートＰ上の照明領域Ｓの照度が１００で維持された後、時刻Ｔ６から時刻Ｔ８にかけて、１００から０に低下させている。
　そのため、本実施形態に係る露光方法では、走査方向においてプレートＰ上の位置Ｐ３と位置Ｐ９との間の領域を繋ぎ領域Ｃとして設ければよい。

　このように、本実施形態に係る露光方法では、繋ぎ領域Ｃの大きさ、具体的には走査方向における繋ぎ幅を短くすることができる。

　もちろん、本実施形態に係る露光方法では、繋ぎ領域Ｃの走査方向における繋ぎ幅を長くすることもでき、すなわち所望に応じて変更することができる。

　例えば、本実施形態に係る露光方法では、走査露光時に発生するステージの移動誤差等の影響を平均化して低減するために、繋ぎ幅を長くする事が可能である。
　一方、本実施形態に係る露光方法では、繋ぎに要する露光時間を短縮するために、繋ぎ幅を短くすることによって、ステージが走行する全体距離を短縮する事も可能である。これにより、繋ぎ露光時のプレートの処理時間（タクト）を短縮することができ、製造工程の効率化、すなわち高スループット化をもたらすことができる。

　以上のように、本実施形態に係る露光方法では、照度を減少させる工程の開始から終了までの所要時間を変更することによって繋ぎ領域Ｃの幅を変更することができる。それにより、高精度に複数のショット領域を繋ぎ合わせると共に、用いる装置も小型化することができる。

　以上、好ましい実施形態について説明したが、これらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。

［物品の製造方法］
　次に、第一乃至第六実施形態のいずれかに係る露光方法を用いた物品の製造方法について説明する。

　物品は、半導体デバイス、表示デバイス、カラーフィルタ、光学部品、ＭＥＭＳ等である。
　例えば、半導体デバイスは、プレートに回路パターンを作るための前工程と、前工程で作られた回路チップを製品として完成させるための、加工工程を含む後工程とを経ることにより製造される。
　前工程は、第一乃至第六実施形態のいずれかに係る露光方法を使用して感光剤が塗布されたプレートを露光する露光工程と、感光剤を現像する現像工程とを含む。
　現像された感光剤のパターンをマスクとしてエッチング工程やイオン注入工程等が行われ、プレート上に回路パターンが形成される。
　これらの露光、現像、エッチング等の工程を繰り返して、プレート上に複数の層からなる回路パターンが形成される。
　後工程で、回路パターンが形成されたプレートに対してダイシングを行い、チップのマウンティング、ボンディング、検査工程を行う。

　表示デバイスは、透明電極を形成する工程を経ることにより製造される。透明電極を形成する工程は、透明導電膜が蒸着されたガラスプレートに感光剤を塗布する工程と、第一乃至第六実施形態のいずれかに係る露光方法を使用して感光剤が塗布されたガラスプレートを露光する工程と、露光された感光剤を現像する工程とを含む。

　本実施形態に係る物品の製造方法によれば、従来よりも高品位且つ高生産性の物品を製造することができる。

　本発明は上記実施の形態に制限されるものではなく、本発明の精神及び範囲から離脱することなく、様々な変更及び変形が可能である。従って、本発明の範囲を公にするために以下の請求項を添付する。

　本願は、２０１９年１０月２日提出の日本国特許出願特願２０１９－１８２０７２を基礎として優先権を主張するものであり、その記載内容の全てをここに援用する。

８０　第１のショット領域
８０ａ　繋ぎ領域（第１の繋ぎ領域）
８０ｂ　非繋ぎ領域（第１の非繋ぎ領域）
９０　第２のショット領域
９０ａ　繋ぎ領域（第２の繋ぎ領域）
９０ｂ　非繋ぎ領域（第２の非繋ぎ領域）
Ｍ　マスク（原版）
Ｐ　プレート（基板）

Claims

　原版及び基板を走査方向に走査しながら、前記原版に描画されたパターンを前記基板に転写するように前記基板を露光する露光方法であって、
　前記基板上の第１のショット領域に含まれる第１の繋ぎ領域が照明領域を通過する際の所定の時間における該照明領域の照度が、前記第１のショット領域に含まれる第１の非繋ぎ領域が前記照明領域を通過する際の前記照度とは異なるように、前記第１のショット領域を露光する工程と、
　前記第１のショット領域に対して前記走査方向に配列される第２のショット領域に含まれると共に前記第１の繋ぎ領域に重なる第２の繋ぎ領域が前記照明領域を通過する際の所定の時間における前記照度が、前記第２のショット領域に含まれる第２の非繋ぎ領域が前記照明領域を通過する際の前記照度とは異なるように、前記第２のショット領域を露光する工程と、
を含むことを特徴とする露光方法。
　前記第１のショット領域を露光する工程は、前記基板を前記走査方向の第１の向きに移動させながら前記第１の繋ぎ領域が前記照明領域を通過する際に、前記照度を単調変化させる工程を含み、
　前記第２のショット領域を露光する工程は、前記基板を前記第１の向きとは逆向きに移動させながら前記第２の繋ぎ領域が前記照明領域を通過する際に、前記照度を単調変化させる工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
　前記照度を単調変化させる工程は、前記照度を線形的に単調減少させる工程を含むことを特徴とする請求項２に記載の露光方法。
　前記第１の非繋ぎ領域及び前記第２の非繋ぎ領域それぞれの積算露光量と前記第１の繋ぎ領域及び前記第２の繋ぎ領域それぞれの積算露光量の和とは、互いに等しいことを特徴とする請求項３に記載の露光方法。
　前記照度を単調変化させる工程は、前記照度を非線形的に単調減少させる工程を含むことを特徴とする請求項２に記載の露光方法。
　前記第１の非繋ぎ領域及び前記第２の非繋ぎ領域それぞれの積算露光量と前記第１の繋ぎ領域及び前記第２の繋ぎ領域それぞれの積算露光量の和とは、互いに異なることを特徴とする請求項５に記載の露光方法。
　前記照度を単調変化させる工程の開始から終了までの所要時間を変更することができることを特徴とする請求項２乃至６のいずれか一項に記載の露光方法。
　前記第１の繋ぎ領域及び前記第２の繋ぎ領域の前記走査方向における幅を変更することができることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載の露光方法。
　前記第１のショット領域を露光する工程は、前記第１の繋ぎ領域が前記照明領域を通過する際に、光源の発光量を変化させる工程を含み、
　前記第２のショット領域を露光する工程は、前記第２の繋ぎ領域が前記照明領域を通過する際に、前記光源の発光量を変化させる工程を含むことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一項に記載の露光方法。
　前記光源は、複数の固体発光素子を備えることを特徴とする請求項９に記載の露光方法。
　前記光源の発光量を変化させる工程は、前記複数の固体発光素子のうちの少なくとも一部の固体発光素子の発光量を変更する工程を含むことを特徴とする請求項１０に記載の露光方法。
　前記光源の発光量を変化させる工程は、前記複数の固体発光素子のうちの少なくとも一部の固体発光素子を発光させない工程を含むことを特徴とする請求項１０または１１に記載の露光方法。
　前記第１のショット領域を露光する工程は、前記第１の繋ぎ領域が前記照明領域を通過する際に、光源とインテグレーターとの間に設けられる減光部材を駆動する工程を含み、
　前記第２のショット領域を露光する工程は、前記第２の繋ぎ領域が前記照明領域を通過する際に、前記減光部材を駆動する工程を含むことを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか一項に記載の露光方法。
　前記減光部材は、虹彩絞りであることを特徴とする請求項１３に記載の露光方法。
　前記減光部材は、遮光ブレードが直線移動する絞りであることを特徴とする請求項１３に記載の露光方法。
　請求項１乃至１５のいずれか一項に記載の露光方法によって前記基板を露光する工程と、
　露光された前記基板を現像する工程と、
　現像された前記基板を加工して物品を得る工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
　原版及び基板を走査方向に走査しながら、前記原版に描画されたパターンを前記基板に転写するように前記基板を露光する露光装置であって、
　照明領域を照明する照明ユニットと、
　載置される前記原版を移動させる原版ステージと、
　載置される前記基板を移動させる基板ステージと、
　前記基板上の前記走査方向に沿って配列される第１のショット領域及び第２のショット領域を露光する際に、前記第１のショット領域に含まれる第１の繋ぎ領域が前記照明領域を通過する際の所定の時間における前記照明領域の照度が、前記第１のショット領域に含まれる第１の非繋ぎ領域が前記照明領域を通過する際の前記照度とは異なり、且つ、前記第２のショット領域に含まれると共に前記第１の繋ぎ領域に重なる第２の繋ぎ領域が前記照明領域を通過する際の所定の時間における前記照度が、前記第２のショット領域に含まれる第２の非繋ぎ領域が前記照明領域を通過する際の前記照度とは異なるように、前記照明ユニット、前記原版ステージ及び前記基板ステージを制御する制御部と、
を備えることを特徴とする露光装置。