TW202115772A

TW202115772A - 曝光方法

Info

Publication number: TW202115772A
Application number: TW109133574A
Authority: TW
Inventors: 河野道生
Original assignee: 日商佳能股份有限公司
Priority date: 2019-10-02
Filing date: 2020-09-28
Publication date: 2021-04-16
Also published as: JP2021056472A; WO2021065753A1; JP7381279B2

Abstract

為了提供可高精度地將複數個照射區域予以接合同時使用的裝置亦可小型化的曝光方法，涉及本發明的曝光方法包含：以在基板上的第1照射區域包含的第1連接區域通過照明區域之際的既定時間中的照明區域的照度與在第1照射區域包含的第1非連接區域通過照明區域之際的照度不同的方式對第1照射區域進行曝光的程序；和以在為相對於第1照射區域排列於掃描方向的第2照射區域包含同時與第1連接區域重疊的第2連接區域通過照明區域之際的既定時間中的照度與在第2照射區域包含的第2非連接區域通過照明區域之際的照度不同的方式對第2照射區域進行曝光的程序。

Description

曝光方法

本發明涉及曝光方法。

歷來，半導體裝置、液晶顯示裝置等的製程方面，已知將原版的圖案經由投影光學系統轉印於感光性的基板的曝光方法(光刻程序)。此外，近年來，為了伴隨製造的物品的大型化而增加曝光區域，使用一種曝光方法，其為以在基板上使複數個照射區域中的各者的一部分的區域彼此重疊的方式進行曝光，從而將複數個照射區域予以接合者。特開2017-32655號公報已揭露為了使連接區域及其以外的非連接區域個別的累積曝光量彼此相等而在對連接區域進行曝光之際使機械片移動而調整曝光光的寬從而控制累積曝光量的曝光方法。

在揭露於特開2017-32655號公報的曝光方法，機械片的移動準確度低時，在連接區域之累積曝光量方面產生誤差，相對於非連接區域的累積曝光量恐變不同。此外，使用機械片的情況下，亦需要配置機械片及將其驅動的機構的空間，導致裝置的大型化。於是本發明目的在於提供可高精度地將複數個照射區域予以接合同時使用的裝置亦小型化的曝光方法。

涉及本發明的曝光方法為一種曝光方法，其為一面對原版及基板進行掃描於掃描方向一面以將描繪於原版的圖案轉印於基板的方式對基板進行曝光者，其包含：以在基板上的第1照射區域包含的第1連接區域通過照明區域之際的既定時間中的照明區域的照度在與第1照射區域包含的第1非連接區域通過照明區域之際的照度不同的方式對第1照射區域進行曝光的程序；和以在為相對於第1照射區域排列於掃描方向的第2照射區域包含同時與第1連接區域重疊的第2連接區域通過照明區域之際的既定時間中的照度與在第2照射區域包含的第2非連接區域通過照明區域之際的照度不同的方式對第2照射區域進行曝光的程序。

於以下，就涉及本實施方式的曝光方法根據圖式詳細進行說明。另外，圖式是為了達成可容易理解本實施方式而以與實際不同的比例尺描繪。此外，在以下的說明，使與遮罩M及平板P個別的表面垂直的方向為z方向，使遮罩M及平板P分別被掃描的方向為y方向，且使與z方向及y方向垂直的方向為x方向。

[第一實施方式] 圖1A、圖1B及圖1C示出使用於涉及第一實施方式的曝光方法的屬掃描型曝光裝置的曝光裝置50的示意圖。

在曝光裝置50，以照明單元100形成的照明光束照明於遮罩M(原版)。並且，照明於遮罩M的光束因形成於遮罩M的下表面的圖案(未圖示)而繞射，往投影光學系統200行進。於投影光學系統200設置有光圈10，通過光圈10的光束聚光於平板P(基板)上。

於平板P上，塗佈有感光劑(感光性抗蝕層)，光束聚光於平板P上，使得描繪於遮罩M的圖案的像形成於(轉印)感光劑。在曝光裝置50，載置遮罩M的遮罩台20(原版載台)和載置平板P的平板載台30(基板載台)分別沿著圖1A中的sm方向及sp方向而彼此同步被掃描。其結果，與x方向上的既定的曝光寬及y方向上的既定的掃描長對應的照射尺寸的panel(以下，稱為照射區域)被曝光於平板P上。此外，在曝光裝置50，照明單元100、遮罩台20及平板載台30個別的驅動由控制部40控制。

如示於圖1A，照明單元100具備LED光源單元1、第一聚焦透鏡2、蠅眼單元3及第二聚焦透鏡4。此外，照明單元100具備曝光狹縫6、第一遮蔽成像透鏡7、折彎反射鏡8及第二遮蔽成像透鏡9。

在曝光裝置50，LED光源單元1具備排列為矩陣狀的複數個LED發光元件(固態發光元件)、和抑制發出的光束的發散角用的微透鏡群。另外，光量上有餘裕的情況下，不設置微透鏡群亦無妨。並且，從LED光源單元1射出的照明光束因第一聚焦透鏡2的作用而變換為平行光束後，照明於蠅眼單元3。為此，LED光源單元1的出射面及蠅眼單元3的入射面分別配置於第一聚焦透鏡2的前側焦平面附近及後側焦平面附近。

蠅眼單元3為作為將光束均勻化的手段的具代表性的積分器。另外，不限於此，使用光桿等的積分器亦無妨。並且，通過蠅眼單元3的光束因第二聚焦透鏡4的作用而變換為平行光束後，照明於曝光狹縫6。為此，蠅眼單元3的出射面及曝光狹縫6的曝光狹縫面5分別配置於第二聚焦透鏡4的前側焦平面附近及後側焦平面附近。

如上所述，在曝光裝置50，採用所謂的科勒照明法的構成，故在蠅眼單元3之上游部(光源側)即使發生變動，為照射面之曝光狹縫面5仍被均勻地照明。並且，曝光狹縫6具有以遮罩M上的照明區域僅成為後續的投影光學系統200的良像域的方式限制光束的功能。

通過曝光狹縫6的光束以因第一遮蔽成像透鏡7、折彎反射鏡8及第二遮蔽成像透鏡9的作用而以既定的倍率被成像的方式聚光於遮罩M上。在曝光裝置50，依以上的構成，使得僅遮罩M上的曝光所需的區域被均勻地且選擇性照明。

圖1B示出曝光裝置50中之投影光學系統200的示意圖。如示於圖1B，曝光裝置50中的投影光學系統200以如用於液晶製造裝置的大型的反射鏡系統而構成。並且，從照明單元100射出，通過遮罩M的光束由梯形鏡Tr、凹面鏡CC1、凸面鏡CV、凹面鏡CC2、且梯形鏡Tr反射共5次。並且，反射的光束到達於平板P上，遮罩M上的圖案成像於平板P上。

此情況下，投影光學系統200的良像域限於光軸外的環帶區域，故曝光狹縫6方面，使用如示於圖1C的具有圓弧狀開口部的遮光板。此外，從遮罩M往平板P的成像倍率包含等倍、放大、縮小中的任一者。

另外，投影光學系統200方面，不限於上述，亦可由如用於半導體製造裝置的多數個透鏡群構成。此外，在曝光裝置50，雖使用由LED元件群所成的LED光源單元1作為光源，惟不限於此，使用由同樣的小型的半導體雷射(LD)群所成的光源單元亦無妨。此外，使用如後述的水銀燈作為光源而將其輸出直接予以變更亦無妨。然而，使用水銀燈作為光源並將燈具輸出變更為短時間的情況下，從其電氣特性、壽命的觀點而言，須留意在實用性方面存在課題。

圖2A為就涉及本實施方式的曝光方法中的第1照射區域80及第2照射區域90進行繪示的俯視圖。此外，圖2B為將涉及本實施方式的曝光方法中的第1照射區域80及第2照射區域90接合而示的俯視圖。另外在此處，照射區域指在曝光裝置50中的1次的掃描曝光被曝光的平板P上的區域。

如示於圖2A及圖2B，第1照射區域80由連接區域80a(第1連接區域)和其以外的非連接區域80b(第1非連接區域)所成。並且，第2照射區域90由連接區域90a(第2連接區域)和其以外的非連接區域90b(第2非連接區域)所成。並且，在平板P上被沿著掃描方向(y方向)排列的第1照射區域80及第2照射區域90以連接區域80a及連接區域90a彼此重疊的方式被接合。

此時，在涉及本實施方式的曝光方法，使非連接區域80b的累積曝光量、非連接區域90b的累積曝光量、及連接區域80a的累積曝光量和連接區域90a的累積曝光量的和彼此相等。藉此，可使在由第1照射區域80及第2照射區域90所成的曝光區域之累積曝光量為均勻。

於此，在如揭露於特開2017-32655號公報的歷來的連接方式，配置於與平板P大致共軛的位置之機械片存在例如在行進中右端行進至比既定的位置前面或相反地左端比既定的位置後退等行進精度低的情況。如此般機械片的移動誤差大的情況下，曝光光的寬的調整誤差變大。亦即以連接區域80a的累積曝光量和連接區域90a的累積曝光量的和與非連接區域80b或90b的累積曝光量不同的方式進行曝光，據此恐引起曝光線寬的異常。

此外，如歷來的連接方式般在與平板P大致共軛的遮罩M的位置、或照明單元100的曝光狹縫面5的位置配置具有行進機構的機械片的情況在設計方面成為大的約束。此原因在於，在如此的位置除曝光遮蔽器以外亦設置二維地設定曝光區域的XY遮蔽機構等。並且，將該等複數個機構集中而配置於曝光裝置內的既定處的情況引起彼此的空間干涉、對於彼此之發熱的影響等的問題，導致曝光裝置整體的性能降低。

此外，連接區域80a及90a的掃描方向上的寬過長時，遮罩台20及平板載台30的掃描距離增加，故生產性恐降低。另一方面，連接區域80a及90a的掃描方向上的寬過短時，取決於處理，容易發生累積曝光量的不均等，像性能恐降低。如此，雖要求使連接區域80a及90a的掃描方向上的寬為可變從而可達到最佳化，惟機械片的機構、設定精度方面存在極限，故在歷來的連接方式下為困難。

此外，在使第1照射區域80及第2照射區域90接合之際，因應於處理亦變得重要。亦即，塗佈於平板P上的感光劑的感光特性為非線形的情況下，以連接區域80a的累積曝光量和連接區域90a的累積曝光量的和相對於非連接區域80b或90b的累積曝光量為不同的方式有意地進行曝光。藉此，在連接區域80a(90a)和非連接區域80b及90b方面有時可使曝光線寬彼此相等。此時，在歷來的連接方式方面，在對連接區域80a及90a進行曝光之際產生變更機械片的行進速度的需要，隨此在行進速度方面發生不均等，據此恐產生累積曝光量的誤差。

另一方面，歷來的曝光裝置的光源方面經常使用水銀燈，惟近年來考量地球環境而期望使用LED光源代替水銀燈從而節能化。 LED從使電流流於控制發光的基板電路至發光輸出穩定為止的時間比水銀燈短，此外無須如水銀燈般常時予以發光，故亦為長壽命。此外，雖每1個LED的發光輸出極為比水銀燈小，惟亦可予以排列複數個LED而使總輸出充分大。

鑒於以上，在涉及本實施方式的曝光方法，可使用如示於以下的連接方式而高精度地將複數個照射區域予以接合。

圖3A及圖3B分別示出涉及本實施方式的曝光方法中的第一掃描曝光的樣子及該情況下的照度(靜止照度)的時間變化。此外，圖3C示出涉及本實施方式的曝光方法的第一掃描曝光及第二掃描曝光分別的累積曝光量分布及其等之合計。

於圖3A～圖3C，P1、P2、…、P15分別表示平板P上的y方向(掃描方向)上的既定的位置，T1、T2、…、T9分別表示在第一掃描曝光的既定的時刻。並且，圖3A中的矩形的影線區域表示由曝光狹縫6決定的平板P上的照明區域S，例如在時刻T1表示平板P上的位置P10至P14被照明。

亦即，圖3A及圖3B示出在涉及本實施方式的曝光方法中的第一掃描曝光隨著時間從時刻T1變化至時刻T9平板P上的照明區域S的照度從100往0降低下去的樣子。更具體而言，在涉及本實施方式的曝光方法中的第一掃描曝光，從時刻T1至時刻T5為止平板P上的照明區域S的照度維持為100後，從時刻T5至時刻T9，線性地從100降低至0(單調變化、單調減少)。

另外在此處，照度亦可指每單位時間、單元面積的曝光量。此外，平板P上的照度被正規化，在比時刻T1之前的時刻，平板P上的照明區域S的照度固定為100，另一方面在比時刻T9之後的時刻，平板P上的照明區域S的照度固定為0。

並且，在涉及本實施方式的曝光方法，第一掃描曝光方面如示於圖3A般對平板P朝＋y方向進行掃描，使得在平板P上的位置P1至P15中的至少一部分的累積曝光量成為彼此不同。

例如，著眼於位置P6時，位置P6在時刻T5進入至因曝光狹縫6而生的照明區域S，在時刻T9從因曝光狹縫6而生的照明區域S退出。因此，在時刻T1至T9分別的位置P6的照度表示為如以下的表1，在時刻T1至時刻T9為止的位置P6的累積曝光量為100＋75＋50＋25＝250。

另一方面，著眼於位置P10時，位置P10在時刻T1位於照明區域S內，在時刻T5從因曝光狹縫6而生的照明區域S退出。因此，在時刻T1至T9分別的位置P10的照度表示為如以上的表1，在時刻T1至時刻T9為止的位置P10的累積曝光量為100＋100＋100＋100＋100＝500。

此外，著眼於位置P2時，雖在時刻T9進入至因曝光狹縫6而生的照明區域S，惟在時刻T9照明區域S的照度衰減至0，故在時刻T1至時刻T9為止的位置P2的累積曝光量為0。

根據上述的要領，於圖3C示出在第一掃描曝光計算在時刻T1至時刻T9為止的位置P1至P15個別的累積曝光量並以變化曲線進行圖示者。另外，於圖3C，亦示出在平板P上的連接區域C。亦即，連接區域C對應於第1照射區域80的連接區域80a及第2照射區域90的連接區域90a。在涉及本實施方式的曝光方法，連接區域C在位置P2和位置P10之間，在連接區域C內的位置，在第一掃描曝光及第二掃描曝光各者中，累積曝光量成為比0大比500小的值。

在涉及本實施方式的曝光方法，為了使連接區域C的累積曝光量為均勻，除示於上述的第一掃描曝光以外，進行如示於以下的第二掃描曝光。

圖4A及圖4B分別示出涉及本實施方式的曝光方法中的第二掃描曝光的樣子及該情況下的照度的時間變化。

圖4A及圖4B中，P1、P2、…、P15分別表示平板P上的y方向(掃描方向)上的既定的位置，T1’、T2’、…、T9’分別表示在第二掃描曝光的既定的時刻。並且，圖4A中的矩形的影線區域表示由曝光狹縫6決定的平板P上的照明區域S，例如在時刻T1’，表示平板P上的位置P1及P2被照明。

亦即，圖4A及圖4B示出在涉及本實施方式的曝光方法的第二掃描曝光隨著時間從時刻T1’變化至時刻T9’平板P上的照明區域S的照度從100往0降低下去的樣子。更具體而言，在涉及本實施方式的曝光方法中的第二掃描曝光，從時刻T1’至時刻T5’為止平板P上的照明區域S的照度維持為100後，從時刻T5’至時刻T9’，線性地從100降低至0。另外在此處，平板P上的照度被正規化，一方面在比時刻T1’之前的時刻平板P上的照明區域S的照度固定為100，另一方面在比時刻T9’之後的時刻平板P上的照明區域S的照度固定為0。

在第二掃描曝光，如示於圖4A，從時刻T1’至時刻T9’就平板P掃描於與第一掃描曝光相反的-y方向。

此時，著眼於位置P6時，位置P6在時刻T5’進入至因曝光狹縫6而生的照明區域S，在時刻T9’從因曝光狹縫6而生的照明區域S退出。因此，在時刻T1’至T9’分別的位置P6的照度表示為如以下的表2，在時刻T1’至時刻T9’為止的位置P6的累積曝光量為100＋75＋50＋25＝250。

另一方面，著眼於位置P10時，雖在時刻T9’進入至因曝光狹縫6而生的照明區域S，惟在時刻T9’照明區域S的照度衰減至0，故在時刻T1’至時刻T9’為止的位置P10的累積曝光量為0。

並且，著眼於位置P2時，位置P2在時刻T1’位於照明區域S內，在時刻T5’從因曝光狹縫6而生的照明區域S退出。因此，在時刻T1’至T9’分別的位置P2的照度表示為如以上的表2，在時刻T1’至時刻T9’為止的位置P2的累積曝光量為100＋100＋100＋100＋100＝500。

根據上述的要領，於圖3C示出在第二掃描曝光計算在時刻T1’至時刻T9’為止的位置P1至P15個別的累積曝光量並以變化曲線進行圖示者。並且，第一掃描曝光及第二掃描曝光個別的累積曝光量的合計亦示於圖3C，可得知在位置P1至P15中的任一者累積曝光量皆為500。

如以上，在涉及本實施方式的曝光方法，根據上述的要領進行一面使平板P移動於掃描方向的第1方向一面進行曝光的第一掃描曝光、和一面使平板P移動於與第一掃描曝光相反方向一面進行曝光的第二掃描曝光的往返2次的掃描曝光。並且，在第一掃描曝光之際，以在連接區域80a通過照明區域S之際的既定時間之照明區域S的照度與在非連接區域80b通過照明區域S之際的照度不同的方式，對第1照射區域80進行曝光。此外，在第二掃描曝光之際，以在重疊於連接區域80a的連接區域90a通過照明區域S之際的既定時間的照度與在非連接區域90b通過照明區域S之際的照度不同的方式，對第2照射區域90進行曝光。作成如此，可在連接區域C和其以外的非連接區域使累積曝光量彼此相等。

另外，在第二掃描曝光，不限於上述，透過一面使照度從0增加至100一面對平板P掃描於與第一掃描曝光相同的＋y方向，亦可獲得同樣的累積曝光量分布。

此外，在涉及本實施方式的曝光方法，在平板P上之照度可透過將設於LED光源單元1內的複數個LED元件中的至少一者以上予以ON/OFF從而變更。此外，不限於此，亦可透過變更設於LED光源單元1內的複數個LED元件中的至少一者以上的電流值從而變更在平板P上之照度。此外，亦可代替LED光源單元1使用具有如雷射二極體(LD)的固態發光元件的光源而變更在平板P上之照度。

此外，在涉及本實施方式的曝光方法，亦可為了將照明單元100簡略化，不使用稱為所謂的臨界照明之蠅眼單元3而在曝光狹縫面5上直接設置LED元件。此情況下，在與曝光狹縫6的開口形狀對應的區域排列複數個LED元件的發光面。例如，設置如示於圖1B的投影光學系統200的情況下，變成在如示於圖1C的曝光狹縫6的圓弧狀開口的開口面設置LED元件群。

此外，在上述的說明，遮罩台20及平板載台30的移動速度(遮罩M及平板P的掃描速度)雖設為一定，惟不限於此，亦可依時間使移動速度(掃描速度)變化。

在歷來的曝光方法，在平板P上之照度不使時間變化而使用行進片等將平板P上的照明區域S的大小(亦即，在圖3A之照明區域S的寬)予以時間變化從而調整連接區域C的累積曝光量。另一方面，在涉及本實施方式的曝光方法，平板P上的照明區域S的寬不予以時間變化而將在平板P上的照度(亦即，在圖3A之照明區域S的高度)予以時間變化從而調整連接區域C的累積曝光量。

如以上，在涉及本實施方式的曝光方法，不需要如設於歷來的曝光裝置的機械片，故不發生機械片的行進性能的誤差導致的累積曝光量的變動，此外其他構件的配置自由度提升。並且，光源方面使用LED光源單元1使得可電氣地控制發光量，藉此可高精度且自如地設定照度。

再者，在涉及本實施方式的曝光方法，可在為積分器之蠅眼單元3之上游部變更發光量，故可跨畫面整體一樣地變更照度。藉此，比起歷來的曝光裝置方面的機械片的驅動誤差導致的對於像性能的影響，亦可使像性能提升。

如以上，在涉及本實施方式的曝光方法，可高精度地將複數個照射區域予以接合同時使用的裝置亦可小型化。

[第二實施方式] 圖5示出使用於涉及第二實施方式的曝光方法的曝光裝置60的示意圖。另外，曝光裝置60除代替LED光源單元1而使用水銀燈單元25同時在水銀燈單元25的焦平面s1的附近設置可變虹膜式光圈VI以外為與曝光裝置50相同的構成。為此，對相同的構件標注相同的編號，省略說明。

在曝光裝置60，從水銀燈單元25射出的照明光束通過可變虹膜式光圈VI(減光構件)後，因第一聚焦透鏡2的作用而變換為平行光束，照明於蠅眼單元3。

此時，縮窄可變虹膜式光圈VI的開口部下去時，通過可變虹膜式光圈VI的光束的光量減少。藉此，照明於蠅眼單元3的光束的光量雖衰減，惟蠅眼單元3具有對曝光狹縫面5均勻地照明的功能，故在維持曝光狹縫面5的照度分布保持均勻之下曝光狹縫面5整體的照度降低。

其結果，可使在遮罩M上之照度降低，進而如同涉及第一實施方式的曝光方法，可使在平板P上之照度降低。

另外，配置可變虹膜式光圈VI之處不限於水銀燈單元25的焦平面s1，在第一聚焦透鏡2的下游側的既定的位置s2亦無妨。在位置s2，光束變寬，故縮小可變虹膜式光圈VI之際的驅動量雖變大，惟另一方面驅動敏感度相應地降低，故能以高精度進行光量的控制。再者，將可變虹膜式光圈VI配置於位置s2時，比起配置於水銀燈單元25的焦平面s1的情況，亦有隨著可變虹膜式光圈VI從水銀燈單元25遠離變得不易受到水銀燈單元25的發熱的影響如此之優點。

再者，配置可變虹膜式光圈VI之處不限於上述的位置，設於比蠅眼單元3上游側即可。此時，透過蠅眼單元3之上述的功能，使得可在維持在曝光狹縫面5之照度的均勻性之下使在平板P上之照度變化。此外，使用於可變虹膜式光圈VI的遮光構件方面，不限於機械片，為塗佈有介電體反射膜的玻璃構件亦無妨。使用如此的玻璃構件的情況下，熱的吸收變小，故耐久性提升。

如以上，在使用於涉及本實施方式的曝光方法的曝光裝置60，在蠅眼單元3之上游部設置具有減光功能的可變虹膜式光圈VI，使得可跨遮罩M上的整體一樣地使照度變化。因此，比起歷來的曝光裝置，可抑制機械片的驅動誤差導致的像性能的降低。

藉此，在涉及本實施方式的曝光方法，亦可高精度地將複數個照射區域予以接合同時使用的裝置亦可小型化。

[第三實施方式] 圖6為示出使用於涉及第三實施方式的曝光方法的曝光裝置70的示意圖。另外，曝光裝置70除代替可變虹膜式光圈VI而使用行進遮蔽器構件RS以外，為與曝光裝置60相同的構成，故對相同的構件標注相同的編號，省略說明。

在曝光裝置70，從水銀燈單元25射出的照明光束通過行進遮蔽器構件RS(減光構件、遮光片)後，因第一聚焦透鏡2的作用而變換為平行光束，照明於蠅眼單元3。

此時，行進遮蔽器構件RS直線移動從而局部地遮蔽照明光束下去，使得通過行進遮蔽器構件RS的光束的光量減少。藉此，照明於蠅眼單元3的光束的光量雖衰減，惟蠅眼單元3具有對曝光狹縫面5均勻地照明的功能，故在維持曝光狹縫面5的照度分布保持均勻之下曝光狹縫面5整體的照度降低。

其結果，可使在遮罩M上之照度降低，進而如同第一及涉及第二實施方式的曝光方法，可使在平板P上之照度降低。

另外，行進遮蔽器構件RS配置於水銀燈單元25的焦平面s1、第一聚焦透鏡2的下游側的既定的位置s2、或蠅眼單元3之上游側的位置皆無妨。此外，使用於行進遮蔽器構件RS的遮光構件方面，不限於機械片，為塗佈有介電體反射膜的玻璃構件亦無妨。使用如此的玻璃構件的情況下，熱的吸收變小，故耐久性提升。

[第四實施方式] 圖7A及圖7B分別示出涉及第四實施方式的曝光方法中的第一掃描曝光的樣子及該情況下的照度的時間變化。此外，圖7C示出涉及第四實施方式的曝光方法的第一掃描曝光及第二掃描曝光分別的累積曝光量分布及其等之合計。另外，使用於涉及本實施方式的曝光方法的曝光裝置為與使用於涉及第一～第三實施方式中的任一者的曝光方法的曝光裝置相同的構成，故對相同的構件標注相同的編號，省略說明。

於圖7A～圖7C，P1、P2、…、P15分別表示平板P上的y方向(掃描方向)上的既定的位置，T1、T2、…、T9分別表示在第一掃描曝光的既定的時刻。並且，圖7A中的矩形的影線區域表示由曝光狹縫6決定的平板P上的照明區域S，例如在時刻T1，表示平板P上的位置P10至P14被照明。

亦即，圖7A及圖7B示出在涉及本實施方式的曝光方法中的第一掃描曝光，隨著時間從時刻T1變化至時刻T9平板P上的照明區域S的照度從100往0降低下去的樣子。更具體而言，在涉及本實施方式的曝光方法中的第一掃描曝光，從時刻T1至時刻T5為止平板P上的照明區域S的照度維持為100後，從時刻T5至時刻T9，非線性地從100降低至0(單調變化、單調減少)。另外在此處，平板P上的照度被正規化，在比時刻T1之前的時刻，一方面平板P上的照明區域S的照度固定為100，另一方面在比時刻T9之後的時刻，平板P上的照明區域S的照度固定為0。

並且，在涉及本實施方式的曝光方法，第一掃描曝光方面如示於圖7A般對平板P朝＋y方向進行掃描，使得在平板P上的位置P1至P15中的至少一部分的累積曝光量成為彼此不同。

例如，著眼於位置P6時，位置P6在時刻T5進入至因曝光狹縫6而生的照明區域S，在時刻T9從因曝光狹縫6而生的照明區域S退出。因此，在時刻T1至T9分別的位置P6的照度表示為如以下的表3，在時刻T1至時刻T9為止的位置P6的累積曝光量為100＋85＋35＋5＝225。

另一方面，著眼於位置P10時，位置P10在時刻T1位於照明區域S內，在時刻T5從因曝光狹縫6而生的照明區域S退出。因此，在時刻T1至T9分別的位置P10的照度表示為如以上的表3，在時刻T1至時刻T9為止的位置P10的累積曝光量為100＋100＋100＋100＋100＝500。

根據上述的要領，在第一掃描曝光計算在時刻T1至時刻T9為止的位置P1至P15個別的累積曝光量，於圖7C示出以變化曲線進行圖示者。另外，於圖7C，亦示出在平板P上的連接區域C。亦即，連接區域C對應於第1照射區域80的連接區域80a及第2照射區域90的連接區域90a。在涉及本實施方式的曝光方法，連接區域C在位置P2和位置P10之間，在連接區域C內的位置，在第一掃描曝光及第二掃描曝光各者中，累積曝光量成為比0大比500小的值。

在涉及本實施方式的曝光方法，除示於上述的第一掃描曝光以外，進行如示於以下的第二掃描曝光。

圖8A及圖8B分別示出涉及本實施方式的曝光方法中的第二掃描曝光的樣子及該情況下的照度的時間變化。

圖8A及圖8B中，P1、P2、…、P15分別表示平板P上的y方向(掃描方向)上的既定的位置，T1’、T2’、…、T9’分別表示在第二掃描曝光的既定的時刻。並且，圖8A中的矩形的影線區域表示由曝光狹縫6決定的平板P上的照明區域S，例如在時刻T1’，表示平板P上的位置P1及P2被照明。

亦即，圖8A及圖8B係在涉及本實施方式的曝光方法的第二掃描曝光，隨著時間從時刻T1’變化至時刻T9’，示出平板P上的照明區域S的照度從100往0降低下去的樣子。更具體而言，在涉及本實施方式的曝光方法中的第二掃描曝光，從時刻T1’至時刻T5’為止平板P上的照明區域S的照度維持為100後，從時刻T5’至時刻T9’，非線性地從100降低至0。另外在此處，平板P上的照度被正規化，在比時刻T1’之前的時刻，一方面平板P上的照明區域S的照度固定為100，另一方面在比時刻T9’之後的時刻，平板P上的照明區域S的照度固定為0。

在第二掃描曝光，如示於圖8A，從時刻T1’至時刻T9’就平板P掃描於與第一掃描曝光相反的-y方向。

此時，著眼於位置P6時，位置P6在時刻T5’進入至因曝光狹縫6而生的照明區域S，在時刻T9’從因曝光狹縫6而生的照明區域S退出。因此，在時刻T1’至T9’分別的位置P6的照度表示為如以下的表4，在時刻T1’至時刻T9’為止的位置P6的累積曝光量為100＋85＋35＋5＝225。

並且，著眼於位置P2時，位置P2在時刻T1’位於照明區域S內，在時刻T5’從因曝光狹縫6而生的照明區域S退出。因此，在時刻T1’至T9’分別的位置P2的照度表示為如以上的表4，在時刻T1’至時刻T9’為止的位置P2的累積曝光量為100＋100＋100＋100＋100＝500。

根據上述的要領，在第二掃描曝光計算在時刻T1’至時刻T9’為止的位置P1至P15個別的累積曝光量，於圖7C示出以變化曲線進行圖示者。並且，第一掃描曝光及第二掃描曝光個別的累積曝光量的合計亦示於圖7C。

在涉及第一～第三實施方式的曝光方法，將平板P上的照度直線狀亦即線性地從100予以減少至0。其結果，第一掃描曝光及第二掃描曝光的往返2次的掃描曝光導致的累積曝光量在連接區域C和其以外的非連接區域彼此相等。

相對於此，在涉及本實施方式的曝光方法，將平板P上的照度曲線狀亦即非線性地從100予以減少至0。例如，在照度變化的期間的時刻T7之平板P上的照明區域S的照度相對於在涉及第一～第三實施方式的曝光方法為50，在涉及本實施方式的曝光方法小為35。

其結果，如示於圖7C，依涉及本實施方式的曝光方法下之連接區域C的累積曝光量比起涉及第一～第三實施方式的曝光方法的情況減少。為此，在涉及本實施方式的曝光方法，連接區域C的累積曝光量比起其以外的非連接區域的累積曝光量變小。

此因以下的理由導致。亦即，在被轉印遮罩M上的圖案的平板P上的感光性抗蝕層，存在具有在被曝光複數次時即使在之後的各曝光中累積曝光量與一次曝光相同仍實際的感光量變大的化學特性者。換言之，在被轉印遮罩M上的圖案的平板P上的感光性抗蝕層，存在具有在被一次曝光時對於之後的曝光之敏感度變大的化學特性者。

在涉及本實施方式的曝光方法，如上述般相對於在連接區域C以外的非連接區域曝光僅進行1次，連接區域C的曝光進行往返2次。為此，使用了如此的感光性抗蝕層的情況下，在連接區域C和其以外的非連接區域，曝光線寬恐彼此變不同。

所以，在涉及本實施方式的曝光方法，如示於圖7C，透過有意地使連接區域C的累積曝光量比非連接區域小，可在連接區域和非連接區域使曝光線寬彼此相等。

另外，在第二掃描曝光，不限於上述，透過一面非線性地使照度從0增加至100一面對平板P掃描於與第一掃描曝光相同的＋y方向，亦可獲得同樣的累積曝光量分布。

如以上，在涉及本實施方式的曝光方法，亦可高精度地將複數個照射區域予以接合同時使用的裝置亦可小型化。

[第五實施方式] 圖9A及圖9B分別示出涉及第五實施方式的曝光方法中的第一掃描曝光的樣子及該情況下的照度的時間變化。此外，圖9C示出涉及第五實施方式的曝光方法的第一掃描曝光及第二掃描曝光分別的累積曝光量分布及其等之合計。另外，使用於涉及本實施方式的曝光方法的曝光裝置為與使用於涉及第一～第三實施方式中的任一者的曝光方法的曝光裝置相同的構成，故對相同的構件標注相同的編號，省略說明。

於圖9A～圖9C，P1、P2、…、P15分別表示平板P上的y方向(掃描方向)上的既定的位置，T1、T2、…、T9分別表示在第一掃描曝光的既定的時刻。並且，圖9A中的矩形的影線區域表示由曝光狹縫6決定的平板P上的照明區域S，例如在時刻T1，表示平板P上的位置P10至P14被照明。

亦即，圖9A及圖9B示出在涉及本實施方式的曝光方法中的第一掃描曝光隨著時間從時刻T1變化至時刻T9平板P上的照明區域S的照度從100往0降低下去的樣子。更具體而言，在涉及本實施方式的曝光方法中的第一掃描曝光，從時刻T1至時刻T5為止平板P上的照明區域S的照度維持為100後，從時刻T5至時刻T9，非線性地從100降低至0(單調變化、單調減少)。另外在此處，平板P上的照度被正規化，在比時刻T1之前的時刻，一方面平板P上的照明區域S的照度固定為100，另一方面在比時刻T9之後的時刻，平板P上的照明區域S的照度固定為0。

並且，在涉及本實施方式的曝光方法，第一掃描曝光方面如示於圖9A般對平板P朝＋y方向進行掃描，使得在平板P上的位置P1至P15各者的累積曝光量成為彼此不同。

例如，著眼於位置P6時，位置P6在時刻T5進入至因曝光狹縫6而生的照明區域S，在時刻T9從因曝光狹縫6而生的照明區域S退出。因此，在時刻T1至T9分別的位置P6的照度表示為如以下的表5，在時刻T1至時刻T9為止的位置P6的累積曝光量為100＋95＋60＋20＝275。

另一方面，著眼於位置P10時，位置P10在時刻T1位於照明區域S內，在時刻T5從因曝光狹縫6而生的照明區域S退出。因此，在時刻T1至T9分別的位置P10的照度表示為如以上的表5，在時刻T1至時刻T9為止的位置P10的累積曝光量為100＋100＋100＋100＋100＝500。

根據上述的要領，在第一掃描曝光計算在時刻T1至時刻T9為止的位置P1至P15個別的累積曝光量，於圖9C示出以變化曲線進行圖示者。另外，於圖9C，亦示出在平板P上的連接區域C。亦即，連接區域C對應於第1照射區域80的連接區域80a及第2照射區域90的連接區域90a。在涉及本實施方式的曝光方法，連接區域C在位置P2和位置P10之間，在連接區域C內的位置，在第一掃描曝光及第二掃描曝光各者中，累積曝光量成為比0大比500小的值。

圖10A及圖10B分別示出涉及本實施方式的曝光方法中的第二掃描曝光的樣子及該情況下的照度的時間變化。

圖10A及圖10B中，P1、P2、…、P15分別表示平板P上的y方向(掃描方向)上的既定的位置，T1’、T2’、…、T9’分別表示在第二掃描曝光的既定的時刻。並且，圖10A中的矩形的影線區域表示由曝光狹縫6決定的平板P上的照明區域S，例如在時刻T1’表示平板P上的位置P1及P2被照明。

亦即，圖10A及圖10B示出在涉及本實施方式的曝光方法的第二掃描曝光，隨著時間從時刻T1’變化至時刻T9’平板P上的照明區域S的照度從100往0降低下去的樣子。更具體而言，在涉及本實施方式的曝光方法中的第二掃描曝光，從時刻T1’至時刻T5’為止平板P上的照明區域S的照度維持為100後，從時刻T5’至時刻T9’，非線性地從100降低至0。另外在此處，平板P上的照度被正規化，在比時刻T1’之前的時刻，一方面平板P上的照明區域S的照度固定為100，另一方面在比時刻T9’之後的時刻，平板P上的照明區域S的照度固定為0。

在第二掃描曝光，如示於圖10A，從時刻T1’至時刻T9’就平板P掃描於與第一掃描曝光相反的-y方向。

此時，著眼於位置P6時，位置P6在時刻T5’進入至因曝光狹縫6而生的照明區域S，在時刻T9’從因曝光狹縫6而生的照明區域S退出。因此，在時刻T1’至T9’分別的位置P6的照度表示為如以下的表6，在時刻T1’至時刻T9’為止的位置P6的累積曝光量為100＋95＋60＋20＝275。

並且，著眼於位置P2時，位置P2在時刻T1’位於照明區域S內，在時刻T5’從因曝光狹縫6而生的照明區域S退出。因此，在時刻T1’至T9’分別的位置P2的照度表示為如以上的表6，在時刻T1’至時刻T9’為止的位置P2的累積曝光量為100＋100＋100＋100＋100＝500。

根據上述的要領，在第二掃描曝光計算在時刻T1’至時刻T9’為止的位置P1至P15個別的累積曝光量，於圖9C示出以變化曲線進行圖示者。並且，第一掃描曝光及第二掃描曝光個別的累積曝光量的合計亦示於圖9C。

相對於此，在涉及本實施方式的曝光方法，將平板P上的照度曲線狀亦即非線性地從100予以減少至0。例如，在照度變化的期間的時刻T7之平板P上的照明區域S的照度相對於在涉及第一～第三實施方式的曝光方法為50，在涉及本實施方式的曝光方法大為60。

其結果，如示於圖9C，依涉及本實施方式的曝光方法下之連接區域C的累積曝光量比起涉及第一～第三實施方式的曝光方法的情況增加。為此，在涉及本實施方式的曝光方法，連接區域C的累積曝光量比起其以外的非連接區域的累積曝光量變大。

此因以下的理由導致。亦即，在被轉印遮罩M上的圖案的平板P上的感光性抗蝕層，存在具有被曝光複數次時即使在之後的各曝光中累積曝光量與一次曝光相同仍實際的感光量變小的化學特性者。換言之，在被轉印遮罩M上的圖案的平板P上的感光性抗蝕層，存在具有被一次曝光時對於之後的曝光之敏感度變小的化學特性者。

所以，在涉及本實施方式的曝光方法，如示於圖9C，透過有意地使連接區域C的累積曝光量比非連接區域大，可在連接區域和非連接區域使曝光線寬彼此相等。

[第六實施方式] 圖11A及圖11B分別示出涉及第六實施方式的曝光方法中的第一掃描曝光的樣子及該情況下的照度的時間變化。此外，圖11C示出涉及第六實施方式的曝光方法的第一掃描曝光及第二掃描曝光分別的累積曝光量分布及其等之合計。另外，使用於涉及本實施方式的曝光方法的曝光裝置為與使用於涉及第一～第三實施方式中的任一者的曝光方法的曝光裝置相同的構成，故對相同的構件標注相同的編號，省略說明。

於圖11A～圖11C，P1、P2、…、P15分別表示平板P上的y方向(掃描方向)上的既定的位置，T1、T2、…、T9分別表示在第一掃描曝光的既定的時刻。並且，圖11A中的矩形的影線區域表示由曝光狹縫6決定的平板P上的照明區域S，例如在時刻T1表示平板P上的位置P10至P14被照明。

亦即，圖11A及圖11B示出在涉及本實施方式的曝光方法中的第一掃描曝光隨著時間從時刻T1變化至時刻T9平板P上的照明區域S的照度從100往0降低下去的樣子。更具體而言，在涉及本實施方式的曝光方法中的第一掃描曝光，從時刻T1至時刻T6為止平板P上的照明區域S的照度維持為100後，從時刻T6至時刻T8，線性地從100降低至0(單調變化、單調減少)。另外在此處，平板P上的照度被正規化，在比時刻T1之前的時刻，一方面平板P上的照明區域S的照度固定為100，另一方面在比時刻T8之後的時刻，平板P上的照明區域S的照度固定為0。

並且，在涉及本實施方式的曝光方法，第一掃描曝光方面如示於圖11A般對平板P朝＋y方向進行掃描，使得在平板P上的位置P1至P15中的至少一部分的累積曝光量成為彼此不同。

例如，著眼於位置P6時，位置P6在時刻T5進入至因曝光狹縫6而生的照明區域S，在時刻T9從因曝光狹縫6而生的照明區域S退出。因此，在時刻T1至T9分別的位置P6的照度表示為如以下的表7，在時刻T1至時刻T9為止的位置P6的累積曝光量為100＋100＋50＝250。

另一方面，著眼於位置P10時，位置P10在時刻T1位於照明區域S內，在時刻T5從因曝光狹縫6而生的照明區域S退出。因此，在時刻T1至T9分別的位置P10的照度表示為如以上的表7，在時刻T1至時刻T9為止的位置P10的累積曝光量為100＋100＋100＋100＋100＝500。

根據上述的要領，在第一掃描曝光計算在時刻T1至時刻T9為止的位置P1至P15個別的累積曝光量，於圖11C示出以變化曲線進行圖示者。另外，於圖11C，亦示出在平板P上的連接區域C。亦即，連接區域C對應於第1照射區域80的連接區域80a及第2照射區域90的連接區域90a。在涉及本實施方式的曝光方法，連接區域C為位置P3和位置P9之間，在連接區域C內的位置，在第一掃描曝光及第二掃描曝光各者中，累積曝光量成為比0大比500小的值。

圖12A及圖12B分別示出涉及本實施方式的曝光方法中的第二掃描曝光的樣子及該情況下的照度的時間變化。

圖12A及圖12B中，P1、P2、…、P15分別表示平板P上的y方向(掃描方向)上的既定的位置，T1’、T2’、…、T9’分別表示在第二掃描曝光的既定的時刻。並且，圖12A中的矩形的影線區域表示由曝光狹縫6決定的平板P上的照明區域S，例如在時刻T1’，表示平板P上的位置P1及P2被照明。

亦即，圖12A及圖12B示出在涉及本實施方式的曝光方法的第二掃描曝光隨著時間從時刻T1’變化至時刻T9’平板P上的照明區域S的照度從100往0降低下去的樣子。更具體而言，在涉及本實施方式的曝光方法中的第二掃描曝光，從時刻T1’至時刻T6’為止平板P上的照明區域S的照度維持為100後，從時刻T6’至時刻T8’，線性地從100降低至0。另外在此處，平板P上的照度被正規化，在比時刻T1’之前的時刻，一方面平板P上的照明區域S的照度固定為100，另一方面在比時刻T8’之後的時刻，平板P上的照明區域S的照度固定為0。

在第二掃描曝光，如示於圖12A，從時刻T1’至時刻T9’就平板P掃描於與第一掃描曝光相反的-y方向。

此時，著眼於位置P6時，位置P6在時刻T5’進入至因曝光狹縫6而生的照明區域S，在時刻T9’從因曝光狹縫6而生的照明區域S退出。因此，在時刻T1’至T9’分別的位置P6的照度表示為如以下的表8，在時刻T1’至時刻T9’為止的位置P6的累積曝光量為100＋100＋50＝250。

並且，著眼於位置P2時，位置P2在時刻T1’位於照明區域S內，在時刻T5’從因曝光狹縫6而生的照明區域S退出。因此，在時刻T1’至T9’分別的位置P2的照度表示為如以上的表8，在時刻T1’至時刻T9’為止的位置P2的累積曝光量為100＋100＋100＋100＋100＝500。

根據上述的要領，在第二掃描曝光計算在時刻T1’至時刻T9’為止的位置P1至P15個別的累積曝光量，於圖11C示出以變化曲線進行圖示者。並且，第一掃描曝光及第二掃描曝光個別的累積曝光量的合計亦示於圖11C。

在涉及第一～第三實施方式的曝光方法中的第一掃描曝光，從時刻T1至時刻T5為止平板P上的照明區域S的照度維持為100後，從時刻T5至時刻T9，予以從100降低至0。其結果，在涉及第一～第三實施方式的曝光方法，需要在掃描方向上將平板P上的位置P2和位置P10之間的區域設為連接區域C。

相對於此，在涉及本實施方式的曝光方法中的第一掃描曝光，從時刻T1至時刻T6為止平板P上的照明區域S的照度維持為100後，從時刻T6至時刻T8，予以從100降低至0。為此，在涉及本實施方式的曝光方法，在掃描方向上將平板P上的位置P3和位置P9之間的區域設為連接區域C即可。

如此，在涉及本實施方式的曝光方法，可縮短連接區域C的大小，具體而言可縮短掃描方向上的連接寬。

當然在涉及本實施方式的曝光方法，亦可增加連接區域C的掃描方向上的連接寬，亦即可依期望而變更。

例如，在涉及本實施方式的曝光方法，為了將在掃描曝光時發生的載台的移動誤差等的影響平均化而減低，可增加連接寬。另一方面，在涉及本實施方式的曝光方法，為了縮短連接所需的曝光時間而縮短連接寬，從而亦可縮短載台行進的整體距離。藉此，可縮短連接曝光時的平板的處理時間(產距)，可實現製程的效率化，亦即可實現高產量化。

如以上，在涉及本實施方式的曝光方法，可變更從使照度減少的程序的開始至結束為止的所需時間從而變更連接區域C的寬。藉此，可高精度地將複數個照射區域予以接合同時使用的裝置亦可小型化。

以上，雖就優選實施方式進行說明，惟當然不限定於此等實施方式，在其要旨的範圍內可進行各種的變形及變更。

依本發明時，可提供高精度地將複數個照射區域予以接合同時使用的裝置亦可小型化的曝光方法。

[物品之製造方法] 接著，就使用了涉及第一～第六實施方式中的任一者的曝光方法之物品的製造方法進行說明。

物品為半導體裝置、顯示裝置、彩色濾光片、光學零件、MEMS等。例如，半導體裝置歷經為了在平板製作電路圖案的前程序、和包含為了將在前程序製作的電路晶片予以完成為製品的加工程序的後程序從而被製造。前程序包含對使用涉及第一～第六實施方式中的任一者的曝光方法而塗佈了感光劑的平板進行曝光的曝光程序、和對感光劑進行顯影的顯影程序。將被顯影的感光劑的圖案作為遮罩進行蝕刻程序、離子注入程序等，在平板上形成電路圖案。重複此等曝光、顯影、蝕刻等的程序而在平板上形成由複數個層所成的電路圖案。在後程序，對形成有電路圖案的平板進行切割，進行晶片的安裝、接合、檢查程序。

顯示裝置歷經形成透明電極的程序從而被製造。形成透明電極的程序包含在被蒸鍍透明導電膜的玻璃板塗佈感光劑的程序、對使用涉及第一～第六實施方式中的任一者的曝光方法而塗佈了感光劑的玻璃板進行曝光的程序、和將被曝光的感光劑進行顯影的程序。

依涉及本實施方式的物品的製造方法時，可製造比歷來高品質且高生產率的物品。

1:LED光源單元 2:第一聚焦透鏡 3:蠅眼單元 4:第二聚焦透鏡 5:曝光狹縫面 6:曝光狹縫 7:第一遮蔽成像透鏡 8:折彎反射鏡 9:第二遮蔽成像透鏡 10:光圈 20:遮罩台 25:水銀燈單元 30:平板載台 40:控制部 50:曝光裝置 60:曝光裝置 70:曝光裝置 80:第1照射區域 80a:連接區域 80b:非連接區域 90:第2照射區域 90a:連接區域 90b:非連接區域 100:照明單元 200:投影光學系統 CC1:凹面鏡 CC2:凹面鏡 CV:凸面鏡 M:遮罩 P:平板 RS:行進遮蔽器構件 s1:焦平面 s2:下游側的既定的位置 sm:方向 sp:方向 Tr:梯形鏡 VI:可變虹膜式光圈

[圖1A]使用於涉及第一實施方式的曝光方法之曝光裝置的示意圖。 [圖1B]在使用於涉及第一實施方式的曝光方法之曝光裝置中的投影光學系統的示意圖。 [圖1C]在使用於涉及第一實施方式的曝光方法之曝光裝置中的曝光狹縫的示意圖。 [圖2A]涉及第一實施方式的曝光方法中的第1照射區域及第2照射區域的俯視圖。 [圖2B]將涉及第一實施方式的曝光方法中的第1照射區域及第2照射區域接合而示的俯視圖。 [圖3A]就涉及第一實施方式的曝光方法中的第一掃描曝光的樣子進行繪示的圖。 [圖3B]就涉及第一實施方式的曝光方法中的第一掃描曝光之際的照度的時間變化進行繪示的圖。 [圖3C]就涉及第一實施方式的曝光方法中的第一掃描曝光及第二掃描曝光各者中的累積曝光量分布及其等之合計進行繪示的圖。 [圖4A]就涉及第一實施方式的曝光方法中的第二掃描曝光的樣子進行繪示的圖。 [圖4B]就涉及第一實施方式的曝光方法中的第二掃描曝光之際的照度的時間變化進行繪示的圖。 [圖5]使用於涉及第二實施方式的曝光方法之曝光裝置的示意圖。 [圖6]使用於涉及第三實施方式的曝光方法之曝光裝置的示意圖。 [圖7A]就涉及第四實施方式的曝光方法中的第一掃描曝光的樣子進行繪示的圖。 [圖7B]就涉及第四實施方式的曝光方法中的第一掃描曝光之際的照度的時間變化進行繪示的圖。 [圖7C]就涉及第四實施方式的曝光方法中的第一掃描曝光及第二掃描曝光各者中的累積曝光量分布及其等之合計進行繪示的圖。 [圖8A]就涉及第四實施方式的曝光方法中的第二掃描曝光的樣子進行繪示的圖。 [圖8B]就涉及第四實施方式的曝光方法中的第二掃描曝光之際的照度的時間變化進行繪示的圖。 [圖9A]就涉及第五實施方式的曝光方法中的第一掃描曝光的樣子進行繪示的圖。 [圖9B]就涉及第五實施方式的曝光方法中的第一掃描曝光之際的照度的時間變化進行繪示的圖。 [圖9C]就涉及第五實施方式的曝光方法中的第一掃描曝光及第二掃描曝光各者中的累積曝光量分布及其等之合計進行繪示的圖。 [圖10A]就涉及第五實施方式的曝光方法中的第二掃描曝光的樣子進行繪示的圖。 [圖10B]就涉及第五實施方式的曝光方法中的第二掃描曝光之際的照度的時間變化進行繪示的圖。 [圖11A]就涉及第六實施方式的曝光方法中的第一掃描曝光的樣子進行繪示的圖。 [圖11B]就涉及第六實施方式的曝光方法中的第一掃描曝光之際的照度的時間變化進行繪示的圖。 [圖11C]就涉及第六實施方式的曝光方法中的第一掃描曝光及第二掃描曝光各者中的累積曝光量分布及其等之合計進行繪示的圖。 [圖12A]就涉及第六實施方式的曝光方法中的第二掃描曝光的樣子進行繪示的圖。 [圖12B]就涉及第六實施方式的曝光方法中的第二掃描曝光之際的照度的時間變化進行繪示的圖。

Claims

一種曝光方法，其為以一面對原版及基板進行掃描於掃描方向一面將描繪於前述原版的圖案轉印於前述基板的方式對前述基板進行曝光者，其包含：以在前述基板上的第1照射區域包含的第1連接區域通過照明區域之際的既定時間中的該照明區域的照度與在前述第1照射區域包含的第1非連接區域通過前述照明區域之際的前述照度不同的方式對前述第1照射區域進行曝光的程序；以在為相對於前述第1照射區域排列於前述掃描方向的第2照射區域包含同時與前述第1連接區域重疊的第2連接區域通過前述照明區域之際的既定時間中的前述照度與在前述第2照射區域包含的第2非連接區域通過前述照明區域之際的前述照度不同的方式，對前述第2照射區域進行曝光的程序。
如請求項1的曝光方法，其中，對前述第1照射區域進行曝光的程序包含在使前述基板移動於前述掃描方向的第1方向同時前述第1連接區域通過前述照明區域之際使前述照度單調變化的程序，對前述第2照射區域進行曝光的程序包含在使前述基板移動於與前述第1方向相反方向同時前述第2連接區域通過前述照明區域之際使前述照度單調變化的程序。
如請求項2的曝光方法，其中，前述使照度單調變化的程序包含使前述照度線性地單調減少的程序。
如請求項3的曝光方法，其中，前述第1非連接區域及前述第2非連接區域個別的累積曝光量和前述第1連接區域及前述第2連接區域個別的累積曝光量的和彼此相等。
如請求項2的曝光方法，其中，前述使照度單調變化的程序包含使前述照度非線性地單調減少的程序。
如請求項5的曝光方法，其中，前述第1非連接區域及前述第2非連接區域個別的累積曝光量和前述第1連接區域及前述第2連接區域個別的累積曝光量的和彼此不同。
如請求項2的曝光方法，其中，可變更從使前述照度單調變化的程序的開始至結束為止的所需時間。
如請求項1的曝光方法，其中，可變更前述第1連接區域及前述第2連接區域的前述掃描方向上的寬。
如請求項1的曝光方法，其中，對前述第1照射區域進行曝光的程序包含在前述第1連接區域通過前述照明區域之際使光源的發光量變化的程序，對前述第2照射區域進行曝光的程序包含在前述第2連接區域通過前述照明區域之際使前述光源的發光量變化的程序。
如請求項9的曝光方法，其中，前述光源具備複數個固態發光元件。
如請求項10的曝光方法，其中，使前述光源的發光量變化的程序包含變更前述複數個固態發光元件之中的至少一部分的固態發光元件的發光量的程序。
如請求項10的曝光方法，其中，使前述光源的發光量變化的程序包含不使前述複數個固態發光元件之中的至少一部分的固態發光元件發光的程序。
如請求項1的曝光方法，其中，對前述第1照射區域進行曝光的程序包含在前述第1連接區域通過前述照明區域之際將設於光源和積分器之間的減光構件進行驅動的程序，對前述第2照射區域進行曝光的程序包含在前述第2連接區域通過前述照明區域之際將前述減光構件進行驅動的程序。
如請求項13的曝光方法，其中，前述減光構件為虹膜式光圈。
如請求項13的曝光方法，其中，前述減光構件為遮光片直線移動的光圈。
一種物品之製造方法，其具有：透過如請求項1至15中任一項的曝光方法對前述基板進行曝光的程序、對曝光後的前述基板進行顯影的程序、和將顯影後的前述基板進行加工而獲得物品的程序。
一種曝光裝置，其為以一面對原版及基板進行掃描於掃描方向一面將描繪於前述原版的圖案轉印於前述基板的方式對前述基板進行曝光者，其具備：照明單元，其對照明區域進行照明；原版載台，其使載置的前述原版移動；基板載台，其使載置的前述基板移動；和控制部，其以在對沿著前述基板上的前述掃描方向而排列的第1照射區域及第2照射區域進行曝光之際，在前述第1照射區域包含的第1連接區域通過前述照明區域之際的既定時間中的前述照明區域的照度與在前述第1照射區域包含的第1非連接區域通過前述照明區域之際的前述照度不同，且在為前述第2照射區域包含同時與前述第1連接區域重疊的第2連接區域通過前述照明區域之際的既定時間中的前述照度與在前述第2照射區域包含的第2非連接區域通過前述照明區域之際的前述照度不同的方式，控制前述照明單元、前述原版載台及前述基板載台。