JP2007073136A - 磁気記録媒体及び磁気記録再生装置 - Google Patents
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- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 25
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 24
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims abstract description 24
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 23
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 21
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 6
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 6
- 229910000929 Ru alloy Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 22
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 52
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 14
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 12
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 8
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 5
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 4
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 4
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 3
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 3
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019236 CoFeB Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001029 Hf alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005374 Kerr effect Effects 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N N-[2-oxo-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CCNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005354 aluminosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 238000005280 amorphization Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 1
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
【解決手段】 本発明は、非磁性基板上に、少なくとも裏打ち層と下地膜と中間膜と垂直磁気記録膜を有する垂直磁気記録媒体において、前記裏打ち層を構成する軟磁性膜の飽和磁束密度Bsが1.4(T)以上であるCoFeHf合金からなり、かつ前記下地膜がNi合金またはNiFe合金からなることを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
さらには、外磁場耐性、繰り返し信号記録した際にある一定離れたトラックの信号が消去される現象(WATE、Wide−Area−Track−Erasure)を抑制するためにAFC(Anti−Ferro−Coupling)結合を構成した際、AFC結合する2層の軟磁性膜の結合力が弱いために、十分な耐性を持つことができない。FeCoBなどFeが主成分となる材料では、十分な飽和磁界とそれに伴い外磁場耐性およびWATE耐性を持つことができるが、高温高湿下でのFeの腐食が発生するという問題が生じる。
(1)本発明の磁気記録媒体は、非磁性基板上に、少なくとも裏打ち層と下地膜と中間膜と垂直磁気記録膜を有する垂直磁気記録媒体において、前記裏打ち層を構成する軟磁性膜の飽和磁束密度Bsが1.4(T)以上であるCoFeHf合金からなり、かつ前記下地膜がNi合金またはNiFe合金からなることを特徴とする。
(2)本発明の磁気記録媒体は、前記軟磁性膜のHf含有量が1at%以上、12at%以下であることを特徴とする。
(3)本発明の磁気記録媒体は、前記軟磁性膜のHf含有量が2at%以上、8at%以下であることを特徴とする。
(4)本発明の磁気記録媒体は、前記軟磁性膜がさらにTa、Nbのうち少なくともいずれかを含むことを特徴とする。
(5)本発明の磁気記録媒体は、前記軟磁性膜がさらにAl、Ni、Crのうち少なくともいずれかを含むことを特徴とする。
(6)本発明の磁気記録媒体は、前記裏打ち層は2層の軟磁性膜とその間に形成された非磁性中間層から構成され、2層の軟磁性膜がAFC(Anti−Ferro−Coupling)結合していることを特徴とする。
(7)本発明の磁気記録媒体は、前記中間膜または前記非磁性中間層が、RuまたはRu合金からなることを特徴とする。
(9)本発明の磁気記録媒体は、下地膜であるNi合金またはNiFe合金の飽和磁束密度が0.4(T)以上であることを特徴とする。
(10)本発明の磁気記録媒体は、前記軟磁性膜が非結晶質構造であることを特徴とする。
(11)本発明の磁気記録媒体は、前記軟磁性膜のFeの含有量が5at%以上、40at%以下であることを特徴とする。
(12)本発明の磁気記録媒体は、前記裏打ち層の膜厚が20nm以上、80nm以下であることを特徴とする。
(13)本発明の磁気記録媒体は、前記中間膜の厚さが16nm以下であることを特徴とする。
(14)本発明の磁気記録媒体は、前記軟磁性膜がCoFeHfTaAlまたはCoFeHfNbAlの何れかであることを特徴とする。
(15)本発明の磁気記録再生装置は、磁気記録媒体と、該磁気記録媒体に情報を記録再生する磁気ヘッドとを備えた磁気記録再生装置であって、前記磁気ヘッドが単磁極ヘッドであり、前記磁気記録媒体が、先の何れか1項に記載の磁気記録媒体であることを特徴とする。
ここに示されている磁気記録媒体Aは、非磁性基板1上に、第1軟磁性膜2と、Ruからなる非磁性中間層3と、第2軟磁性膜4とを具備してなる裏打ち層aを備え、さらに下地膜5と、中間膜6と、垂直磁気記録膜7と、保護膜8と潤滑膜9とが順次形成された構成となっている。
本実施の形態においてガラス基板として適用できるのは、アモルファスガラス、結晶化ガラスがあり、アモルファスガラスとしては汎用のソーダライムガラス、アルミノシリケートガラスを使用できる。また、結晶化ガラスとしては、リチウム系結晶化ガラスを用いることができる。
また、非磁性基板1の表面の微小うねり(Wa)が0.3nm以下(より好ましくは0.25nm以下)であるのが磁気ヘッドを低浮上させた高記録密度記録に適している点から好ましい。
軟磁性膜2、4においてHfの添加量は、1at%以上、12at%以下(好ましくは2at%以上、8at%以下)であることが好ましい。軟磁性膜2、4においてHfの添加量が1at%未満の場合はNiFeの配向が不十分となり、優れた記録再生特性を得ることができないので好ましくない。逆に、Hfの添加量が12at%を超えると飽和磁束密度Bsが低下するために好ましくない。
前記軟磁性膜2、4を構成するCoFeHfに対するTa、Nbの添加量は、7at%以下であることが好ましい。7at%を超えて添加すると、飽和磁束密度Bsが低下するために好ましくない。また、Hf、Ta、Nbの総量は15at%(好ましくは12at%以下、さらに好ましくは10at%以下)であることが好ましい。
前記軟磁性膜2、4のFeの含有量は5at%以上40at%以下であることが好ましい。Feの含有量が5at%未満であると、飽和磁束密度Bsが低く好ましくない。Feの含有量が40at%を超えると腐食性が悪化するために好ましくない。
前記裏打ち層aを構成する2層の軟磁性膜2、4のAFC結合の大きさを示す指標である、Hbiasは80(Oe)以上であることが好ましい。
このHbiasについて図2を用いて以下に説明する。
裏打ち層aの基板面内成分(裏打ち層を形成する軟磁性膜2、4の磁化容易軸方向)のMHループを図2に示す。飽和磁束密度をMsとして、飽和磁束密度Msの半分であるMs/2である磁界をHbiasと定義する。軟磁性膜2、4として上記材料を用いて、2層の軟磁性膜の間に設けたRuの非磁性中間層3の厚さを所定の厚さ(0.6〜0.8nm)とすることで80(Oe)以上のHbiasを得ることできる。これによって、外磁場耐性およびWATE耐性を高めることが可能となる。
前記軟磁性膜2、4の形成方法としては、スパッタリング法を用いることができる。
裏打ち層aを構成する軟磁性膜2、4を形成する際に、基板の半径方向に磁界を与えた状態で成膜することが好ましい。
下地膜5を構成するNi合金またはNiFe合金の飽和磁束密度Bsは、0.4(T)以上であることが好ましい。0.4(T)未満であると、書き込みの際に裏打ち層の一部としての働きが弱くなり、記録再生特性の悪化をもたらすため好ましくない。
下地膜5の膜厚は、1(nm)以上、10(nm)以下であることが好ましい。下地膜5が1(nm)未満であると、下地膜5としての効果が不十分となり、粒径の微細化の効果を得ることができず、また配向も悪化するので好ましくない。また、下地膜5の厚さが10(nm)を超えると、結晶サイズが大きくなるために好ましくない。
中間膜6の厚さは16nm以下(好ましくは12nm以下)であることが好ましい。この厚さは、軟磁性膜2、4にCoFeHf合金、下地膜5に所定の組成のNi合金またはNiFe合金を用いることで可能となる。中間膜6を薄くすることで、磁気ヘッドと裏打ち層aとの距離が小さくなり、磁束を急峻にすることができる。その結果、従来と同等の磁束で良いならば、軟磁性膜2、4の厚さをさらに薄くすることができ、生産性を向上することが可能となる。
垂直磁気記録膜7を構成する酸化物としては、SiO2、SiO、Cr2O3、CoO、Ta2O3、TiO2を挙げることができる。酸化物の体積率は15〜40体積%であることが好ましい。酸化物の体積率が15体積%未満であると、SNR特性が不十分となるため好ましくない。酸化物の体積率が40体積%を超えると、高記録密度に対応するだけの保磁力を得ることができないため好ましくない。
前記垂直磁気記録膜7のニュークリエーション磁界(−Hn)は2.0(kOe)以上であることが好ましい。−Hnが2.0(kOe)未満であると、熱揺らぎが発生するので好ましくない。
垂直磁気記録膜7の厚さは6〜20nmであることが好ましい。酸化物グラニュラー層として見た場合の垂直磁気記録膜7の厚さがこの範囲であると、十分な出力を確保することができ、OW(オーバーライト)特性の悪化が生じないために好ましい。
垂直磁気記録膜7は、単層構造とすることもできるし、組成の異なる材料からなる2層以上の構造とすることもできる。
潤滑膜9には従来公知の材料、例えばパーフルオロポリエーテル、フッ素化アルコール、フッ素化カルボン酸などを用いるのが好ましい。
ここに示す磁気記録再生装置12は、磁気記録媒体10と、磁気記録媒体10を回転駆動させる媒体駆動部13と、磁気記録媒体10に情報を記録再生する磁気ヘッド14と、ヘッド駆動部15と、記録再生信号処理系16とを備えている。記録再生信号処理系16は、入力されたデータを処理して記録信号を磁気ヘッド14に送ったり、磁気ヘッド14からの再生信号を処理してデータを出力することができるようになっている。
(実施例1:サンプル1)
ガラス基板(MYG社製アモルファス基板MEL3、直径2.5インチ)をDCマグネトロンスパッタ装置(アネルバ社製C−3010)の成膜チャンバ内に収容して、到達真空度1×10−5Paとなるまで成膜チャンバ内を排気した。この基板上に第1の軟磁性膜として69Co−20Fe−5Hf−4Ta−2Al(Co含有量69at%、Fe含有量20at%、Hf含有量5at%、Ta含有量4at%、Al含有量2at%)の組成の膜を厚さ30nmになるように形成し、次いで非磁性中間層としてRuの膜を厚さ0.8nm形成し、次いで第2の軟磁性膜として69Co−20Fe−5Hf−4Ta−2Alの組成の膜を厚さ30nm成膜して裏打ち層を形成した。
得られた軟磁性膜の結晶構造がアモルファス構造であることをXRDで確認した。
次いで、CVD法により厚さ4nmの保護膜を形成した。
次いで、ディッピング法によりパーフルオロポリエーテルからなる潤滑膜を形成し、垂直磁気記録媒体を得た。
前記実施例1で形成した各膜のうち、軟磁性膜の材料をCoZrNb、CoTaZr、CoFeBとしたこと以外は実施例1に準じて磁気記録媒体を作製した。
(比較例4、5)
前記実施例1で形成した各膜のうち、下地膜の材料にTa、Ptを用いたこと以外は実施例1に準じて磁気記録媒体を作製した。
記録再生特性の評価には、書き込みをシングルポール磁極、再生部にGMR素子を用いた磁気ヘッドを用いて、記録周波数条件を線記録密度1000kFCIとして測定した。 上書き特性(OW)特性の評価には、500kFCIの信号を書いた上に67kFCIの信号を書いたあとの、最初の信号の残りを測定することで評価した。評価結果を以下の表1に示す。
また、サンプル1は比較例3−4に比較して保持力(Hc)が増大しており、SNRが上回ること、さらに上書き(OW)特性が優れており、記録信号の幅が優れていることが確認できた。また、軟磁性材料であるNiFe合金の下地膜を用いることで、下地であるNiFe合金が軟磁性膜の役割を果たすことで、磁気ヘッドと裏打ち層の距離が小さくなっていることがわかった。更に、NiFe合金の下地膜を用いたサンプル1の試料と、TaあるいはPtの下地膜を用いた比較例3、4の試料のトラック幅の比較から、NiFe合金の下地膜を用いたサンプル1の試料は、記録信号の幅が狭くなることで、トラック方向の信号の数を増やすことが可能となり、面積あたりの信号密度を増加させることも可能になることが判明した。
軟磁性膜の組成を変えたこと以外は実施例1に準じて磁気記録媒体を作製した。評価結果を以下の表2に示す。
サンプル2〜5を比較すると、Hfの含有量を1〜12at%の範囲とすることで1.42〜1.63(T)の飽和磁束密度を得られるが、Hfの含有量が増加するにつれて飽和磁束密度は低下し、12at%において1.42(T)となり、記録再生特性SNRも低下する傾向となるので、Hf含有量の上限は本願発明が意図する飽和磁束密度1.4(T)を要するとの条件から12at%であることがわかる。なお、1〜12at%の範囲内でもHf含有量において2〜8at%の範囲であればより飽和磁束密度が高く、記録再生特性SNRも良好なことがわかる。
また、表2に示す結果から、軟磁性膜を構成するCo-Fe-Hf系合金にTa、Al、Nb、Cr、Niを添加しても優れた磁気特性が得られることが明らかとなった。
軟磁性膜の厚さを変えたこと以外はサンプル1に準じて磁気記録媒体を作製した。評価結果を以下の表3に示す。
下地膜であるNiFe合金の組成と厚さを変えたこと以外はサンプル1に準じて磁気記録媒体を作製した。評価結果を以下の表4に示す。
中間膜の材料および厚さを変えた以外はサンプル1に準じて磁気記録媒体を作製した。評価結果を以下の表5に示す。
a 裏打ち層
1 非磁性基板
2 第1軟磁性膜
3 中間膜
4 第2軟磁性膜
5 下地膜
6 中間膜
7 垂直磁気記録膜
8 保護膜
Claims (15)
- 非磁性基板上に、少なくとも裏打ち層と下地膜と中間膜と垂直磁気記録膜を有する垂直磁気記録媒体において、前記裏打ち層を構成する軟磁性膜の飽和磁束密度Bsが1.4(T)以上であるCoFeHf合金からなり、かつ前記下地膜がNi合金またはNiFe合金からなることを特徴とする磁気記録媒体。
- 前記軟磁性膜のHf含有量が1at%以上、12at%以下であることを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体。
- 前記軟磁性膜のHf含有量が2at%以上、8at%以下であることを特徴とする請求項1または2のいずれか1項に記載の磁気記録媒体。
- 前記軟磁性膜がさらにTa、Nbのうち少なくともいずれかを含むことを特徴とする請求項1乃至3いずれか1項に記載の磁気記録媒体。
- 前記軟磁性膜がさらにAl、Ni、Crのうち少なくともいずれかを含むことを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載の磁気記録媒体。
- 前記裏打ち層は2層の軟磁性膜とその間に形成された非磁性中間層から構成され、2層の軟磁性膜がAFC(Anti−Ferro−Coupling)結合していることを特徴とする請求項1乃至5の何れか1項に記載の磁気記録媒体。
- 前記中間膜または前記非磁性中間層が、RuまたはRu合金からなることを特徴とする請求項1乃至6いずれか1項に記載の磁気記録媒体。
- 前記下地膜がNiを50at%以上含んでおり、その上にRuまたはRu合金の中間膜が設けられ、この中間膜のΔθ50が5°以下であることを特徴とする請求項1乃至7いずれか1項に記載の磁気記録媒体。
- 下地膜であるNi合金またはNiFe合金の飽和磁束密度が0.4(T)以上であることを特徴とする請求項1または8いずれか1項に記載の磁気記録媒体。
- 前記軟磁性膜が非結晶質構造であることを特徴とする請求項1乃至5の何れか1項に記載の磁気記録媒体。
- 前記軟磁性膜のFeの含有量が5at%以上、40at%以下であることを特徴とする請求項1乃至6および10の何れか1項に記載の磁気記録媒体。
- 前記裏打ち層の膜厚が20nm以上、80nm以下であることを特徴とする請求項1乃至11の何れか1項に記載の磁気記録媒体。
- 前記中間膜の厚さが16nm以下であることを特徴とする請求項1乃至12の何れか1項に記載の磁気記録媒体。
- 前記軟磁性膜がCoFeHfTaAlまたはCoFeHfNbAlの何れかであることを特徴とする請求項1乃至13の何れか1項に記載の磁気記録媒体。
- 磁気記録媒体と、該磁気記録媒体に情報を記録再生する磁気ヘッドとを備えた磁気記録再生装置であって、前記磁気ヘッドが単磁極ヘッドであり、前記磁気記録媒体が、請求項1乃至14の何れか1項に記載の磁気記録媒体であることを特徴とする磁気記録再生装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005259466A JP4611847B2 (ja) | 2005-09-07 | 2005-09-07 | 磁気記録媒体及び磁気記録再生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005259466A JP4611847B2 (ja) | 2005-09-07 | 2005-09-07 | 磁気記録媒体及び磁気記録再生装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007073136A true JP2007073136A (ja) | 2007-03-22 |
JP4611847B2 JP4611847B2 (ja) | 2011-01-12 |
Family
ID=37934465
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005259466A Active JP4611847B2 (ja) | 2005-09-07 | 2005-09-07 | 磁気記録媒体及び磁気記録再生装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4611847B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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