JP2007050503A - バフテープを製造するための装置およびその方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】幅広のマザーテープを幅狭のバフテープにスリット切断する際に発生しテープに付着する遊離粒子を効果的に除去する。
【解決手段】スリットされたバフテープを巻き取りローラに導くガイドローラと、バフテープを挟んでガイドローラに対向する圧縮ローラとを設け、ガイドローラと圧縮ローラとの間に、バフテープに押し付けられて遊離粒子を除去するワイピングテープをバフテープと逆方向に走行させる。ワイピングテープは、0.3〜5μmの遊離粒子の50〜80%を除去可能であるように、マザーテープの送り速度と、ガイドローラと圧縮ローラとの間の圧縮圧力と、に応じて決定される指定の率で、バフテープに接触した状態で前進される。
【選択図】図1
【解決手段】スリットされたバフテープを巻き取りローラに導くガイドローラと、バフテープを挟んでガイドローラに対向する圧縮ローラとを設け、ガイドローラと圧縮ローラとの間に、バフテープに押し付けられて遊離粒子を除去するワイピングテープをバフテープと逆方向に走行させる。ワイピングテープは、0.3〜5μmの遊離粒子の50〜80%を除去可能であるように、マザーテープの送り速度と、ガイドローラと圧縮ローラとの間の圧縮圧力と、に応じて決定される指定の率で、バフテープに接触した状態で前進される。
【選択図】図1
Description
本発明は、磁気ディスク基板の表面を滑らかにするためのバフテープを製造するための装置およびその方法に関するものである。本発明は、より具体的には、このようなバフテープをマザーテープから細長く切り出す際に0.3μm〜5μmの小さな遊離砕片粒子を除去するための装置および方法に関するものである。
磁気ディスク基板は、一般に、アルミニウム基板またはガラス基板の上に金属層と磁気コーティングとを形成し、仕上げに炭素層および潤滑性保護膜を形成することによって製造される。基板を滑らかにするプロセスは、例えば特開平02−10486号公報に記載されるように、必然的に存在する異常な突出を除去する目的で、バフテープ(または研磨テープ)を使用して実施される。このようなバフテープの使用に共通する問題点は、バフテープそれ自体における小砕片粒子の存在である。なぜなら、このような小さな遊離砕片粒子は、ハードディスク基板上で磁気ヘッド内に浸入したり磁気ヘッド下に捕捉されたりすることによって、ディスク表面を実質的に傷付けたりディスク表面に埋め込まれたりする傾向があるからである。バフテープ内にこのような遊離粒子が存在する主な原因は、その製造プロセス、すなわちマザーテープを細長く切断するプロセスにある。マザーテープは、概して100〜1000mmの幅を有するものとして製造され、縦方向に細長く切断されることによって、0.25〜1.5インチの幅を有する個々のバフテープを得る。
幅広のマザーテープを細長く切断して得られたバフテープからこのような不要な遊離砕片粒子を除去するための従来の方法としては、例えば、粘着性のローラを用いて遊離粒子をローラ表面に貼り付ける方法が挙げられる。しかしながら、シリコンおよび/またはウレタンを含むこのような粘着性ローラの材料は、一般に、ハードディスク基板の製造に用いられる消耗部品の材料またはその消耗製品に接触する材料のリストから外れている。従来の方法の別の例としては、ワイピングクロスおよび真空装置を使用して、遊離粒子をクロス材料に吸い込み且つ閉じ込める方法が挙げられる。しかしながら、ワイピングクロスおよび真空装置によるこの作用は、巻き取りのむら、ゆるみ、および/またはずれを生じる原因になる。また、クリーンルーム環境内における真空作用は、清浄な空気の層流を攪乱し、砕片およびその他の微粒子を実質的に作業領域に浸入させる。
したがって、本発明の目的は、製造されるバフテープがむらまたはずれを生じることなく適切に巻き取られるように、マザーテープを細長く切断すると同時に0.3〜5μmの小砕片粒子を効果的に除去することによってバフテープを製造する装置、およびその方法を提供することにある。
本発明にしたがった装置は、マザーテープを受け取り、それを細長く切断することによって、複数の幅狭のバフテープを製造するためのスリット機器と、細長く切断された複数のバフテープを個別に巻き取るための複数の巻き取りローラとに加えて、さらに、細長く切断された複数のバフテープをスリット機器から巻き取りローラに導くためのガイドローラと、該ガイドローラに複数のバフテープを押し付けるための圧縮ローラと、ガイドローラと圧縮ローラとの間で複数のバフテープに接触することによって複数のバフテープから砕片粒子を除去する働きをするワイピングテープと、を備えることを特徴とする。
上記において、スリット機器は、互いに回転しあう雄型ナイフおよび雌型ナイフを活用することによって、その間を通るマザーテープを細長く切断する、既知のタイプの装置であることが可能である。マザーテープは、例えばコントローラ付きのACモータ等の既知のタイプの送り手段によって、指定の送り速度でスリット機器に送り込まれる。ワイピングテープおよび複数のバフテープを間に挟んだ状態で、圧縮ローラを指定の力でガイドローラに押し付けるため、空気圧シリンダおよび圧縮空気供給弁を含む既知のタイプの圧縮手段が用意される。ワイピングテープは、供給ローラおよび巻き取りローラを含むことが可能であるワイピング機構によって、バフテープの動きと反対の方向に前進される。ワイピングテープの速度は、好ましくは、所望の効率を実現可能であるように、マザーテープの送り速度と、ガイドローラと圧縮ローラとの間の圧縮圧力と、に従って指定される。
実験結果によると、スリット機器によって発生する砕片粒子は、裏当て膜のPET材料に引き寄せられる傾向があるので、ワイピングテープは、裏当て膜の側から複数のバフテープに接触される。
図1は、本発明を実施する製造装置10の説明図である。最も基本的な用語で説明すると、バフテープは、マザーテープ20を縦方向に細長く切断して複数の細片を作成し、これらの細片を巻き取ることによって、本発明にしたがって製造される。マザーテープ20は、製造目標であるバフテープ25と基本的に同じ構造を有しており、PET等の適切な材料からなる適切な厚さの裏当て膜25bに、例えば0.1〜5.0μm等の所望の大きさの酸化アルミニウム粒子等の研磨材をウレタン結合材と混ぜ合わせたものをコーティングして乾燥させることによって、研磨層25aを形成されており、製造目標であるバフテープと比べると、幅広である点で本質的に異なる。マザーテープ20は、通常は、概して幅が100〜1000mmで且つ長さが100〜1000mのロールまたはウェブ22の形態で提供され、送りローラに取り付けられ、そこから繰り出されてスリット機器30に送り込まれる。
スリット機器30は、互いに噛みあう雄型ナイフ34と雌型ナイフ32とからなる従来から知られたタイプであることが可能である。両ナイフ間には、ウェブ22から繰り出されたマザーテープ20が送り込まれる。雄型ナイフ34の周速(peripheral speed)は、例えば両ナイフ間に送り込まれたマザーテープ20が概して0.25〜1.5インチの指定の幅を有する複数のバフテープ25に切断されるように、雌型ナイフ32の周速の1.01〜1.20倍の大きさに設定される。マザーテープ20をスリット機器30によって縦方向に細長く切断して得られるバフテープ25は、巻き取りローラ28によってそれぞれ個別に巻き取られる。図1では、複数のバフテープ25が個別に製造されることを明確にするために、二つの別個のローラ28が図示されているが、製造されたバフテープ25は、単一のローラで巻き取られるように構成することも可能である。
鋼製研磨面付きのガイドローラ40は、細長く切断されたバフテープ25の微粒子コート表面に接触することによって、そのバフテープ25をスリット機器30から巻き取りローラ28へと導くために、スリット機器と巻き取りローラ28との間に用意される。また、コントローラ付きのACモータ43は、スリット機器30、ガイドローラ40、および巻き取りローラ28を、マザーテープ20からスリット機器30への送り速度に応じ、ギア、ブレーキ、およびタイミングベルト(不図示)などの一連の相互接続手段を通じて駆動するために用意される。ただし、送り速度を制御するための機構は周知であり、発明の範囲を限定することを意図したものではない。
図1および図2の両方に示されるように、ガイドローラ40表面のうち、バフテープ25に接触される部分に隣接する位置に、ショアAデュロメータにして50〜70の表面硬さを有する圧縮可能な周縁表面を有する圧縮ローラ50が用意される。また、図3に示されるように圧縮ローラ50をガイドローラ40に近づけて指定の圧力を印加するため、そして、図1に示されるように圧縮ローラをガイドローラ40から離れた後退位置まで後退させるために、例えば空気圧シリンダ52と圧縮空気供給弁53とを有する等の機構が用意される。
ワイピングテープ45は、ハードディスク基板との直接接触または間接接触のための消耗製品としてよく使用される、例えばポリエステル製またはナイロン製のクリーンルーム認可のワイピングクロス等の材料で形成される。ワイピングテープ45は、供給ローラ46から繰り出され、圧縮ローラ50に巻かれ、その位置でガイドローラ40に接触した後、巻き取りローラ47によって再び巻き取られる。したがって、ワイピングテープ45は、移動機構として機能する空気圧シリンダ52の動作によって圧縮ローラ50がガイドローラに近づくのに伴って、裏当て膜25bの側からバフテープ25に接触する。
次に、本発明を実施する装置を使用する方法が説明される。ACモータ43用のコントローラの動作に伴って、マザーテープ20は、指定の送り速度でスリット機器30に送り込まれ、そうして細長く切断されたバフテープ25は、やはり指定の送り速度で巻き取りローラ28に個別に巻き取られる。スリット機器30の雄型ナイフ34および雌型ナイフ32は、後ほど詳述されるように、適切に指定された速度でそれぞれ回転される。
マザーテープ20が細長く切断され、複数のバフテープ25が形成されるのに伴って、前述のように、有害であるゆえに除去が望まれる遊離砕片粒子が多数生成される。除去のため、ワイピングテープ45は、スリット機器30の下流側で、ガイドローラ40と圧縮ローラ50との間でバフテープに押し付けられる。実験によると、本発明にしたがって除去される遊離粒子は、バフテープ25の静電荷に起因して、その大部分が裏当て膜25bのPET材料に引き寄せられるので、ワイピングテープ45は、裏当て膜25bの側からバフテープ25の全面に接触する。
互いに接触しあうバフテープ25およびワイピングテープ45が圧縮ローラ50とガイドローラ40との間に挟まれている状態で、圧縮ローラ50が空気圧シリンダ52および圧縮空気供給弁53によって圧縮圧力でガイドローラ40に押し付けられるあいだ、ワイピングテープ45は、指定の供給率で供給ローラ46から繰り出され、巻き取りローラ47に再び巻き取られることによって、圧縮ローラ50の接触面上をバフテープ25の動きと反対の方向に前進する。この供給率は、例えばマザーテープ20の供給速度および圧縮間の圧縮圧力等の他の操作条件に従って、最適に決定される。
これらの操作パラメータは、また、巻き取りローラ28でバフテープ25を効率良く巻き取り可能であるように、注意深く選択されることも望まれる。マザーテープ20の送り速度は、生産力の最低基準の観点からすると、10m/分を上回ることが望まれ、幅1.375インチのバフテープ25を巻き取る際の品質の最低基準の観点からすると、好ましくは30m/分未満であることが望まれる。表1は、これらの最小値と最大値との間の各種の送り速度について、ショアAデュロメータにして50〜70の表面硬さを有する圧縮ローラを用いて1ミルPET裏当て膜上の0.3〜5.0μmの砕片粒子を収集する場合における、ワイピングテープ45の供給率と、ガイドローラ40と圧縮ローラ50との間の圧縮圧力との好ましい組み合わせの代表例を示している。
しかしながら、これらの組み合わせは、説明のための実施例に過ぎず、発明の範囲を限定することを意図したものではない。実験結果によると、本発明の方法は、50〜80%の遊離粒子の削減を実現することができる。
10…製造装置
20…マザーテープ
22…ウェブ
25…バフテープ
25a…研磨層
25b…裏当て膜
28…巻き取りローラ
30…スリット機器
32…雌型ナイフ
34…雄型ナイフ
40…ガイドローラ
43…ACモータ
45…ワイピングテープ
46…供給ローラ
47…巻き取りローラ
50…圧縮ローラ
52…空気圧シリンダ
53…圧縮空気供給弁
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Claims (16)
- バフテープを製造するための装置であって、
マザーテープを受け取り、前記受け取ったマザーテープを縦方向に細長く切断することによって、複数のバフテープを製造するためのスリット機器と、
前記複数のバフテープを個別に巻き取るための複数の巻き取りローラと、
前記複数のバフテープを前記スリット機器から前記複数の巻き取りローラに導くためのガイドローラと、
前記複数のバフテープを前記ガイドローラに押し付けるための圧縮ローラと、
前記ガイドローラと前記圧縮ローラとの間で前記複数のバフテープに接触することによって、前記複数のバフテープから砕片粒子を除去する働きをするワイピングテープと、
を備える装置。 - 請求項1に記載の装置であって、さらに、
前記ワイピングテープと前記複数のバフテープとを間に挟んだ状態で、前記圧縮ローラを指定の力で前記ガイドローラに押し付けるための圧縮手段を備える、装置。 - 請求項1に記載の装置であって、さらに、
前記マザーテープを指定の送り速度で前記スリット機器に送り込むための送り手段を備える、装置。 - 請求項1に記載の装置であって、さらに、
前記ワイピングテープを指定の率で前進させるためのワイピング機構を備える、装置。 - 請求項4に記載の装置であって、
前記ワイピング機構は、前記ワイピングテープを前記指定の率で前進させつつ、前記ワイピングテープの繰り出しおよび再巻き取りを行うための一対のローラを含む、装置。 - 請求項4に記載の装置であって、さらに、
前記マザーテープを指定の送り速度で前記スリット機器に送り込むための送り手段を備え、
前記指定の率は、前記送り速度と、前記ガイドローラと前記圧縮ローラとの間の圧力と、から決定される、装置。 - 請求項1に記載の装置であって、
前記マザーテープは、大きさ0.1〜5.0μmの研磨粒子をコーティングされた裏当て膜を有する、装置。 - 請求項7に記載の装置であって、
前記ワイピングテープは、前記ガイドローラと前記圧縮ローラとの間で前記裏当て膜に接触する、装置。 - 請求項1に記載の装置であって、
前記圧縮ローラは、ショアAデュロメータにして50〜70の表面硬さを有する、装置。 - バフテープを製造する方法であって、
研磨粒子をコーティングされた裏当て膜を有するマザーテープを指定の送り速度でスリット機器に送り込む工程と、
前記スリット機器を用いて前記マザーテープを縦方向に細長く切断して複数のバフテープを得る工程と、
前記細長く切断された複数のバフテープを個別に複数の巻き取りローラに巻き取る工程と、
前記複数のバフテープを前記スリット機器から前記複数の巻き取りローラに導くために、前記複数の巻き取りローラと前記スリット機器との間にガイドローラを用意する工程と、
圧縮ローラを用いて前記複数のバフテープを前記ガイドローラに押し付ける工程と、
前記ガイドローラと前記圧縮ローラとの間で前記複数のバフテープに押し付けられることによって前記複数のバフテープから砕片粒子を除去するワイピングテープを用意する工程と、
を備える方法。 - 請求項10に記載の方法であって、さらに、
前記ワイピングテープを指定の率で前進させる工程を備える、方法。 - 請求項11に記載の方法であって、
前記指定の率は、前記送り速度と、前記圧縮ローラと前記ガイドローラとの間の圧力と、から決定される、方法。 - 請求項10に記載の方法であって、
前記マザーテープは、大きさ0.1〜5.0μmの研磨粒子をコーティングされた裏当て膜を有する、方法。 - 請求項13に記載の方法であって、
前記ワイピングテープは、前記ガイドローラと前記圧縮ローラとの間で前記裏当て膜に接触する、方法。 - 請求項12に記載の方法であって、
前記送り速度は10〜30m/分であり、前記指定の率は15〜45mm/分であり、前記圧縮ローラは1〜2kg/cm2の圧力で前記ガイドローラに押し付けられる、方法。 - 請求項10に記載の方法であって、
前記ワイピングテープによって、0.3〜5μmの遊離粒子のうちの50〜80%が前記複数のバフテープから除去される、方法。
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