JP2007022844A - 酸化物複合膜、該膜形成用塗布液、該塗布液の製造方法及び該膜の造膜方法。 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明による酸化物複合膜は、酸化チタンと、酸化ジルコニウムおよび/または酸化ハフニウムとを含む複合物から基材表面に形成されていることを特徴とする。該酸化物複合膜は、酸化チタン(A)と、酸化ジルコニウムおよび/または酸化ハフニウム(B)とが、モル比でA:B=1:0.01〜1:0.5の割合で含有されていることが望ましい。酸化物複合膜を造膜する方法は、酸化チタンと、酸化ジルコニウムおよび/または酸化ハフニウムとの複合物が水中に分散している酸化物複合膜形成用塗布液を基体に塗布して常温以上400℃以下の熱線又は/及び紫外線の電磁波を照射して固着硬化させることを特徴とする。
【選択図】図1
Description
1.酸化チタンと、酸化ジルコニウムおよび/または酸化ハフニウムとを含む複合物から基材表面に形成されていることを特徴とする酸化物複合膜。
2.酸化チタンが、ペルオキソ基で修飾されたアモルファス型および/またはアナターゼ型酸化チタンである前記1に記載の酸化物複合膜。
3.酸化チタン(A)と、酸化ジルコニウムおよび/または酸化ハフニウム(B)とが、モル比でA:B=1:0.01〜1:0.5の割合で含有されている前記1に記載の酸化物複合膜。
4.基材が、熱硬化樹脂、熱可塑性樹脂、金属、ガラス、セラミック、コンクリート材、および石材から選ばれる少なくとも1種からなる前記1に記載の酸化物複合膜。この基材には、表面が塗装されている基材も含まれる。
5.酸化チタンと、酸化ジルコニウムおよび/または酸化ハフニウムとの複合物が水中に分散していることを特徴とする酸化物複合膜形成用塗布液。
6.チタンの化合物または有機チタン化合物とジルコニウムの化合物および/またはハフニウムの化合物とを含む溶液を、アルカリ性溶液により中和して各金属の水酸化物の混合物を形成する工程と、該混合物を酸化剤により酸化して超微粒子過酸化物とする工程とを有することを特徴とする酸化物複合膜形成用塗布液の製造方法。
7.酸化物複合膜形成用塗布液を基体に塗布して常温以上400℃以下の熱線又は/及び紫外線の電磁波を照射して固着硬化させる、酸化物複合膜の造膜方法。
<第1の製造方法>
四塩化チタンなどの四価チタンの化合物とアンモニアなどの塩基とを反応させて、水酸化チタンを形成する。次に、この水酸化チタンを酸化剤でペルオキソ化し、超微細粒子のアモルファス型過酸化チタンを形成し、加熱処理することによりアナターゼ型過酸化チタンに転移させることも可能である。上記の各工程のいずれかにおいて酸化ジルコニウムおよび酸化ハフニウムの少なくともいずれか1つを混合する。もしくは、アモルファス型過酸化チタンの形成と同様の工程をジルコニウムの化合物および/またはハフニウムの化合物を利用して各々の過酸化物を形成し、後に所定量の過酸化物を混合する方法がある。
<第2の製造方法>
四塩化チタンなどの四価チタンの化合物を酸化剤でペルオキソ化し、これとアンモニアなどの塩基とを反応させて超微細粒子のアモルファス型過酸化チタンを形成し、加熱処埋することによりアナターゼ型過酸化チタンに転移させ、上記の各工程のいずれかにおいて前記金属酸化物の少なくともいずれか1つを混合する。
<第3の製造方法>
四価チタンの化合物と酸化剤および塩基とを同時に反応させて、水酸化チタンの形成とそのペルオキソ化とを同時に行い、超微細粒子のアモルファス型過酸化チタンを形成し、加熱処埋することによりアナターゼ型過酸化チタンに転移させ、このいずれかの過程に前記金属酸化物の少なくともいずれか1つを混合する。なお、上記の製造方法において、アモルファス型過酸化チタンと、これを加熱して得られるアナターゼ型過酸化チタンとの混合物を本発明の塗布液の成分として使用できることは言うまでもない。
<ゾル−ゲル法による製造方法>
チタンアルコキシドに、水、アルコールなどの溶媒、酸または塩基触媒を混合撹拌し、チタンアルコキシドを加水分解させ、超微粒子の酸化チタンのゾル溶液を生成する。この加水分解の前後のいずれかに、ジルコニウムの化合物および/またはハウニウムの化合物、さらに必要に応じて銅、マンガン、ニッケル、コバルト、鉄および亜鉛の化合物の少なくともいずれか1つが混合される。なお、このようにして得られる酸化チタンは、ペルオキソ基を有するアモルファス型である。
<四価チタンの化合物>
本発明の酸化物複合膜、その製造用塗布液において使用する四価チタンの化合物としては、塩基と反応させた際に、オルトチタン酸(H4TiO4)とも呼称される水酸化チタンを形成できるものであれば、各種のチタン化合物が使用でき、例えば、四塩化チタン、硫酸チタン、硝酸チタン、燐酸チタンなどのチタンの水溶性無機酸塩がある。それ以外にも蓚酸チタンなどのチタンの水溶性有機酸塩も使用できる。なお、これらの各種チタン塩の中では、水溶性に特に優れ、かつ塗布液中にチタン以外の成分が残留しない点で、四塩化チタンが好ましい。
<塩基>
上記四価チタンの化合物と反応させる塩基は、四価チタンの化合物と反応して水酸化チタンを形成できるものであれば、各種のものが使用可能であり、例えば、アンモニア、苛性ソーダ、炭酸ソーダ、苛性カリなどが挙げられるが、アンモニアが好ましい。また、上記の塩基の溶液を使用する場合は、当該溶液の濃度は、水酸化チタンのゲルが形成できる範囲であれば特に制限されるものではないが、比較的希薄な溶液が好ましい。具体的には、塩基溶液の濃度は、10〜0.01質量%が好ましく、3.0〜0.1質量%がより好ましい。特に、塩基溶液としてアンモニア水を使用した場合のアンモニアの濃度は、10〜0.01質量%が好ましく、3.0〜0.1質量%がより好ましい。
<酸化剤>
上記で形成された水酸化チタンを酸化する酸化剤としては、酸化後、ペルオキソ化物が形成できるものであれば各種の酸化剤が制限なく使用できるが、製造された被膜形成液中に、金属イオンあるいは酸イオンなどの残留物の生じない過酸化水素が望ましい。
<チタン化合物以外の金属化合物>
四価チタンの塩溶液と共存させるジルコニウム化合物およびハフニウム化合物、さらにこれらの化合物と併用してもよい銅、マンガン、ニッケル、コバルト、鉄または亜鉛の化合物としては、それぞれ以下のものが例示できる。
Zr化合物:Zr(OH)4、ZrCl4、ZrO2、ZrSiO4、ZrCl2O・8H2O
Hf化合物:Hf(OH)4、HfCl4、HfO2
Ni化合物:Ni(OH)2、NiCl2
Co化合物:Co(OH)NO3、Co(OH)2、CoSO4、CoCl2
Cu化合物:Cu(OH)2、Cu(NO3)2、CuSO4、CuCl2、Cu(CH3COO)2
Mn化合物:MnNO3、MnSO4、MnCl2
Fe化合物:Fe(OH)2、Fe(OH)3、FeCl3
Zn化合物:Zn(NO3)2、ZnSO4、ZnCl2
本発明の塗布液中の過酸化チタン濃度(共存するジルコニウム、ハフニウム、銅、マンガン、ニッケル、コバルト、鉄または亜鉛の酸化物を含む合計量)は、0.05〜15質量%が好ましく、0.1〜5質量%がより好ましい。また、ジルコニウム、ハフニウム、銅、マンガン、ニッケル、コバルト、鉄、亜鉛の酸化物の配合量については、酸化チタンと前記金属成分とのモル比で、1:0.01〜1:0.5が好ましく、1:0.03〜1:0.2がより好ましい。
比較製造例1−1(アモルファス型酸化チタンの過酸化物を含有する塗布液(誘電性機能)の調製)
純水1,000mlに50%四塩化チタン溶液(住友シチックス(株)製)20gを添加撹拌し、さらに純水を加え2,000mlにメスアップした溶液を準備する。これに25%アンモニア水(高杉製薬(株)製)を10倍に希釈したアンモニア水を滴下してpH7.0に調整して水酸化チタンを沈殿させた。この沈殿物を純水で上澄み液の導電率が0.8mS/m以下になるようデカンテーション洗浄を繰り返し、導電率が0.790mS/mになったところで洗浄を終了すると、固形分濃度0.73%の水酸化物が712g作製された。次いで、この分散液を1〜5℃に冷却しながら35%過酸化水素水(タイキ薬品工業(株)製)を56g添加し16時間撹拌すると黄褐色の0.88%濃度のアモルファス型過酸化チタン分散液(比較製造例の塗布液)763gが得られた。
比較製造例1−2(アナターゼ型チタニアの過酸化物水分散液(光触媒機能)の調整)
比較製造例1−1溶液を200g計量し、100℃の温度で5時間加熱して淡黄色縣濁のアナターゼ型過酸化チタン水分散液が1.22%固形分濃度で140g得られた。
実施例1−1(アモルファス型酸化チタンと酸化ジルコニウムとの複合過酸化物を含む塗布液(誘電性機能)の調製)
純水1,000mlに50%四塩化チタン溶液(住友シチックス(株)製)20gとZrCl2O・8H2O(三塩化ジルコニウム:和光純薬工業(株)製)1.696gを完全に溶かした溶液に純水を加え2,000mlにメスアップした溶液を準備する。これに25%アンモニア水(高杉製薬(株)製)を10倍に希釈したアンモニア水を滴下してpH7.0に調整して水酸化ジルコニウムと水酸化チタンの混合物を沈殿させた。この沈殿物を純水で上澄み液の導電率が0.8mS/m以下になるようデカンテーション洗浄を繰り返し、導電率が0.702mS/mになったところで洗浄を終了すると、0.79%濃度の水酸化物が626g作製された。次いで、この分散液を室温下で35%過酸化水素水(タイキ薬品工業(株)製)を56g添加し16時間撹拌すると、黄褐色の0.88%濃度のジルコニウムが酸化物としてドープされたアモルファス型過酸化チタンを含む本発明の塗布液680gが得られた。
実施例1−2(アナターゼ型酸化チタンと酸化ジルコニウムとの複合過酸化物を含む塗布液(光触媒機能)の調製)
実施例1−1で得られた塗布液を200g計量し、100℃の温度で5時間加熱すると、ジルコニウムが酸化物としてドープされた淡黄色のアナターゼ型過酸化チタンを含む本発明の塗布液が1.22%固形分濃度で140g得られた。
実施例2(アモルファス型酸化チタンと酸化ジルコニウムと酸化銅との複合過酸化物を含む塗布液(光酸化低減機能)の調製)
純水1,000mlに50%四塩化チタン溶液(住友シチックス(株)製)20gとZrCl2O・8H2O(三塩化ジルコニウム:和光純薬工業(株)製)1.696gと97%CuCl2・2H2O(塩化第二銅)(日本化学産業(株)製)1.852gを完全に溶かした溶液に純水を加え2,000mlにメスアップした溶液を準備する。これに25%アンモニア水(高杉製薬(株)製)を10倍に希釈したアンモニア水を滴下してpH7.0に調整して水酸化銅と水酸化ジルコニウムと水酸化チタンの混合物を沈殿させた。この沈殿物を純水で上澄み液の導電率が0.8mS/m以下になるようデカンテーション洗浄を繰り返し、導電率が0.784mS/mになったところで洗浄を終了すると、0.82%濃度の複合水酸化物が592g作製された。次いで、この分散液を室温下で35%過酸化水素水(タイキ薬品工業(株)製)を112g添加し16時間撹拌するとCuイオンが400ppmとジルコニウムが酸化物としてドープされた緑黄色の0.95%濃度のアモルファス型過酸化チタンを含む本発明の塗布液700gが得られた。
実施例3−1(アモルファス型酸化チタンと酸化ハフニウムとの複合過酸化物を含む塗布液(誘電性機能)の調製)
純水1,000mlに50%四塩化チタン溶液(住友シチックス(株)製)20gとHfCl4(塩化ハフニウム:三津和化学(株))1.686gを完全に溶かした溶液に純水を加え2,000mlにメスアップした溶液を準備する。これに25%アンモニア水(高杉製薬(株)製)を10倍に希釈したアンモニア水を滴下してpH7.0に調整して水酸化ハフニウムと水酸化チタンとの混合物を沈殿させた。この沈殿物を純水で上澄み液の導電率が0.8mS/m以下になるようデカンテーション洗浄を繰り返し、導電率が0.772mS/mになったところで洗浄を終了すると、0.90%濃度の混合水酸化物が491g作製された。次いで、この分散液を室温下で35%過酸化水素水(タイキ薬品工業(株)製)を112g添加し16時間撹拌すると黄褐色の0.97%濃度の酸化ハフニウムがドープされたアモルファス型過酸化チタンを含む本発明の塗布液600gが得られた。
実施例3−2(アナターゼ型酸化チタンと酸化ハフニウムとの複合過酸化物を含む塗布液(光触媒機能)の調製)
実施例3−1の塗布液を200g計量し、100℃の温度で5時間加熱すると、ハフニウムが酸化物としてドープされた淡黄色のアナターゼ型過酸化チタンを含む本発明の塗布液が1.32%固形分濃度で142g得られた。
実施例4(アモルファス型酸化チタンと酸化ハフニウムと銅酸化物との複合過酸化物を含む塗布液(光酸化低減機能)の調製)
純水1,000mlに50%四塩化チタン溶液(住友シチックス(株)製)20gとHfCl4(塩化ハフニウム:三津和化学(株))1.686gと97%CuCl2・2H2O(塩化第二銅)(日本化学産業(株)製)1.852gを完全に溶かした溶液に純水を加え2,000mlにメスアップした溶液を準備する。これに25%アンモニア水(高杉製薬(株)製)を10倍に希釈したアンモニア水を滴下してpH7.0に調整して水酸化銅と水酸化ハフニウムと水酸化チタンとの混合物を沈殿させた。この沈殿物を純水で上澄み液の導電率が0.8mS/m以下になるようデカンテーション洗浄を繰り返し、導電率が0.710mS/mになったところで洗浄を終了すると、0.79%濃度の水酸化物が603g作製された。次いで、この分散液を室温下で35%過酸化水素水(タイキ薬品工業(株)製)を112g添加し16時間撹拌するとCuイオンが400ppmとハフニウムが酸化物としてドープされた緑黄色の0.85%濃度のアモルファス型過酸化チタンを含む本発明の塗布液712gが得られた。
<成膜基板の作製>
基板作製実施例1−1(誘電性機能)および1−2(光触媒機能)
実施例1−1で作製した塗布液を用いて、ガラス板とコロナ処理したポリカーボネート板にGS工法(ガーゼスクイズ工法)でそれぞれ膜厚100nmの膜を作製し、これを基板作製実施例1−1とした。また、同様に実施例1−2で作成した塗布液を用いて作成したものを基板作製実施例1−2とした。また、これら各々の塗布液を赤インク消色評価用として白色タイルにスプレー工法で膜厚100nmの膜を作製した。
基板作製実施例2(光酸化低減機能)
実施例2で作製した塗布液に界面活性剤SH3746M(東レ・ダウコーニング(株))を0.1%添加し、該塗布液を用いて、ガラス板およびコロナ処理したポリカーボネート板にGS工法(ガーゼスクイズ工法)でそれぞれ膜厚100nmの膜を作製し、これを基板作製実施例2とした。また、上記塗布液を赤インク消色評価用として白色タイルにスプレー工法で膜厚100nmの膜を作製した。
基板作製実施例3−1(誘電性機能)および3−2(光触媒機能)
実施例3で作製した塗布液を用いて、ガラス板およびコロナ処理したポリカーボネート板にGS工法(ガーゼスクイズ工法)でそれぞれ膜厚100nmの膜を作製し、これを基板作製実施例3−1とした。また、同様に実施例3−2で作成した塗布液を用いて成膜したものを基板作製実施例3−2とした。また、これら各々の塗布液を赤インク消色評価用として白色タイルにスプレー工法で膜厚100nmの膜を作製した。
基板作製実施例4(光酸化低減機能)
実施例4で作製した塗布液に界面活性剤SH3746M(東レ・ダウコーニング(株))を0.1%添加した塗布液を用いて、ガラス板およびコロナ処理したポリカーボネート板にGS工法(ガーゼスクイズ工法)でそれぞれ膜厚100nmの膜を作製し、これを基板作製実施例4とした。また、上記塗布液を用いて白色タイルに赤インク消色評価用としてスプレー工法で膜厚100nmの膜を作製した。
基板作製比較例1(誘電性機能)、基板作製比較例1−2(光触媒機能)
比較製造例1−1で作製した塗布液を、ガラス板およびコロナ処理したポリカーボネート板にGS工法(ガーゼスクイズ工法)でそれぞれ膜厚100nmの膜を作製し、これを基板作製比較例1とした。また、上記塗布液を用いて白色タイルに赤インク評価試験用としてスプレー工法で膜厚100nmの膜を作製した。
比較製造例1−2で作製したアナターゼ型過酸化チタン分散液を基板作製比較例1と同様の方法で作製し、これを基板作製比較例1−2とした。
評価1
基板作製実施例1−1、2、3−1、4、および対照として基板作製比較例1で得られたガラスとポリカーボネート基板の各試験片を、表1および表2に記載の加熱温度条件及びUV照射条件によって、恒温恒湿庫中で加熱し、下記の装置で紫外線(UV)照射を行い、膜の評価を行なった。紫外線照射条件は下記の通りである。
・高圧水銀灯装置:セン社製 紫外線照射装置 HLR−400D−1
ランプHL400DL
・低圧水銀灯装置:セン社製 光表面処理装置 PL16−110D−1
ランプUE1101N−4
・UV−A照射装置:東芝ライテック社製20Wブラックライト
10cm隔離 1,100μw/cm2
・透明性:加熱およびUV照射後、外光を反射透過させ基板の透明性を視覚判断した。○は透明性良好を示す。
・膜の熱追従性(表面クラック):加熱およびUV照射後、レーザー顕微鏡(キーエンス製)PROFILE MICROSOCOPE VF-7510にて3ヶ所確認で表面クラックの有無を視覚判断した。○はクラック発生が無いことを示し、△クラック発生が僅かにあったものを示す。
・鉛筆硬度:三菱鉛筆(ユニ)H〜9Hまでを用意し、定圧で芯を滑らせ表面の傷発生の有無を上記と同様にして判定した。評価結果では、傷を発生させなかった鉛筆の最高硬度を示した。
・耐摩耗性(ティッシュ擦り):(株)クレシア製 ケイドライ ワイパー132−Sを四つ折にし、指の圧力を定圧にしながら基板上を往復させ、その後、レーザー顕微鏡(キーエン製)PROFILE MICROSOCOPE VF-7510にて傷の有無を確認した。ティッシュ擦りの回数は200回を最大とし、10回毎に傷の発生の有無を確認した。評価結果において、特に表示がなければ200回でも無傷状態であったことを示す。200回に到る前に、傷の発生を多数確認した場合は、その10回前の回数を表示した。
評価2
基板作製実施例1−1、2、3−1、4および基板作製比較例1で得られた赤色着色白タイルを並列配置し、その上に20Wブラックライト(ナショナル社製)を設置し、1,100μw/cm2の強度で紫外線を照射した。これを42時間にわたって継続し、色彩計CR―200(ミノルタ社製)を用いて赤色の消色評価を行った。結果を表3に示す。
評価3
基板作製実施例1−2、3−2および基板作製比較例1−2で得られた赤色着色白タイルを並列配置し、20Wブラックライト(東芝ライテック社製)を10cm隔離で照射(1,100μw/cm2)して経時の消色率を評価した。結果を表4に示す
上記評価2および評価3における消色率は以下の計算式から求めた。
消色率
=100−√((L2-L0)2+(a2-a0)2+(b2-b0)2)/ √((L1-L0)2+(a1-a0)2+(b1-b0)2)×100
赤インク着色前の各基板の色:(L0,a0,b0)
赤インク着色後の各基板の色:(L1,a1,b1)
紫外線照射後の各基板の色:(L2,a2,b2)
評価1から、無機基板であるガラスを使用しての評価では、酸化チタンと、酸化ジルコニウム及び/または酸化ハフニウムを複合化することで、形成された酸化物複合膜の物理的強度が優れていることが判る。また、造膜するために、加熱処理だけに依らず高圧水銀灯もしくは低圧水銀灯による紫外線照射との併用、あるいは加熱処理を行わずに高圧水銀灯もしくは低圧水銀灯による紫外線照射単独による処理が有効であることがわかる。
高分子基板であるポリカーボネートを使用しての評価では、ガラスと同様の傾向が見られるが、いずれにしても、酸化チタンと、酸化ジルコニウム及び/または酸化ハフニウムを複合化することで酸化物複合膜の物理的強度が向上し、加熱だけでなく高圧水銀灯もしくは低圧水銀灯もしくはブラックライトによる紫外線照射との併用、または高圧水銀灯もしくは低圧水銀灯による紫外線照射単独処理が強固な膜とするために有効な条件である。
Claims (7)
- 酸化チタンと、酸化ジルコニウムおよび/または酸化ハフニウムとを含む複合物から基材表面に形成されていることを特徴とする酸化物複合膜。
- 酸化チタンが、ペルオキソ基で修飾されたアモルファス型および/またはアナターゼ型酸化チタンである請求項1に記載の酸化物複合膜。
- 酸化チタン(A)と、酸化ジルコニウムおよび/または酸化ハフニウム(B)とが、モル比でA:B=1:0.01〜1:0.5の割合で含有されている請求項1に記載の酸化物複合膜。
- 基材が、熱硬化樹脂、熱可塑性樹脂、金属、ガラス、セラミック、コンクリート材、および石材から選ばれる少なくとも1種からなる請求項1に記載の酸化物複合膜。
- 酸化チタンと、酸化ジルコニウムおよび/または酸化ハフニウムとの複合物が水中に分散していることを特徴とする酸化物複合膜形成用塗布液。
- チタンの化合物または有機チタン化合物とジルコニウムの化合物および/またはハフニウムの化合物とを含む溶液を、アルカリ性溶液により中和して各金属の水酸化物の混合物を形成する工程と、該混合物を酸化剤により酸化して超微粒子過酸化物とする工程とを有することを特徴とする酸化物複合膜形成用塗布液の製造方法。
- 請求項5に記載の酸化物複合膜形成用塗布液を基体に塗布して常温以上400℃以下の熱線又は/及び紫外線の電磁波を照射して固着硬化させる、酸化物複合膜の造膜方法。
Priority Applications (1)
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JP2005206520A JP2007022844A (ja) | 2005-07-15 | 2005-07-15 | 酸化物複合膜、該膜形成用塗布液、該塗布液の製造方法及び該膜の造膜方法。 |
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