JP2007012774A - 半導体ウェハ熱処理炉用断熱保温治具 - Google Patents
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Abstract
断熱保温治具の円筒体内部の真空引きを不要として、安全性が高く、生産性、加工性及び取扱性に優れ、且つ処理ガスの円滑な流れを確保でき、充分な断熱保温効果を発揮することのできる半導体ウェハ熱処理炉用断熱保温治具を提供する。
【解決手段】
円盤状のシリカガラス底板体と、該底板体の上面側に立設されたシリカガラス円筒体と、該円筒体の上部を閉塞するシリカガラス天板体とを備える熱処理炉内でウェハ支持ボートを載置するため半導体ウェハ熱処理炉用断熱保温治具であって、該シリカガラス円筒体の内部を少なくとも上部空間と下部空間とに仕切る熱遮蔽性シリカガラス体が具設され、且つ該シリカガラス円筒体の中空部壁面にガス通気孔が穿設されてなるようにした。
【選択図】 図1
Description
Claims (6)
- 円盤状のシリカガラス底板体と、該底板体の上面側に立設されたシリカガラス円筒体と、該円筒体の上部を閉塞するシリカガラス天板体とを備える熱処理炉内でウェハ支持ボートを載置するための半導体ウェハ熱処理炉用断熱保温治具であって、該シリカガラス円筒体の内部を少なくとも上部空間と下部空間とに仕切る熱遮蔽性シリカガラス体が具設され、且つ該シリカガラス円筒体の中空部壁面にガス通気孔が穿設されてなることを特徴とする半導体ウェハ熱処理炉用断熱保温治具。
- 前記熱遮蔽性シリカガラス体が複数の円盤状の熱遮蔽性シリカガラス体からなり、該熱遮蔽性シリカガラス体を前記シリカガラス円筒体の内部に所定間隔で上下に離間した状態で重畳的に内設せしめてなることを特徴とする請求項1記載の半導体ウェハ熱処理炉用断熱保温治具。
- 前記熱遮蔽性シリカガラス体が複数の円盤状の熱遮蔽性シリカガラス体からなると共に前記シリカガラス円筒体が複数のシリカガラス短尺円筒体からなり、該シリカガラス短尺円筒体と該熱遮蔽性シリカガラス体とを交互に積重せしめてなることを特徴とする請求項1記載の半導体ウェハ熱処理炉用断熱保温治具。
- 前記熱遮蔽性シリカガラス体が、不透明シリカガラス体、シリカガラス発泡体、若しくはシリカガラス多孔質体よりなることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項記載の半導体ウェハ熱処理炉用断熱保温治具。
- 前記熱遮蔽性シリカガラス体が、表裏面に透明層を形成し、中間に不透明層を介在させてなる円盤状のシリカガラス積層体であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項記載の半導体ウェハ熱処理炉用断熱保温治具。
- 前記ガス通気孔は、シリカガラス円筒体の中空部壁面の前後対称又は左右対称な位置に複数穿設されていることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項記載の半導体ウェハ熱処理炉用断熱保温治具。
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