JPH07237927A - フランジ部付石英ガラス製器具 - Google Patents
フランジ部付石英ガラス製器具Info
- Publication number
- JPH07237927A JPH07237927A JP3007694A JP3007694A JPH07237927A JP H07237927 A JPH07237927 A JP H07237927A JP 3007694 A JP3007694 A JP 3007694A JP 3007694 A JP3007694 A JP 3007694A JP H07237927 A JPH07237927 A JP H07237927A
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- JP
- Japan
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- quartz glass
- flange portion
- bubble
- instrument
- opaque
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Abstract
を保持できるフランジ部付石英ガラス製器具を提供す
る。 【構成】本発明のフランジ部付石英ガラス製器具は、フ
ランジ部が、比重2.08〜2.18、気泡直径10〜
160μm、気泡密度10万〜60万個/cm3 、ガラ
ス中の気泡総体積3〜10%、ガラス中100cm3 当
たりの気泡総面積が800〜1500cm2 、純度Na
≦0.2ppm ,K≦0.2ppm ,OH≦10ppmの物性
値をもつ不透明石英ガラスで構成されている。
Description
ヤ−、横型及び縦型炉芯管、ボ−ト保持治具等を構成す
るフランジ部付石英ガラス製器具に関し、とくにそのフ
ランジ部の構造に係るものである。
び縦型熱処理装置等のフランジ付き石英ガラス製器具
は、その端部からの輻射熱を低減するため、従来は容器
の端部に形成されるフランジ部を微細気泡入りの不透明
石英ガラスで構成していた。これは、熱処理中に容器内
に発生した輻射熱が容器の下端面に達して、シ−ル用の
Oリングを熱劣化させるので、これを防止するためフラ
ンジ部を不透明石英ガラス層とするもので、その遮蔽効
果によりOリングの熱劣化を防止せんとしている。
来の石英ガラス製器具の不透明石英ガラス層は気泡を多
数含んでいるため、器具の端部からの輻射熱をある程度
低減することができ、Oリングの熱劣化を遅くする効果
はあるが、熱劣化を回避するまでには至っていない。熱
劣化したOリングの使用は、器具内のシール性を失わ
せ、熱処理効果を低減させる。また、実公平1−431
64号公報には、不透明ガラス製容器本体のシール部に
シール面の表面荒さが2μ以下の透明石英ガラス製フラ
ンジを溶着してなる石英ガラス製容器のフランジ部の構
造が開示されているが、これはガスリークを防止できて
もOリングの熱劣化を防止するには十分ではない。本発
明は、Oリングの熱劣化を防止し、器具内のシール性を
保持できるフランジ部付石英ガラス製器具を提供するこ
とを目的とする。
ス製器具のフランジ部について熱エネルギーの遮熱性及
び機械的強度等の点から鋭意検討した結果、このフラン
ジ部の材質として、比重2.08〜2.18、気泡直径
10〜160μm、気泡密度10万〜60万個/cm3
であって、不透明石英ガラス中に占める気泡総体積が3
〜10%、不透明石英ガラス中100cm3 当たりの気
泡総面積が800〜1500cm2 、純度Na≦0.2
ppm ,K≦0.2ppm ,OH≦10ppm の物性を備えた
不透明石英ガラスが、前記目的に最も合致することを知
見した。本発明の石英ガラス製器具は、上記物性をもつ
石英ガラスをフランジ部とするものである。
せたフランジ部のOリング当接面を、表面が平滑な透明
石英ガラス層で形成させることにより、Oリングとのシ
ール性を高め、器具内の燃焼効率を高めることができ
る。このフランジ部のOリング当接面に透明石英ガラス
層を設ける方法としては、ベルヌイ法によって透明石
英ガラス層を積層する、透明石英ガラス板を貼着、圧
着(高温高圧で密着)し、さらに研削して所望の厚さの
層を形成させる、ベルヌイ法によって透明層と不透明
層とを1度につくる、などの方法を任意採用すればよ
い。
する不透明石英ガラス層は、比重2.08〜2.18、
気泡直径10〜160μm、気泡密度10万〜60万個
/cm3 であって、不透明石英ガラス中に占める気泡総
体積が3〜10%、不透明石英ガラス中100cm3 当
たりの気泡総面積が800〜1500cm2 、純度Na
≦0.2ppm ,K≦0.2ppm ,OH≦10ppm の物性
値で構成されているため、器具端部からの輻射熱を効率
よく低減することができ、Oリングの熱劣化を防止し、
器具内のシール性を保持する。
れるフランジ部のOリング当接面に表面が平滑な透明石
英ガラス層を設けることにより、Oリングとフランジ部
のシール性がより高くなり、石英ガラス製器具内のシー
ルをより完全にする。
する。図1は、半導体ウエハ−熱処理装置の炉内にて使
用される石英ガラス製器具の概略断面図であり、図2は
本発明の他の例の石英ガラス製器具の概略断面図であ
る。図1に示すように、透明石英ガラスからなる石英ガ
ラス製器具1のフランジ部2は、比重2.08〜2.1
8、気泡直径10〜160μm、気泡密度10万〜60
万個/cm3 であって、不透明石英ガラス中に占める気
泡総体積が3〜10%、不透明石英ガラス中100cm
3 当たりの気泡総面積が800〜1500cm2 、純度
Na≦0.2ppm ,K≦0.2ppm ,OH≦10ppm の
物性値の不透明石英ガラスで構成され、Oリング3を介
して架台4との間のシール性を保持している。また、図
2では、上記石英ガラス製器具1のフランジ部2のOリ
ング当接面が表面が平滑な透明石英ガラス層5で形成さ
れ、Oリング3を介して架台4との間のシール性を保持
している。
によれば、器具端部からの輻射熱を効率よく低減するこ
とができるので、Oリングの熱劣化を防止し、器具内の
シール性を長期にわたって安定に保持することができ
る。
付石英ガラス製器具の概略断面図。
具の概略断面図。
Claims (2)
- 【請求項1】 フランジ部付石英ガラス製器具におい
て、該フランジ部が下記物性値を持つ不透明石英ガラス
で構成されていることを特徴とするフランジ部付石英ガ
ラス製器具。 比重 2.08〜2.18 気泡直径 10〜160μm 気泡密度 10万〜60万個/cm3 不透明石英ガラス中に占める気泡総体積が3〜10% 不透明石英ガラス中 100cm3 当たりの気泡総面積が 8
00〜 1500 cm2 純度 Na≦0.2ppm ,K≦0.2ppm ,OH≦
10ppm - 【請求項2】 上記フランジ部のシール面に、表面平滑
な透明石英ガラス層を形成させたことを特徴とする請求
項1に記載のフランジ部付石英ガラス製器具。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP03007694A JP3260537B2 (ja) | 1994-02-28 | 1994-02-28 | フランジ部付石英ガラス製器具 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP03007694A JP3260537B2 (ja) | 1994-02-28 | 1994-02-28 | フランジ部付石英ガラス製器具 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07237927A true JPH07237927A (ja) | 1995-09-12 |
JP3260537B2 JP3260537B2 (ja) | 2002-02-25 |
Family
ID=12293717
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP03007694A Expired - Fee Related JP3260537B2 (ja) | 1994-02-28 | 1994-02-28 | フランジ部付石英ガラス製器具 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3260537B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09183624A (ja) * | 1995-12-27 | 1997-07-15 | Shinetsu Quartz Prod Co Ltd | 石英ガラス製フランジ及びその製造方法 |
EP0816297A1 (en) * | 1996-07-04 | 1998-01-07 | Tosoh Corporation | Opaque quartz glass and process for production thereof |
JPH1053498A (ja) * | 1996-08-07 | 1998-02-24 | Yamagata Shinetsu Sekiei:Kk | 半導体ウェーハの反応容器と該容器を用いた熱処理装置 |
JPH1053499A (ja) * | 1996-08-07 | 1998-02-24 | Yamagata Shinetsu Sekiei:Kk | ウエーハ熱処理装置及びそのウエーハ装填方法 |
JPH11209135A (ja) * | 1998-01-27 | 1999-08-03 | Tosoh Corp | 透明部を有する不透明石英ガラスリングの製造方法 |
JPH11236234A (ja) * | 1998-02-24 | 1999-08-31 | Tosoh Corp | 不透明石英ガラスリングの製造方法 |
-
1994
- 1994-02-28 JP JP03007694A patent/JP3260537B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09183624A (ja) * | 1995-12-27 | 1997-07-15 | Shinetsu Quartz Prod Co Ltd | 石英ガラス製フランジ及びその製造方法 |
EP0816297A1 (en) * | 1996-07-04 | 1998-01-07 | Tosoh Corporation | Opaque quartz glass and process for production thereof |
JPH1053498A (ja) * | 1996-08-07 | 1998-02-24 | Yamagata Shinetsu Sekiei:Kk | 半導体ウェーハの反応容器と該容器を用いた熱処理装置 |
JPH1053499A (ja) * | 1996-08-07 | 1998-02-24 | Yamagata Shinetsu Sekiei:Kk | ウエーハ熱処理装置及びそのウエーハ装填方法 |
JPH11209135A (ja) * | 1998-01-27 | 1999-08-03 | Tosoh Corp | 透明部を有する不透明石英ガラスリングの製造方法 |
JPH11236234A (ja) * | 1998-02-24 | 1999-08-31 | Tosoh Corp | 不透明石英ガラスリングの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3260537B2 (ja) | 2002-02-25 |
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