JPS5852473A - 金属材料の表面処理法 - Google Patents

金属材料の表面処理法

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JPS5852473A
JPS5852473A JP14904281A JP14904281A JPS5852473A JP S5852473 A JPS5852473 A JP S5852473A JP 14904281 A JP14904281 A JP 14904281A JP 14904281 A JP14904281 A JP 14904281A JP S5852473 A JPS5852473 A JP S5852473A
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JP
Japan
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vessel
metal
gaseous
plate
gas
Prior art date
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Pending
Application number
JP14904281A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshihiko Odohira
尾土平 俊彦
Tetsuyoshi Wada
哲義 和田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Heavy Industries Ltd filed Critical Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Publication of JPS5852473A publication Critical patent/JPS5852473A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C8/00Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
    • C23C8/06Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases
    • C23C8/08Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases only one element being applied
    • C23C8/24Nitriding

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 金属材料表面に炭化物1窒化物、水素化物等の金属化合
物より成る被膜を生成きせる方法としては、イオンプレ
ーテング法、イオンスパッタリング法、電子ビーム真空
蒸着法あるいはブーラスマ’f8 対決’Jがある。イ
オンプレーテング法。
イオンスパッタリング法、電子ビーム蒸着処理による被
覆処理法は何れも被覆材料となる蒸着材を電気抵抗加熱
法、プラズマアーク等の方法で所望の、温度まで加熱し
、真空下に於て蒸発あるいは蒸発過程で雰囲気ガスと反
応させて1表面処理の対象となる金属材料表面に被覆す
る方法であるため、処理容器としては所望の、真空条件
を生成せしめる真空設備に加えて、容器内に゛ン′着材
料を加熱する加熱装置の設置性を必要とするため、処理
対象となる金属材料の形状、・J法に制約を受け、連続
的処理が困難である。
させるが、処理面に於て急冷を受けるため被覆材と・母
材の熱物性値の差がある場合、被膜の破損、剥離1等の
欠点があり、又、溶射被膜の生成過程で若干酸化現象を
生じ、酸化物の混入により被膜の性能劣化も懸念される
。本発明はかかる“従来の被覆処理法の欠点を克服する
新しい方法を提供するものである。即ち図1に示す如く
、処理対象となる金属材料1を処理容器V中の冷却台2
上に設置し、該容器V内に七ける大気を真空ポンプ9.
真空排気バルブ8などの排気装置により排気後、該容器
V中に所望の反応性ガスをガス導入バルブ6を通じ導入
する。反応性ガスは流通状態でも良いし、又“該容器内
で所望の圧力を保ら密閉状態でも良い。かかる条件下で
、容器内の所定個所に設置されたガラス等濤明材を嵌装
したレーザ光投入窓5部を通じ。
レーザ発生装置4より生成されたレーザ光をレーザ反射
鏡5を介して導入し、処理対象となる金属材料1の所望
個所の表向に照射し、所定の金属化合物が生成ijJ能
な温度まで昇温せしめ、雰囲気ガスと反応させて金属化
合物を生成せしめる。
かかる方法を適用することにより、処理容器、、パ ■は従来のそれと異り、容器内に加熱源は不要となり、
限定ばれた所望部分に選択的に被膜の生成が可能となる
こと、又被膜の生成が外部より飛来して来た物質により
積層される方法によらぬため1表面生成被膜と母材の間
には不連続層が生じることがなく、良好な密着性を持つ
ことになり密着性の秀れた被膜を得ることが出来る。以
下に実施例を述べる。
〈実施例1ン被処理物の金属材料1として厚み1μmの
Tl板を本発明適用口]能な図1に示す処理容器v中に
設置し、容器V内の大気を真空ボン/9により10mm
HgK排気後、 2Ky/erA O窒素カ/、イより
置換し、然る後、出力3KWのレーザ発11j・置4よ
り発生するCO2ガスレーザ光によりT1板表面をレー
ザ反射鏡50角度を変えて順次引走査し1表面温度を1
400’Oに保持した結Ill板表面に厚み5μのTi
N被膜が生成さ第1た。
4実施例2)同様の方法により、雰囲気ガス(2に9/
C++! )をOH4に変えてレーザ照射した結果Ti
板表面に6μのTieの被膜が生成された。
〈実施例3)同様の方法により、金属材料1\とし、”
 : aN 15合金板を用い、雰囲気ガスとして10
に9/C−の水素ガス中でレーザ光を照射した結果、金
属水素化物LaNi5H6の被膜が生成された。
以上述べた如く1本発明を適用すれば金属材料1の表面
に所望の金属化合物より成る被膜を容易に生成せしめる
ことがpJ能となり工業的に秀れた表面処理法と考えら
れる。
【図面の簡単な説明】
図1は本発明を実施するだめの装置の模式図である。 1:金属材料 6:ガス導入バルブ 2:冷却台  7:ガス排出バルブ 3:レーザ光投入窓8:真空排気バルブ4 : レーザ
発生装置 9 :真空ポンプ5 : レーザ故A−篠碓 目 1

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 金属材料の表面に炭化物、窒化物、水素化物等の金属化
    合物より成る被膜を生成する方法として、処理対象とな
    る金属材料を窒素ガス、炭化水素ガスあるいは水素ガス
    等の雰囲気ガスを含む容器中に設置し、該容器外部より
    該金属材料の表面にレーザ光を照射して金属化合物が生
    成υ1能な温度に加熱保持し、該金属材料の表面に金属
    化合物被膜を生成させることを特徴とする金属材料の表
    面処理法。
JP14904281A 1981-09-21 1981-09-21 金属材料の表面処理法 Pending JPS5852473A (ja)

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