JP2007005767A - 接合型電界効果トランジスタ及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】
接合型電界効果トランジスタの重要な課題のひとつであるIDSS特性のばらつきを抑えた接合型電界効果トランジスタ及び接合型電界効果トランジスタの製造方法を提供する。
【解決手段】
第1の導電型半導体層11と、第1の導電型半導体層11上に設けられた第2の導電型半導体層12と、第2の導電型半導体層12に設けられた素子形成領域と、素子形成領域を囲むガードリング領域19と、を備え、ガードリング領域19は、第2の導電型半導体層12を貫通し、第1の導電型半導体層11の表面に達する絶縁分離層を有し、絶縁分離層の側面に第1の導電型半導体層11を設けた接合型電界効果トランジスタ。
【選択図】図1
接合型電界効果トランジスタの重要な課題のひとつであるIDSS特性のばらつきを抑えた接合型電界効果トランジスタ及び接合型電界効果トランジスタの製造方法を提供する。
【解決手段】
第1の導電型半導体層11と、第1の導電型半導体層11上に設けられた第2の導電型半導体層12と、第2の導電型半導体層12に設けられた素子形成領域と、素子形成領域を囲むガードリング領域19と、を備え、ガードリング領域19は、第2の導電型半導体層12を貫通し、第1の導電型半導体層11の表面に達する絶縁分離層を有し、絶縁分離層の側面に第1の導電型半導体層11を設けた接合型電界効果トランジスタ。
【選択図】図1
Description
本発明は、接合型電界効果トランジスタ及びその製造方法に関する。特に、ドレイン電流(IDSS)特性のばらつきを改良した接合形電界効果トランジスタに関するものである。
図4に従来の接合型電界効果トランジスタ90(JFET:Junction Field Effect Transistor)の構造を示す。JFETは、ゲート電極とチャネルの間に絶縁膜ではなく、pn接合などの空乏層を用いたものである。
図4に示すように、従来のJFET90は、p型半導体基板91上にn型エピタキシャル層92が位置し、n型エピタキシャル層92内には、n+型ドレイン領域93とn+型ソース領域94が形成されている。n+型ドレイン領域93とn+型ソース領域94の間には、p+型ゲート領域95が形成されている。
さらに、n+型ドレイン93領域とn+型ソース94領域の上には、層間絶縁層97を介してアルミ電極によって形成される、ドレイン電極98とソース電極99が形成されている。また、n+型ドレイン領域93とn+型ソース領域94の、p+型ゲート領域95と反対側には、n型エピタキシャル層92を貫通するように、p+型ガードリング領域96が形成されている。このp+型ガードリング領域96によって隣接のJFET素子との隔絶を行っている。
このp+型ゲート領域95の形成において、p+型ゲート領域95とp型半導体基板91との間に挟まれた薄いn型エピタキシャル層92からなるチャネル部の厚さを所望の厚さに設定する必要がある。p+型ゲート領域95の深さを制御することによって、ゲート・ソース間短絡時の電圧・電流特性である飽和ドレイン電流IDSSや、JFETのピンチオフ電圧VPが制御されている。
従来のJFET90において、p+型ガードリング領域96が隣接のJFET素子との隔絶を行うために、p+型ガードリング領域96を確実にp型半導体基板91まで貫通するように作成されている。そのために、高温・長時間の拡散工程、例えば、1100℃で1時間の熱処理が必要である。
特開平09−232333号公報
しかしながら、p+型ガードリング領域96を作成するために高温での熱処理を行うが必要であるため、p型半導体基板91からn型エピタキシャル層92へのp型不純物のはい上がりが生じる。このはい上がりは、ウェハ面内で一様におこらない。
このため、n型エピタキシャル層92からなるチャネル部の厚さがウェハ間、ウェハ面内で不均一となり、ゲート・ソース間短絡時の飽和ドレイン電流IDSSやJFETのピンチオフ電圧VPにばらつきが生じる原因となっている、特に、ウェハ径が長いほどウェハ面内での熱履歴のばらつきが大きくなるため、IDSSやVPのばらつきが大きくなる傾向にある。
JFETの重要特性の一つとしてのIDSS特性には製品規格区分が存在するため、IDSS特性のばらつきが、製品歩留に直結する。そのため、JFETの重要な課題のひとつとして、IDSS特性のばらつきを抑えることにある。
本発明の一つの態様に係る接合型電界効果トランジスタは、第1の導電型半導体層と、前記第1の導電型半導体層上に設けられた第2の導電型半導体層と、前記第2の導電型半導体層に設けられた素子形成領域と、前記素子形成領域を囲むガードリング領域と、を備え、前記ガードリング領域は、前記第2の導電型半導体層を貫通し、前記第1の導電型半導体層の表面に達する絶縁分離層を有し、前記絶縁分離層の側面に第1の導電型半導体層を設けたものである。
本発明の他の態様に係る接合型電界効果トランジスタの製造方法は、第1の導電型半導体層上に、第2の導電型の半導体層を形成し、前記第2の導電型の半導体層に、阻止形成領域を形成し、前記素子形成領域にアクティブ素子を形成し、前記第2の導電型半導体層を貫通し、前記第1の導電型半導体層の表面に達する中空のトレンチ構造を形成し、前記トレンチ構造の側面に前記第1の導電型の半導体層を形成する接合型電界効果トランジスタの製造方法である。
本発明に係る接合型電界効果トランジスタ及び接合型電界効果トランジスタの製造方法によれば、ウェハ面内、ウェハ間の素子間でのIDSSのばらつきを抑えることが可能となり、その結果として製品歩留を向上させることができ、製品の製造単価を下げることが可能となる。
以下、本発明を適用した具体的な実施の形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。説明の明確化のため、以下の記載及び図面は、適宜、省略及び簡略化がなされている。又、各図面において、同一要素には同一の符号が付されており、説明の明確化のため、必要に応じて重複説明は省略されている。
本実施の形態に係る接合型電界効果トランジスタ(JFET:Junction Field Effect Transistor)1の断面図を図1に示し、上面図を図2に示す。p型半導体基板11の上にn型エピタキシャル層12が位置している。n型エピタキシャル層12の素子形成領域内には、n+型ドレイン領域13とn+型ソース領域14が形成されており、n+型ドレイン領域13とn+型ソース領域14の間には、p+型ゲート領域15が形成されている。n+型ドレイン領域13、n+型ソース領域14、及びp+型ゲート領域15が形成されている領域をアクティブ領域とする。
アクティブ領域の上面には、層間絶縁膜16が形成されている。n+型ドレイン領域13上においては、層間絶縁層16が除去され、ドレイン電極17が形成されている。また、n+型ソース領域14上においては、層間絶縁層16が除去され、ソース電極18が形成されている。
本実施の形態に係るJFET1においては、n+型ドレイン領域13とn+型ソース領域14との、p+型ゲート領域15と反対側に、n型エピタキシャル層12を囲み、絶縁分離層であるトレンチ構造20が形成されたガードリング領域19を形成している。ここでいう、トレンチ構造20とは、素子同士を分離するために設けられた溝である。ガードリング領域19は、トレンチ構造20の側面に第1の導電型半導体層であるp+型導電型層21が形成されている。このトレンチ構造20内は、中空であってもよいし、側面が絶縁膜で覆われていてもよい。また、トレンチ構造20内が絶縁膜で埋め込まれていても良い。
トレンチ構造20は、n型エピタキシャル層12をp型基板11の表面までエッチングすることによって作成されている。トレンチ構造20の側面に、p+型導電型層21が形成されている。
このp+型導電型層21が形成されることによって、p+型ゲート領域15、p+型導電型層21、及びp型基板11を同電位にすることが可能となる。このため、ドレイン電極17、ソース電極18、p+型ゲート領域15に電圧が印加されると、p+型ゲート領域15の周辺とn型エピタキシャル層12との界面、p+型導電型層21とn型エピタキシャル層12との界面、及びp型基板11とn型エピタキシャル層12との界面に空乏層が形成される。
この空乏層を制御することによって、ドレイン電流を制御している。p+型ゲート領域15、p+型導電型層21、及びp型基板11は、同電位にすることによって、IDSS特性を容易に制御することが可能になっている。
次に、本実施の形態に係るJFET1の製造方法について説明する(図3参照)。まず、p型基板11の上にエピタキシャル成長によって、n型エピタキシャル層12を形成する(図3(a)、(b))。次に、ガードリング領域19にあたる部分を、例えばSiエッチングによって、トレンチ構造20を形成する(図3(c))。
その後、拡散又は斜めイオン注入によってp+型導電型層21を形成し、ガードリング領域19を形成する(図3(d))。この拡散又は斜めイオン注入を用いることによって、ガードリング領域19を長時間の熱処理を用いることなく、p型基板11まで貫通するようなガードリングを作成することができる。特に、斜めイオン注入においては、高温にする必要性がないため、素子内の特性を制御することが非常に容易となる。
さらに、n+型ドレイン領域13とn+型ソース領域14とp+型ゲート領域15をガードリング領域19の間に、例えばイオン注入または拡散によって形成する(図3(e))。その後、層間絶縁層16を形成し、n+型ドレイン領域13とn+型ソース領域14の上部を選択的にエッチングして、アルミ電極を用いてドレイン電極17とソース電極18を作成し、本実施の形態に係るJFET1を製造する(図3(f))。
以上のことから、本実施の形態に係るJFET1の製造方法においては、長時間の高温熱処理を行うことがなく、ガードリング領域19を形成することができる。そのため、p型基板11からn型エピタキシャル層12へのp型不純物のはい上がりを抑制することが可能となり、チャネル領域にあたるn型エピタキシャル層12の深さが制御できる。
また、ガードリング領域19内で、トレンチ構造20を作成し、トレンチ構造20の側面及び底部にp+型導電型層21を作成しているため、p型基板11とp+型ゲート領域15とp型導電型層21を同電位にし、これらとチャネル層にあたるn型エピタキシャル層12との界面に生じる空乏層を制御することが容易になる。そのため、IDSS特性のばらつきを抑制したJFET1を作成することが可能となる。
なお、上記の説明においては、p型基板11上にn型エピタキシャル層12を積層させ作成された接合型電界効果トランジスタを用いたが、この導電型は反対であってもよい。
また、図1において、中空の部分がp型基板11まで貫通していたが、トレンチ構造20の側面に第1の導電型半導体層が形成され、素子同士を分離することが可能であればよく、トレンチ構造20の側面および底面が絶縁膜で被覆されていても良いし、トレンチ構造20の内部が絶縁膜で埋め込まれていても良い。トレンチ構造20の底面には、第1の導電型の半導体層が形成されているため、トレンチ構造20の側面に形成された第1の導電型半導体層と接続され、素子分離される。さらに、トレンチ構造20が貫通する部位は、基板だけでなく、基板上に設けられた基板と同電位型の半導体層でもよい。以上のように、本発明は上述した実施の形態のみに限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更が可能であることは勿論である。
11 p型半導体基板 12 n型エピタキシャル層 13 n+型ドレイン領域
14 n+型ソース領域 15 p+型ゲート領域 16 層間絶縁層
17 ドレイン電極 18 ソース電極 19 ガードリング領域
20 トレンチ構造 21 p+型導電型層
91 p型半導体基板 92 n型エピタキシャル層 93 n+型ドレイン
94 n+型ソース 95 p+型ゲート 96 p型ガードリング領域
97 層間絶縁層 98 ドレイン電極 99 ソース電極
14 n+型ソース領域 15 p+型ゲート領域 16 層間絶縁層
17 ドレイン電極 18 ソース電極 19 ガードリング領域
20 トレンチ構造 21 p+型導電型層
91 p型半導体基板 92 n型エピタキシャル層 93 n+型ドレイン
94 n+型ソース 95 p+型ゲート 96 p型ガードリング領域
97 層間絶縁層 98 ドレイン電極 99 ソース電極
Claims (7)
- 第1の導電型半導体層と、
前記第1の導電型半導体層上に設けられた第2の導電型半導体層と、
前記第2の導電型半導体層に設けられた素子形成領域と、
前記素子形成領域を囲むガードリング領域と、を備え、
前記ガードリング領域は、前記第2の導電型半導体層を貫通し、前記第1の導電型半導体層の表面に達する絶縁分離層を有し、
前記絶縁分離層の側面に第1の導電型半導体層を設けた接合型電界効果トランジスタ。 - 前記絶縁分離層は、中空であるトレンチ構造を含む、請求項1に記載の接合型電界効果トランジスタ。
- 前記絶縁分離層の側面と底面が絶縁膜で覆われている、請求項1又は請求項2に記載の接合型電界効果トランジスタ。
- 第1の導電型半導体層上に、第2の導電型の半導体層を形成し、
前記第2の導電型の半導体層に、素子形成領域を形成し、
前記素子形成領域に、アクティブ素子を形成し、
前記第2の導電型半導体層を貫通し、前記第1の導電型半導体層の表面に達する中空のトレンチ構造を形成し、
前記トレンチ構造の側面に前記第1の導電型半導体層を形成する、接合型電界効果トランジスタの製造方法。 - 前記トレンチ側面の第1の導電型の半導体層を、斜めイオン注入によって作成する請求項4に記載の接合型効果トランジスタの製造方法。
- 前記トレンチ側面又は/及び底面に絶縁膜を形成する請求項4又は請求項5に記載の接合型効果トランジスタの製造方法。
- 前記トレンチ構造を作成した後に前記アクティブ素子を形成する、請求項4乃至請求項6のいずれか一項に記載の接合型電界効果トランジスタの製造方法。
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JP2006117364A JP2007005767A (ja) | 2005-05-23 | 2006-04-21 | 接合型電界効果トランジスタ及びその製造方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US9269830B2 (en) | 2010-05-17 | 2016-02-23 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Junction field effect transistor and analog circuit |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01218039A (ja) * | 1988-02-26 | 1989-08-31 | Nec Corp | 半導体装置 |
JPH0298958A (ja) * | 1988-10-05 | 1990-04-11 | Sharp Corp | 半導体素子の分離構造 |
JPH09232333A (ja) * | 1996-02-28 | 1997-09-05 | Nec Corp | 接合型電界効果トランジスタ及びその製造方法 |
JP2002009275A (ja) * | 2000-06-22 | 2002-01-11 | Fujitsu Ltd | 電界効果型化合物半導体装置 |
-
2006
- 2006-04-21 JP JP2006117364A patent/JP2007005767A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01218039A (ja) * | 1988-02-26 | 1989-08-31 | Nec Corp | 半導体装置 |
JPH0298958A (ja) * | 1988-10-05 | 1990-04-11 | Sharp Corp | 半導体素子の分離構造 |
JPH09232333A (ja) * | 1996-02-28 | 1997-09-05 | Nec Corp | 接合型電界効果トランジスタ及びその製造方法 |
JP2002009275A (ja) * | 2000-06-22 | 2002-01-11 | Fujitsu Ltd | 電界効果型化合物半導体装置 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9269830B2 (en) | 2010-05-17 | 2016-02-23 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Junction field effect transistor and analog circuit |
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