JP2006523957A - 発光素子 - Google Patents
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Abstract
Description
一の実施形態では、本発明は複数の材料から成る多層積層体を含む発光素子を特徴とする。複数の材料から成る多層積層体は、光発生領域、及び光発生領域に支持される第1層を含む。第1層の表面は、光発生領域が生成する光を発光素子から第1層の表面を通して放出することができるように構成される。第1層の表面は、パターンに従って空間的に変化する誘電関数を有し、そしてパターンは理想的な格子定数及びゼロよりも大きい値の微調整(detuning)パラメータを有する。
1層を含む。第1層の表面は、光発生領域が生成する光を発光素子から第1層の表面を通して放出することができるように構成され、そして表面は複素周期パターンに従って空間的に変化する誘電関数を有する。
い。
複数の材料から成る多層積層体は、複数の半導体材料から成る多層積層体により形成することができる。第1層はn型半導体材料層とすることができ、そして多層積層体は更に、p型半導体材料層を含むことができる。光発生領域は、n型半導体材料層とp型半導体材料層との間に設けることができる。
発光素子は更に、光発生領域によって生成される光の少なくとも50%の光であって、反射材料層に衝突する光を反射する機能を備える反射材料層を含むことができる。反射材料層は、支持体と、複数の材料から成る多層積層体との間に設けることができる。p型半導体材料層と反射材料層との間の距離は、n型半導体材料層と反射材料層との間の距離よりも短くすることができる。発光素子は更に、p型オーミックコンタクト層をp型半導体材料層と反射材料層との間に含むことができる。
複数の材料から成る多層積層体は、例えばIII−V族半導体材料、有機半導体材料、及び/又はシリコンのような半導体材料により形成することができる。
或る実施形態では、パターンは第1層を超えて延びることがない。
或る実施形態では、パターンは第1層を超えて延びる。
、第1層の複数の連続する筋(vein)、第1層の複数の不連続な筋、及びこれらの組合せの中から選択される部品により形成することができる。
或る実施形態では、パターンは非周期パターン、準結晶パターン、ロビンソン(Robinson)パターン、及びアムマン(Amman)パターンから選択することができる。或る実施形態では、パターンはペンローズ(Penrose)パターンである。
微調整パラメータは、例えば理想格子定数の少なくとも約1%、そして/または理想格子定数の最大約25%とすることができる。或る実施形態では、パターンはほぼランダムに微調整された理想パターンに対応させることができる。
或る実施形態では、発光素子はパッケージングされる(例えば、パッケージチップの形で)。或る実施形態では、パッケージングされた発光素子には封止材料が不要となる。
或る実施形態では、第1層の表面に接触する材料は少なくとも約1の屈折率を有する。
ウェハを形成する方法では、リン材料を配置して約20%未満だけ変化する厚さを有する層を形成することができる。本方法では、リン材料層の厚さが約20%未満だけ変化するようにリン材料層を平坦化することができる。本方法ではまた、リン材料を第1層の表面の上に配置した後に、リン材料を平坦化することができる。リン材料は、例えばスピン塗布により第1層の表面の上に形成することができる。本方法では、ウェハから複数の発光素子を形成し、そしてこれらの発光素子の内の少なくとも幾つかの発光素子を互いから分離することができる。
発光素子を形成する方法では更に、反射材料層をp型材料層に接着させる前に、第1層を基板に接着させることができ、この場合、複数の材料から成る多層積層体は基板と反射材料層との間に位置する。本方法ではまた、接着層を第1層と基板との間に形成することができる。本方法ではまた、基板を取り外すことができる。本方法は更に、基板を取り外す工程の後に、ラッピング工程及び研磨工程を含むことができる。基板は、反射材料層を第1層に接着させた後に取り外すことができる。基板を取り外す工程においては、第1層と基板との間に配置される接着層を加熱することができる。接着層を加熱する工程においては、接着層の少なくとも一部を分解することができる。接着層を加熱する工程においては、接着層をレーザからの放射線に晒すことができる。基板を取り外す工程においては、基板をレーザリフトオフ法を使用してレーザ光に晒すことができる。基板を取り外すことにより、第1層の表面をほぼ平坦にすることができる。本方法では更に、パターンを第1層の表面に形成する前に、かつ基板を取り外した後に、第1層の表面を平坦化することができる。第1層の表面を平坦化する工程においては、第1層の表面に化学機械研磨を施すことができる。第1層の表面を平坦化することによって、第1層の表面の粗さを、約λ/5超にまで小さくすることができ、この場合、λは第1層が放出することができる光の波長である。パターンを形成する工程では、ナノリソグラフィを使用することができる。本方法ではまた、基板を反射材料層の上に配置することができる。本方法では更に、電流拡散層を第1層と光発生領域との間に配置することができる。
或る実施形態では、LED及び/又は非常に大きなLEDチップは、非常に大きな表面輝度、非常に大きな平均表面輝度を示し、熱放散の必要性が非常に小さい、または熱放散の速度が非常に大きく、エテンデュー(etendue:利用できる光源の面積×立体角)を大きく減らすことができ、そして/または電力効率を非常に高くすることができる。
るパッケージLED)は、リン材料から成る非常に均一なコーティングを含むことができる。
種々の図における同様の参照符号は同様の構成要素を指す。
図1は、パッケージチップ(packaged die)構成のLED100の側面図を示している。LED100は、サブマウント120上に配置される多層積層体122を含む。多層積層体122は320nm厚さのシリコン添加(n型)GaN層134を含み、このGaN層は複数の開口150から成るパターンをその上側表面110に有する。多層積層体122はまた、接着層124、100nm厚さの銀層126、40nm厚さのマグネシウム添加(p型)GaN層128、複数のInGaN/GaN量子井戸により形成される120nm厚さの光発生領域130、及びAlGaN層132を含む。n側コンタクトパッド136は層134の上に配置され、そしてp側コンタクトパッド138は層126の上に配置される。封止材(屈折率が1.5のエポキシ)144は層134とカバースリップ140と支持体142との間に設けられる。層144は複数の開口150の内部には延在しない。
れると領域130内で結合する電子−正孔ペアを生じさせるので、領域130は光を生成する。同様に、領域130によって生成される光の少なくとも或る部分はパッド136に振り向けられる。パッド136の下側は、光発生領域130によって生成される光の少なくとも或る部分を反射する材料(例えばTi/Al/Ni/Au合金)により形成される。従って、パッド136に振り向けられる光はパッド136によって反射され、続いてLED100から表面110を通って放出される(例えば、銀層126によって反射されることにより)、またはパッド136に振り向けられる光はパッド136によって反射され、次にLED100の半導体材料内部で吸収されると領域130内で結合する電子−正孔ペアを生じさせるので、領域130は光を生成する(例えば、銀層126によって反射されることにより、または反射されることなく)。
Raton, FL, 1993)、A. Tafloveによる「計算電気力学:有限差分時間領域法」と題する非特許文献2(Artech House, London, 1995)を参照されたく、これらの文献の両方を本明細書において参照することにより、これらの文献の内容が本発明の開示に含まれる。特定パターン150を有するLED100の光動作を説明するために、FDTD計算の入力パラメータは、光発生領域130の点双極子放射源が放出する光の中心周波数及び帯域幅、多層積層体122内の各層の寸法及び誘電特性、及びパターン150の開口の直径、深さ、及び最近接開口間距離(NND)を含む。
次のように計算される。FDTD法を使用して完全ベクトルの、時間に依存する(full−vector time−dependent)マクスウェル方程式を解く。
できる。
できる基本パターンを近似することができる。
するが、これは散乱強度(εG)が大きくなるからである。最大値はこの特定の系では約48%の充填率で生じる。或る実施形態では、LED100は少なくとも約10%(例えば少なくとも約15%、少なくとも約20%)及び/又は最大約90%(例えば最大約80%、最大約70%、最大約60%)の充填率を有する。
University Press, Cambridge, England 1996)に記載されており、この文献を本明細書において参照することによりこの文献の内容が本発明の開示に含まれる。数値計算によって、取り出し効率が8重準周期構造(class of 8−fold based quasi−periodic structure)が変化するとともにどのように変化するかが分かる。準結晶パターンは、このような構造によって可能になる面内回転対称性が高いので高い取り出し効率を示すと考えられる。光取り出し効率を高くする方法、該当する数値計算を行なう方法、及び図11に示すパターンを有する発光素子の光取り出し効率を高めることに関する物理的説明は概して上述の説明と同じである。図11に示すFDTD計算による結果は、準結晶構造の取り出し効率が約82%に達することを示している。図11に示すデータは、図1に示すLED100に与えられるパラメータを使用して計算されるが、これらのパラメータの中で、放出光が450nmのピーク波長を有し、かつNND(最近接開口間距離)が個々のセル内部の開口の間の距離として定義される点が異なる。
加えることによって、取り出し効率を高くすることができると考えられる。
ートル)×(少なくとも約1ミリメートル))を有することができる。
の内側で放出される。
をそのままにして、局部的に平坦ではない境界を素子100に設けることにより素子の取り出し効率を上げ易くすることができる。粗表面によって、顕微鏡的なサイズの平滑性を有する表面よりも、表面700に複数回衝突する光線が最終的に表面をスネルの法則で与えられる臨界角度未満の角度で衝突し、そして表面700から取り出される確率が高くなる。
時にチップを機械的に、かつ周りの環境から保護する機能を備える必要がある。例えば、封止材を使用しない場合に、透明カバーをLEDチップの上にパッケージングして506のパターニング済み表面を保護する。カバースリップを支持体142に、炉の中で溶融するガラスフリットを使用して取り付ける。支持体の反対側の両端部は、例えばキャップ溶接またはエポキシを使用して接続される。支持体は通常、ニッケルメッキしてパッケージの金メッキ表面への溶接を容易にする。封止層を設けないことによって、LED100のパターニング済み表面の単位面積当たりの許容電力負荷を大きくすることができると考えられる。封止材の劣化は、標準LEDの普通の故障メカニズムであり、封止層を使用しないことによって回避される。
一例として、発光素子及び関連する層の或る厚さは上に議論したものであるが、他の厚さを採用することも可能である。一般的に、発光素子はどのような所望の厚さを有することもでき、そして発光素子内の個々の層はどのような所望の厚さを有することもできる。通常、多層積層体122内部の層の厚さは、光発生領域130との光モードの空間的重なりを大きくして領域130において生成される光の出力が大きくなるように選択される。発光素子の或る層の例示としての厚さは次の如くである。或る実施形態では、層134は少なくとも約100nm(例えば、少なくとも約200nm、少なくとも約300nm、少なくとも約400nm、少なくとも約500nm)及び/又は最大約10ミクロン(例えば、最大約5ミクロン、最大約3ミクロン、最大約1ミクロン)の厚さを有することができる。或る実施形態では、層128は少なくとも約10nm(例えば、少なくとも約25nm、少なくとも約40nm)及び/又は最大約1ミクロン(例えば、最大約500nm、最大約100nm)の厚さを有することができる。或る実施形態では、層126は少なくとも約10nm(例えば、少なくとも約50nm、少なくとも約100nm)及び/又は最大約1ミクロン(例えば、最大約500nm、最大約250nm)の厚さを有することができる。或る実施形態では、光発生領域130は少なくとも約10nm(例えば、少なくとも約25nm、少なくとも約50nm、少なくとも約100nm)及び/又は最大約500nm(例えば、最大約250nm、最大約150nm)の厚さを有することができる。
うな半導体材料(例えば、III−V族半導体材料、有機半導体材料、シリコン)も使用することができる。他の光発生材料の例としては、InGaAsP,AlInGaN,AlGaAs,InGaAlPが挙げられる。有機発光材料には、アルミニウムトリス−8−ヒドロキシキノリン(Alq3)のような小分子及びポリ[2−メトキシ−5−(2−エチルへキシルオキシ)−1,4−ビニレンフェニレン]またはMEH−PPVのような共役ポリマーが含まれる。
0はパターニングすることができる、またはパターニングしなくてもよい。例えば、表面110はパターニングしないが、粗面化することができる(すなわち、λ/5未満の種々のサイズ及び形のランダムに分布させた形状を有する)。
或る実施形態では、リン材料を含有するカバー層140を含むことができる。このような実施形態では、表面110はパターニングすることができる、またはパターニングしなくてもよい。
Claims (29)
- 複数の材料から成り、かつ光発生領域と、光発生領域によって支持される第1層と、を含む多層積層体を備え、
第1層の表面は、光発生領域が生成する光を、発光素子から第1層の表面を通して放出することができるように構成され、
第1層の表面は、パターンに従って空間的に変化する誘電関数を有し、
パターンは、光発生領域によって生成され、かつ発光素子から第1層の表面を通して放出される光が、ランバート分布を示す光よりも平行度が高くなるように構成される、発光素子。 - 光発生領域によって生成される光が発光素子から第1層の表面を通して放出されるときに、第1層の表面を通して放出される光の少なくとも約40%の光は、第1層の表面の法線に対して最大約30°の角度の範囲内で放出される、請求項1記載の発光素子。
- 発光素子の充填率は少なくとも約10%である、請求項1記載の発光素子。
- 発光素子の充填率は最大約75%である、請求項3記載の発光素子。
- 発光素子の充填率は最大約75%である、請求項1記載の発光素子。
- 更に、複数の材料から成る多層積層体を支持する支持体を備える、請求項1記載の発光素子。
- 更に、反射材料層を備え、この反射材料層は、光発生領域が生成する光の少なくとも約50%の光であって、反射材料層に衝突する光を反射する機能を有し、反射材料層は、支持体と複数の材料から成る多層積層体との間に位置する、請求項6記載の発光素子。
- 反射材料はヒートシンク材料である、請求項7記載の発光素子。
- ヒートシンク材料は、ヒートシンク材料が発光素子の使用の間に垂直方向の熱勾配を有するように構成される、請求項8記載の発光素子。
- 更に、ヒートシンク材料を備える、請求項7記載の発光素子。
- ヒートシンク材料は、ヒートシンク材料が発光素子の使用の間に垂直方向の熱勾配を有するように構成される、請求項10記載の発光素子。
- 更に、第1層と光発生領域との間に電流拡散層を含む、請求項1記載の発光素子。
- 更に、電流を発光素子に注入するように構成される電気コンタクトを備える、請求項1記載の発光素子。
- 電気コンタクトは、電流を発光素子に垂直方向に注入するように構成される、請求項13記載の発光素子。
- 発光素子は、発光ダイオード、レーザ、光増幅器、及びこれらの組合せから成るグループから選択される、請求項1記載の発光素子。
- 発光素子は発光ダイオードを含む、請求項1記載の発光素子。
- 発光素子は、有機発光素子、面発光LED、高輝度発光素子、及びこれらの組合せから成るグループから選択される、請求項1記載の発光素子。
- パターンは、理想格子定数及びゼロよりも大きい値を有する微調整パラメータを有する、請求項1記載の発光素子。
- パターンは光発生領域の中まで延在することがない、請求項1記載の発光素子。
- パターンは第1層を超えて延在することがない、請求項1記載の発光素子。
- パターンは、第1層を超えて延在する、請求項1記載の発光素子。
- 更に、反射材料層を備え、この反射材料層は、光発生領域が生成する光の少なくとも約50%の光であって、反射材料層に衝突する光を反射する機能を有し、
光発生領域は、反射材料層と第1層との間に位置する、請求項1記載の発光素子。 - 更に、反射材料層を備え、この反射材料層は、光発生領域が生成する光の少なくとも約50%の光であって、反射材料層に衝突する光を反射する機能を有し、光発生領域は反射材料層と第1層との間に位置する、請求項1記載の発光素子。
- パターンは、非周期パターンまたは複素周期パターンである、請求項1記載の発光素子。
- 複数の発光素子を備えるウェハであって、これらの発光素子の内の少なくとも幾つかの発光素子は、
複数の材料から成り、かつ光発生領域と、光発生領域によって支持される第1層と、を含む多層積層体を備え、第1層の表面は、光発生領域が生成する光を、発光素子から第1層の表面を通して放出することができるように構成され、第1層の表面は、パターンに従って空間的に変化する誘電関数を有し、パターンは、光発生領域によって生成され、かつ発光素子から第1層の表面を通して放出される光がランバート分布を示す光よりも平行度が高くなるように構成され、
ウェハは1平方センチメートル当たり少なくとも約5個の発光素子を含む、ウェハ。 - ウェハは1平方センチメートル当たり少なくとも約25個の発光素子を含む、請求項25記載のウェハ。
- ウェハは1平方センチメートル当たり少なくとも約50個の発光素子を含む、請求項25記載のウェハ。
- λが光発生領域が生成することができ、かつ発光素子から第1層の表面を通して放出することができる光の波長である場合、第1層の表面は約λ/5未満のサイズの形状を有する、請求項1記載の発光素子。
- λが光発生領域が生成することができ、かつ発光素子から第1層の表面を通して放出することができる光の波長である場合、第1層の表面は約λ/5未満のサイズの形状を有する、請求項25記載のウェハ。
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