JP2006352078A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】半導体素子の製造開始時の厚さよりも薄くされた薄化ウエハ3、または薄化ウエハ3が支持ウエハに貼り合わされた状態の貼り合わせ体の外周端部2の一部を樹脂溶液6の中に所定の深さだけ浸漬させ、その状態で薄化ウエハ3または貼り合わせ体を回転させて外周端部2の全部に樹脂溶液6を付着させながら、その付着した樹脂溶液6を硬化させる。
【選択図】図1
Description
する樹脂で容易に被覆することができる。従って、薬液を用いた処理の際に、薄化ウエハの外周端部を保護することができる。
沿った部分を保護することができる。
ことを特徴とする。請求項10の発明によれば、貼り合わせ体の両面の外周端部に沿った部分に付着させる樹脂の幅を容易に調節することができる。
や浸透を防ぐことができる。従って、歩留まりよくデバイス厚の薄い半導体装置を製造することができるという効果を奏する。
図1は、本発明にかかる半導体装置の製造方法の一例を説明するための概略図であり、図2は、樹脂溶液を塗布するための装置の一例を示す斜視図である。図1および図2に示すように、薄化ウエハ3の中心に吸盤等11により回転軸体12を固定し、その回転軸体12をスタンド13により支持する。そして、薄化ウエハ3の外周端部2の一部を樹脂溶液6の中に浸漬させ、その状態で回転軸体12とともに薄化ウエハ3を一回転させ、薄化ウエハ3の外周端部2の全部に樹脂溶液6を付着させる。
状態でそれ以降の処理を行うことによって、薄化ウエハ3の欠けや割れを防ぐことができる。また、樹脂8の付着によって、薄化ウエハ3の反りが矯正される。さらに、金属製のキャリア等を用いる必要がないので、金属パーティクルの発生が原因で半導体装置の良品率が低下するのを防ぐことができる。また、金属製のキャリア等や高精度の搬送ロボットを用いる必要がないので、コストの増大を防ぐことができる。
図6および図7は、本発明にかかる半導体装置の製造方法において樹脂溶液を塗布する際に用いられる装置の他の例を示す図である。図6および図7に示すように、実施の形態2は、複数、図示例では2本の平行に配置された回転軸体31,32で複数枚の薄化ウエハ3を、樹脂溶液6の液面7に対して垂直に起立させた状態で支持し、各薄化ウエハ3の外周端部2の一部を樹脂溶液6の中に浸漬させ、その状態で回転軸体31,32とともに各薄化ウエハ3を一回転させることによって、複数の薄化ウエハ3の外周端部2に樹脂溶液6を同時に付着させるようにしたものである。従って、実施の形態2ではスループットが向上する。
るのを防ぐことができるので、厚さ等にむらのない樹脂膜で薄化ウエハ3の外周端部2(オリエンテーションフラット部を含む)を被覆することができる。また、オリエンテーションフラット部に付着させる樹脂8の幅と円弧部分に付着させる樹脂8の幅を変えることができるので、オリエンテーションフラット部に刻印されているロット番号などを樹脂8で被覆することができる。
つぎに、実施の形態3にかかる半導体装置の製造方法について説明する。図12および図13は、実施の形態3にかかる半導体装置の製造方法について示す説明図である。具体的には、図12は俯瞰図であり、図13は断面図である。実施の形態3では、フィルム状の樹脂(以下、「フィルム樹脂」という)を1枚用いて貼り合わせ体の隙間を塞ぐ例について説明する。以下では、薄化ウエハ3の側面と、支持ウエハ4の側面と、外周端部における当該薄化ウエハと支持ウエハとの隙間43と、を総称して貼り合わせ体9の外周側面と称する。
つぎに、実施の形態4にかかる半導体装置の製造方法について説明する。図14および図15は、実施の形態4にかかる半導体装置の製造方法について示す説明図である。具体的には、図14は俯瞰図であり、図15は断面図である。
3 薄化ウエハ
4 支持ウエハ
6 樹脂溶液
7 樹脂溶液の表面
8 樹脂
9 貼り合わせ体
14 容器
41、45a、45b フィルム樹脂
Claims (17)
- 半導体素子の製造開始時の厚さよりも薄くされた半導体ウエハの外周端部の一部を樹脂溶液に接触させ、その状態で前記半導体ウエハを回転させて該外周端部の全部に前記樹脂溶液を付着させながら、その付着した樹脂溶液を硬化させて、同外周端部を、所定の処理溶液に対する耐性を有する樹脂で被覆する樹脂付着工程と、
前記外周端部を前記樹脂で被覆した状態のまま前記半導体ウエハを前記処理溶液に接触させて、前記半導体ウエハに半導体素子の構造部を形成する素子形成工程と、
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 半導体素子の製造開始時の厚さよりも薄くされた半導体ウエハの外周端部の一部を樹脂溶液に接触させ、その状態で前記半導体ウエハを回転させて該外周端部の全部に前記樹脂溶液を付着させながら、その付着した樹脂溶液を硬化させて、同外周端部を、摩擦係数の低い潤滑性樹脂で被覆する樹脂付着工程と、
前記外周端部を前記樹脂で被覆した状態のまま前記半導体ウエハに半導体素子の構造部を形成する素子形成工程と、
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 半導体素子の製造開始時の厚さよりも薄い半導体ウエハと支持ウエハが貼り合わされた貼り合わせ体の外周端部の一部を樹脂溶液に接触させ、その状態で前記貼り合わせ体を回転させて該外周端部の全部に前記樹脂溶液を付着させながら、その付着した樹脂溶液を硬化させて、同外周端部における前記半導体ウエハと前記支持ウエハの間の隙間を、所定の処理溶液に対する耐性を有する樹脂で塞ぐ樹脂付着工程と、
前記隙間を前記樹脂で塞いだ状態のまま前記半導体ウエハを前記処理溶液に接触させて、前記半導体ウエハに半導体素子の構造部を形成する素子形成工程と、
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 半導体素子の製造開始時の厚さよりも薄い半導体ウエハと支持ウエハが貼り合わされた貼り合わせ体の外周端部の一部を樹脂溶液に接触させ、その状態で前記貼り合わせ体を回転させて該外周端部の全部に前記樹脂溶液を付着させながら、その付着した樹脂溶液を硬化させて、同外周端部における前記半導体ウエハと前記支持ウエハの間の隙間を、摩擦係数の低い潤滑性樹脂で塞ぐ樹脂付着工程と、
前記隙間を前記樹脂で塞いだ状態のまま前記半導体ウエハに半導体素子の構造部を形成する素子形成工程と、
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 半導体素子の製造開始時の厚さよりも薄くされた半導体ウエハの外周端部の一部を樹脂溶液中に浸漬させ、その状態で前記半導体ウエハを回転させて該外周端部の全部に前記樹脂溶液を付着させながら、その付着した樹脂溶液を硬化させて、同外周端部を、所定の処理溶液に対する耐性を有する樹脂で被覆する樹脂付着工程と、
前記外周端部を前記樹脂で被覆した状態のまま前記半導体ウエハを前記処理溶液に接触させて、前記半導体ウエハに半導体素子の構造部を形成する素子形成工程と、
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 半導体素子の製造開始時の厚さよりも薄くされた半導体ウエハの外周端部の一部を樹脂溶液中に浸漬させ、その状態で前記半導体ウエハを回転させて該外周端部の全部に前記樹脂溶液を付着させながら、その付着した樹脂溶液を硬化させて、同外周端部を、摩擦係数の低い潤滑性樹脂で被覆する樹脂付着工程と、
前記外周端部を前記樹脂で被覆した状態のまま前記半導体ウエハに半導体素子の構造部を形成する素子形成工程と、
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 半導体素子の製造開始時の厚さよりも薄い半導体ウエハと支持ウエハが貼り合わされた貼り合わせ体の外周端部の一部を樹脂溶液中に浸漬させ、その状態で前記貼り合わせ体を回転させて該外周端部の全部に前記樹脂溶液を付着させながら、その付着した樹脂溶液を硬化させて、同外周端部における前記半導体ウエハと前記支持ウエハの間の隙間を、所定の処理溶液に対する耐性を有する樹脂で塞ぐ樹脂付着工程と、
前記隙間を前記樹脂で塞いだ状態のまま前記半導体ウエハを前記処理溶液に接触させて、前記半導体ウエハに半導体素子の構造部を形成する素子形成工程と、
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 半導体素子の製造開始時の厚さよりも薄い半導体ウエハと支持ウエハが貼り合わされた貼り合わせ体の外周端部の一部を樹脂溶液中に浸漬させ、その状態で前記貼り合わせ体を回転させて該外周端部の全部に前記樹脂溶液を付着させながら、その付着した樹脂溶液を硬化させて、同外周端部における前記半導体ウエハと前記支持ウエハの間の隙間を、摩擦係数の低い潤滑性樹脂で塞ぐ樹脂付着工程と、
前記隙間を前記樹脂で塞いだ状態のまま前記半導体ウエハに半導体素子の構造部を形成する素子形成工程と、
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記樹脂付着工程では、前記樹脂溶液を貯留する容器の底から前記樹脂溶液の表面までの高さを調節し、前記外周端部を前記容器の底に接触させながら前記半導体ウエハを回転させることによって、前記樹脂溶液中に浸漬される前記外周端部の深さを制御することを特徴とする請求項5または6に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記樹脂付着工程では、前記樹脂溶液を貯留する容器の底から前記樹脂溶液の表面までの高さを調節し、前記外周端部を前記容器の底に接触させながら前記貼り合わせ体を回転させることによって、前記樹脂溶液中に浸漬される前記外周端部の深さを制御することを特徴とする請求項7または8に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記樹脂溶液を貯留する容器の底から前記樹脂溶液の表面までの高さを10mmまでとし、前記樹脂溶液中に前記外周端部を10mmまでの深さで浸漬させることを特徴とする請求項9または10に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記樹脂付着工程では、前記半導体ウエハの表面に付着した樹脂溶液の表面を凹凸状にした後に該樹脂溶液を硬化させることを特徴とする請求項5〜11のいずれか一つに記載の半導体装置の製造方法。
- 前記樹脂付着工程では、複数枚の半導体ウエハを、容器中に貯留された前記樹脂溶液の液面に対して起立させて並べた状態で同時に回転させることにより、複数枚の半導体ウエハに対して樹脂溶液付着処理を同時に行うことを特徴とする請求項1〜12のいずれか一つに記載の半導体装置の製造方法。
- 前記樹脂付着工程では、複数枚の半導体ウエハの外周端部のうち、まずオリエンテーションフラット部に前記樹脂溶液を付着させて硬化させた後、オリエンテーションフラット部を除く円弧部分に前記樹脂溶液を付着させて硬化させることを特徴とする請求項13に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記樹脂溶液は、樹脂バインダーにフッ素系樹脂の微粒子を分散させた溶液であることを特徴とする請求項1〜14のいずれか一つに記載の半導体装置の製造方法。
- 半導体素子の製造開始時の厚さよりも薄くされた半導体ウエハの外周端部に、所定の処理溶液に対する耐性を有するフィルム状の樹脂を貼り付けて前記外周端部を被覆するフィルム貼付工程と、
前記外周端部を前記フィルム状の樹脂で被覆した状態のまま前記半導体ウエハを前記処理溶液に接触させて、前記半導体ウエハに半導体素子の構造部を形成する素子形成工程と、
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 半導体素子の製造開始時の厚さよりも薄い半導体ウエハと支持ウエハが貼り合わされた貼り合わせ体の外周端部における前記半導体ウエハと前記支持ウエハの間の隙間に、所定の処理溶液に対する耐性を有するフィルム状の樹脂を貼り付けて前記隙間を塞ぐフィルム貼付工程と、
前記隙間を前記フィルム状の樹脂で塞いだ状態のまま前記半導体ウエハを前記処理溶液に接触させて、前記半導体ウエハに半導体素子の構造部を形成する素子形成工程と、
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
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