JP2006339181A - ウエハ保持治具 - Google Patents

ウエハ保持治具 Download PDF

Info

Publication number
JP2006339181A
JP2006339181A JP2005158355A JP2005158355A JP2006339181A JP 2006339181 A JP2006339181 A JP 2006339181A JP 2005158355 A JP2005158355 A JP 2005158355A JP 2005158355 A JP2005158355 A JP 2005158355A JP 2006339181 A JP2006339181 A JP 2006339181A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
semiconductor wafer
holding jig
guide
guide portion
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2005158355A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4658692B2 (ja
Inventor
Kensaku Fujita
研作 藤田
Naoyuki Matsuo
直之 松尾
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Electronics Corp
Original Assignee
NEC Electronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Electronics Corp filed Critical NEC Electronics Corp
Priority to JP2005158355A priority Critical patent/JP4658692B2/ja
Publication of JP2006339181A publication Critical patent/JP2006339181A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4658692B2 publication Critical patent/JP4658692B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

【課題】ウエハ押え蓋を半導体ウエハ上に載せるときに、ウエハ押え蓋の先端部が半導体ウエハ上を擦り、この部分に傷が発生しやすい。
【解決手段】リング状のフランジ部4およびこのフランジ部4の内側に形成された半導体ウエハ載置用の段部5を有するウエハホルダ2と、このウエハホルダ2に載置された半導体ウエハWを押さえるウエハ押え蓋3とを備えたウエハ保持治具であって、 前記フランジ部4の内側面には、半導体ウエハWの外周面の一部をガイドするガイド部4aを有し、前記フランジ部4には、前記ガイド部4a付近においてその厚みを他の部分より厚くした肉厚部9が形成されている。
【選択図】図2

Description

本発明は、半導体ウエハを保持するウエハ保持治具に関する。
図4および図5は、従来のウエハ保持治具を示している(特許文献1参照)。このウエハ保持治具1は、半導体ウエハWを載せるウエハホルダ2と、載せられた半導体ウエハWを押さえるウエハ押え蓋3とで構成されている。図5に示すように、ウエハホルダ2は、周囲にリング状のフランジ部4が形成され、その下部内側に半導体ウエハWを載せる段部5が形成されたリング状のものである。フランジ部4および段部5の内側の開口部は完全な円形ではなく、開口部の一部が半導体ウエハWのオリエンテーションフラットOFに合わせた
平面直線のフラット形状のガイド部4aとなっており、かつ半導体ウエハWを載せる段部5の内側面はフラット部5aとなっている。
上記ウエハ保持治具1に半導体ウエハWをセットするには、半導体ウエハWを、ウエハホルダ2の上方から段部5に載置した後、取手6を摘んでウエハ押え蓋3を半導体ウエハWの上にセットする。このとき、先ず、ウエハ押え蓋3のフラット部3aと、ウエハホルダ2のガイド部4aとを合わせ、次に、ガイド部4aと反対側の部分でウエハ押え蓋3を下降させ、半導体ウエハW上に載せる。
ウエハ保持治具を成膜装置に利用する場合は、ウエハを収納したウエハ保持治具を蒸着装置に取り付け、規定の手順に従って装置条件、プロセス条件をセットし、ウエハ押え蓋3側とは反対側の面(ウエハ裏面)への成膜プロセスを開始する。
特開2002−280441号公報
上述のように、ウエハ押え蓋3を半導体ウエハWの上にセットする際、ウエハ押え蓋3のフラット部3aとウエハホルダ2のガイド部4aとを合わせて、ガイド部4aと反対側の部分でウエハ押え蓋3を下降させて半導体ウエハW上に載せるが、従来のものは、ガイド部4aの高さが低いため、ガイドとしての機能が充分働かず、ウエハ押え蓋3の下面周囲に形成されている凸縁部10の先端部が半導体ウエハW上に当った状態で、ここを支点としてウエハ押え蓋3を下方に回動させることになる。このため、凸縁部10の先端部が半導体ウエハW上を擦り、この部分8に傷が発生しやすいという問題があった。
本発明によれば、
リング状のフランジ部およびこのフランジ部の内側下部に形成された半導体ウエハ載置用の段部を有するウエハホルダと、前記段部に載置された半導体ウエハを押さえるウエハ押え蓋とを備えたウエハ保持治具であって、
前記フランジ部の内側面には、半導体ウエハの外周面の一部をガイドするガイド部を有し、
前記フランジ部には、前記ガイド部付近においてその厚みを他の部分より厚くした肉厚部が形成されていることを特徴とするウエハ保持治具が提供される。
本発明のウエハ保持治具においては、ウエハ押え蓋を半導体ウエハ上に載せるときに、ウエハ押え蓋の外周面の一部をガイド部に押し当てた状態で、ここを支点としてウエハ押え蓋を下方に回動させるとともに、ガイド部でウエハ押え蓋をガイドさせながら緩やかに下降させることができ、これにより、ウエハ押え蓋の先端部が半導体ウエハに急激に当ったり擦ったりすることが防止される。
ウエハ押え蓋の先端で半導体ウエハを擦ることがなくなるため、ウエハ押え蓋で半導体ウエハに傷を付けることが防止される。
以下、本発明の実施形態について、図面を用いて説明する。なお、図3および図4に示した符号と同一構成または同一機能のものは同一の符号を付している。
図1は、ウエハ保持治具の第1の実施形態を示す平面図、図2(a)は図1のII−II線断面図、図2(b)はウエハ押え蓋を閉じる操作を示す断面図である。
ウエハ保持治具1は、半導体ウエハWを載せるウエハホルダ2と、載せられた半導体ウエハWを押さえるウエハ押え蓋3とで構成されている。図2に示すように、ウエハホルダ2は、周囲にリング状のフランジ部4と、半導体ウエハWを載せる段部5が下部内側に形成されたリング状のもので、フランジ部4の内面の一部が半導体ウエハWのオリエンテーションフラットOFに合わせた平面直線状のフラットなガイド部4aとなっており、かつ半導体ウエハWを載せる部分となる段部5の内側面もこれと平行をなすフラット部5aとなっている。ウエハ押え蓋3にもガイド部4aと補形をなすフラット部3aが形成されている。
本発明においては、ウエハホルダ2のフランジ部4に、ガイド部4a付近において、若干ガイド部4aより広い範囲で他の部分よりフランジの厚みを厚くした肉厚部9を形成している。肉厚部9におけるフランジ部4の側面が、ガイド部4aを構成する。
図2(b)に示すように、ウエハ押え蓋3を半導体ウエハW上に載せるときに、ウエハ押え蓋3のフラット部3aを、ウエハホルダ2のフランジ部4のガイド部4aに合わせる。この際、ガイド部4aが肉厚部9で構成されているため、ウエハ押え蓋3のフラット部3aをガイド部4aに押し当てた状態(このとき凸縁部10の先端部が半導体ウエハWに触れないようにすることが可能)で、ここを支点として、ガイド部4aと反対側の部分でウエハ押え蓋3を下方に回動させるとともに、ウエハ押え蓋3をガイド部4aでガイドさせながら緩やかに下降させる。これにより、ウエハ押え蓋3の凸縁部10の先端部が半導体ウエハWに急激に当たることがなくなり、また、凸縁部10の先端部で半導体ウエハWを擦ることもなくなり、半導体ウエハWに傷をつけることが防止できる。
図3は、本発明のウエハ保持治具の第2の実施形態を示す平面図である。第1の実施形態では、半導体ウエハWにオリエンテーションフラットOFがある例を示しているが、図3に示すように、オリエンテーションフラットOFのない円形の半導体ウエハWにも適用可能である。このような円形の半導体ウエハの場合は、ウエハホルダ2のフランジ部4の内側も完全な円形であり、ガイド部4aもフランジ部4の円形の一部をなす円弧形状である。この構成の場合は、ガイド部4aとなる円弧の部分に肉厚部9を形成することにより、この肉厚部9がガイドの役割をはたし、同様の原理でウエハ押え蓋3を緩やかに半導体ウエハ上に載せることが可能となる。
本発明の第1の実施形態に係わるウエハ保持治具の平面図である。 (a)は図1のII−II線断面図、(b)はウエハ押え蓋を閉じる操作を示す断面図である。 本発明の第2の実施形態に係わるウエハ保持治具の平面図である。 従来のウエハ保持治具の平面図である。 (a)は図3のV−V線断面図、(b)はウエハ押え蓋を閉じる操作を示す断面図である。
符号の説明
1 ウエハ保持治具
2 ウエハホルダ
3 ウエハ押え蓋
3a フラット部
4 フランジ部
4a ガイド部
5 段部
5a フラット部
6取手
8 部分
9 肉厚部
10 凸縁部
W 半導体ウエハ

Claims (3)

  1. リング状のフランジ部およびこのフランジ部の内側下部に形成された半導体ウエハ載置用の段部を有するウエハホルダと、前記段部に載置された半導体ウエハを押さえるウエハ押え蓋とを備えたウエハ保持治具であって、
    前記フランジ部の内側面には、半導体ウエハの外周面の一部をガイドするガイド部を有し、
    前記フランジ部には、前記ガイド部付近においてその厚みを他の部分より厚くした肉厚部が形成されていることを特徴とするウエハ保持治具。
  2. 前記半導体ウエハは、一側端部にオリエンテーションフラットを有し、前記ガイド部は、前記オリエンテーションフラットに合わせた平面直線のフラット形状であることを特徴とする請求項1に記載のウエハ保持治具。
  3. 前記半導体ウエハは、オリエンテーションフラットを有しない円形状であり、前記ガイド部は、半導体ウエハの外周面に合わせた平面円弧形状であることを特徴とする請求項1に記載のウエハ保持治具。
JP2005158355A 2005-05-31 2005-05-31 ウエハ保持治具 Expired - Fee Related JP4658692B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005158355A JP4658692B2 (ja) 2005-05-31 2005-05-31 ウエハ保持治具

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005158355A JP4658692B2 (ja) 2005-05-31 2005-05-31 ウエハ保持治具

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006339181A true JP2006339181A (ja) 2006-12-14
JP4658692B2 JP4658692B2 (ja) 2011-03-23

Family

ID=37559525

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005158355A Expired - Fee Related JP4658692B2 (ja) 2005-05-31 2005-05-31 ウエハ保持治具

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4658692B2 (ja)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58175635U (ja) * 1982-05-18 1983-11-24 日本電気株式会社 ウエハホルダ−
JPS6251170U (ja) * 1985-09-19 1987-03-30
JPH0418655U (ja) * 1990-05-29 1992-02-17
JP2002280441A (ja) * 2001-03-16 2002-09-27 Nec Kyushu Ltd 成膜装置
JP2003133396A (ja) * 2001-10-22 2003-05-09 Toko Inc 固定具
JP2003138375A (ja) * 2001-10-31 2003-05-14 Toko Inc 半導体基板の取り付け構造

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58175635U (ja) * 1982-05-18 1983-11-24 日本電気株式会社 ウエハホルダ−
JPS6251170U (ja) * 1985-09-19 1987-03-30
JPH0418655U (ja) * 1990-05-29 1992-02-17
JP2002280441A (ja) * 2001-03-16 2002-09-27 Nec Kyushu Ltd 成膜装置
JP2003133396A (ja) * 2001-10-22 2003-05-09 Toko Inc 固定具
JP2003138375A (ja) * 2001-10-31 2003-05-14 Toko Inc 半導体基板の取り付け構造

Also Published As

Publication number Publication date
JP4658692B2 (ja) 2011-03-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5268142B2 (ja) マスクブランク収納ケース及びマスクブランクの収納方法、並びにマスクブランク収納体
JP2005350773A (ja) プラズマ処理中のアーク減少方法及び装置
US20070196960A1 (en) Semiconductor device and method of manufacturing the same
JPWO2009119348A1 (ja) レンズ保持具、レンズ保持方法およびレンズ処理方法
JPH08236605A (ja) 半導体ウェハ収納ケース
JP7143560B2 (ja) 基板収納容器
JP2006228802A (ja) ウエハ端面保護装置
JP6247557B2 (ja) 基板めっき治具
JP2016080856A (ja) 弾性シール部材の取付治具
JP2006339181A (ja) ウエハ保持治具
TW201103100A (en) Workholding fixture for holding semiconductor substrates
JP2014074192A (ja) 半導体ウェーハのメッキ用サポート治具
JP2005259457A (ja) 電子機器におけるカバーのロック機構
JP2005282583A (ja) 軸用止め輪
JP2010046783A (ja) クランプ用治具
JP2000353419A (ja) グローブ取付装置
JP2005203768A (ja) 薄板支持容器用蓋体及び蓋体の取り付け方法
JP2006203031A (ja) ウエハ端面保護装置
JP2009170591A (ja) 基板収納容器及びそのシールガスケットの取り付け方法
JP2019087706A (ja) ウエハ容器
JP7503170B2 (ja) 挟持具組立品
JP7293980B2 (ja) 溶接トーチの吸引ユニット
JP3601926B2 (ja) 半導体製造装置
JP2008075180A (ja) 基板ホルダ組立て装置
KR20060018338A (ko) 웨이퍼 고정용 정전척

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080417

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100216

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20101026

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20101130

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20101221

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20101224

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140107

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees